專利名稱：空間相移裝置及應(yīng)用該裝置的干涉測(cè)量裝置、相位校正裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種空間相移裝置。本發(fā)明還同時(shí)提供一種相位校正裝置、應(yīng)用該空間相移裝置的干涉測(cè)量裝置。
背景技術(shù)：
干涉儀在光學(xué)元件面形檢測(cè)方面有著重要的應(yīng)用價(jià)值。就干涉測(cè)量方法而言，可分為時(shí)域相移法、傅里葉分析法和空間載波相移法。時(shí)域相移法測(cè)量精度高，在光學(xué)檢測(cè)中應(yīng)用廣泛，但它至少需要三幅干涉圖，受環(huán)境振動(dòng)影響大，所以不適合動(dòng)態(tài)環(huán)境下測(cè)量。傅里葉分析法只需要一幅空間載波干涉圖，所以適合動(dòng)態(tài)環(huán)境下測(cè)量，但傅里葉分析法測(cè)量精度相對(duì)較低且不能判斷被測(cè)相位的正負(fù)?？臻g載波相移法結(jié)合了時(shí)域相移法和傅里葉分析法的優(yōu)點(diǎn)，通過(guò)處理單幅空間載波干涉圖近似達(dá)到時(shí)域相移法的精度，所以空間載波相移法在動(dòng)態(tài)高精度干涉測(cè)量方面有著重要的應(yīng)用前景。目前實(shí)現(xiàn)空間載波相移的方法主要有兩種一種是通過(guò)傾斜參考鏡引入一個(gè)適當(dāng)?shù)目臻g載頻量，使相鄰像素點(diǎn)間的位相差為η /2，但是實(shí)際測(cè)量時(shí)很難調(diào)整參考鏡使空間載頻嚴(yán)格等于理論值。另一種是利用偏振分光器件在同一個(gè)CCD上得到四幅相移π/2的干涉圖，在公開(kāi)號(hào)為CN101111739A的中國(guó)專利文獻(xiàn)中即公開(kāi)了該裝置，該專利文獻(xiàn)中，設(shè)置菲索干涉儀的參考鏡和測(cè)試鏡，使他們具有不同的斜率，從而分離測(cè)試光T和參考光R， 然后使測(cè)試光和參考光經(jīng)過(guò)不同的偏振光學(xué)元件，在測(cè)試光和參考光之間引入空間載波相移，最后實(shí)現(xiàn)了在同一個(gè)C⑶上得到四幅相移π/2的干涉圖。上述介紹的裝置能夠?qū)崿F(xiàn)動(dòng)態(tài)干涉測(cè)量，但是由于參考光和測(cè)試光的夾角較大，他們屬于非共路系統(tǒng)，容易引進(jìn)較大的系統(tǒng)誤差。為此，在專利號(hào)為US7230717B2美國(guó)中，公開(kāi)了一種共光路的動(dòng)態(tài)干涉儀系統(tǒng)， 該美國(guó)專利中參考光和測(cè)試光的夾角接近為零，但兩者的偏振態(tài)是正交的，通過(guò)在CCD前加一個(gè)偏振相位掩模板，偏振相位掩模板的像素分布與CCD的像素分布一致。偏振相位掩模板使參考光和測(cè)試光在CCD上每個(gè)像素內(nèi)引入一個(gè)特定的相位差，從而獲得了空間載波相移分布。上述偏振相位掩模板雖然可以引入空間載波相移，但是它的加工比較困難，容易產(chǎn)生加工誤差，而且不易校正加工誤差，而加工誤差將直接影響干涉測(cè)量的精度，因此上述美國(guó)專利US7230717B2介紹的偏振相位掩模板的精度有待進(jìn)一步提高；此外，一個(gè)加工好的偏振相位掩模板只能產(chǎn)生特定的空間載波相移分布，不能進(jìn)行人為的修改，應(yīng)用不免受到限制。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種干涉測(cè)量裝置，本發(fā)明的干涉測(cè)量裝置不但可以實(shí)現(xiàn)多個(gè)空間載波相移分布時(shí)的測(cè)量，而且還可以實(shí)現(xiàn)誤差校正，提高測(cè)量精度。本發(fā)明還同時(shí)提供一種空間相移裝置以及液晶空間光調(diào)制器相位校正裝置。
本發(fā)明提供的一種干涉測(cè)量裝置，包括，用以產(chǎn)生偏振狀態(tài)相互正交線偏振光的裝置，該相互正交線偏振光分別稱為參考光和測(cè)試光；相位調(diào)制式空間光調(diào)制器，設(shè)置于參考光或測(cè)試光的光路中，用以改變光波前的空間相位分布；該空間光調(diào)制器具有復(fù)數(shù)個(gè)像素，每一像素具備特定的相位分布；其中，經(jīng)所述空間光調(diào)制器相位調(diào)制后的光稱為調(diào)制光，未經(jīng)調(diào)制的光稱為未調(diào)制光；基于所述調(diào)制光和未調(diào)制光實(shí)現(xiàn)干涉測(cè)量的干涉儀；對(duì)干涉儀產(chǎn)生的相干光探測(cè)的光探測(cè)裝置，該光探測(cè)裝置具備與所述空間光調(diào)制器相同的像素分布；且二者像素相對(duì)應(yīng)?？蛇x的，所述空間光調(diào)制器為反射式液晶空間光調(diào)制器?？蛇x的，所述產(chǎn)生偏振狀態(tài)相互正交線偏振光的裝置包括共軸設(shè)置的線偏振光起偏器和偏振分光棱鏡。可選的，所述產(chǎn)生偏振狀態(tài)相互正交線偏振光的裝置還進(jìn)一步包括使偏振分光鏡后的正交線偏振光產(chǎn)生相位延遲的結(jié)構(gòu)?？蛇x的，液晶空間光調(diào)制器至少包括一組2X2分布的像素單元，且所述像素單元中每一像素具有不同的相位?？蛇x的，所述每一像素單元中相位分布分別為0、π /2、π和3 π /2。可選的，所述干涉儀為菲索干涉儀?？蛇x的，還包括相干光源。本發(fā)明還提供一種空間相移裝置，包括沿準(zhǔn)直光束照射方向依次設(shè)置的偏振器件和液晶空間光調(diào)制器，還包括用于對(duì)所述液晶空間光調(diào)制器相位調(diào)制的控制裝置。本發(fā)明還提供一種液晶空間光調(diào)制器相位校正裝置，包括沿光軸依次設(shè)置的干涉儀、參考鏡、偏振片和液晶空間光調(diào)制器。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的基于液晶空間光調(diào)制器干涉測(cè)量裝置，參考光和測(cè)試光的夾角接近為零，因此干涉儀系統(tǒng)像差引起的參考光和測(cè)試光之間的光程差的誤差較小，即系統(tǒng)誤差較??；同時(shí)本實(shí)施例采用液晶空間光調(diào)制器實(shí)現(xiàn)空間載波相移，通過(guò)控制輸入信號(hào)在液晶空間光調(diào)制器上每個(gè)像素對(duì)應(yīng)的灰度，可以得到設(shè)計(jì)所需的空間載波相移分布，同時(shí)它還可以人為地設(shè)計(jì)輸入信號(hào)的灰度修改空間載波相移的分布；本發(fā)明可實(shí)現(xiàn)采集一幀空間載波相移干涉條紋，從中可以提取多幀幀具有特定相移的子干涉圖；而且，本發(fā)明提供的干涉測(cè)量裝置，可以通過(guò)計(jì)算機(jī)控制得到任意的空間載波相移分布，從而具有更廣泛的應(yīng)用價(jià)值；本發(fā)明的干涉測(cè)量裝置還可以實(shí)現(xiàn)誤差校正，因此可實(shí)現(xiàn)高精度動(dòng)態(tài)測(cè)量。


圖1為本發(fā)明的干涉測(cè)量裝置的實(shí)施例的示意圖；圖2為施加到液晶空間光調(diào)制器的周期信號(hào)灰度分布的示意圖；圖3為液晶空間光調(diào)制器引入的的空間載波相移分布；圖4為本發(fā)明的干涉測(cè)量裝置的實(shí)施例產(chǎn)生的干涉圖；圖5為從圖4中提取的四幀具有特定相移的子干涉圖6為本發(fā)明的空間相移裝置的實(shí)施例的示意圖；圖7為本發(fā)明的液晶空間光調(diào)制器相位校正裝置的實(shí)施例的示意圖。
具體實(shí)施例方式在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是本發(fā)明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來(lái)實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類(lèi)似推廣，因此本發(fā)明不受下面公開(kāi)的具體實(shí)施的限制。圖1為本發(fā)明的干涉測(cè)量裝置的實(shí)施例的示意圖。請(qǐng)參看圖1，本實(shí)施例中，干涉測(cè)量裝置中包括正交偏振光源、相位調(diào)制式空間光調(diào)制器、干涉儀以及光探測(cè)裝置。其中，所述正交偏振光源用于產(chǎn)生偏振狀態(tài)相互正交的線偏振光，該相互正交的線偏振光分別稱為參考光和測(cè)試光，本實(shí)施例中該正交偏振光源包括短相干光源、線偏振光起偏器以及線偏振光分束器。空間光調(diào)制器設(shè)置于上述的參考光或者測(cè)試光的光路中，以實(shí)現(xiàn)對(duì)參考光或者測(cè)試光的相位調(diào)制，改變光波前的空間相位分布。該空間光調(diào)制器具有復(fù)數(shù)個(gè)像素，每一像素具備特定的相位分布；其中，經(jīng)所述空間光調(diào)制器相位調(diào)制后的光稱為調(diào)制光，未經(jīng)調(diào)制的光稱為未調(diào)制光；本實(shí)施例中的干涉儀為動(dòng)態(tài)索菲干涉儀，其中，所述調(diào)制光和未調(diào)制光構(gòu)成索菲干涉儀的測(cè)試光和參考光，索菲干涉儀基于所述調(diào)制光和未調(diào)制光實(shí)現(xiàn)干涉測(cè)量。當(dāng)然，所述干涉儀還可以為其它動(dòng)態(tài)干涉儀。所述光探測(cè)裝置設(shè)置于索菲干涉儀的干涉圖像面位置，用于對(duì)干涉圖進(jìn)行探測(cè)。 其中，該光探測(cè)裝置具備與所述空間光調(diào)制器相同的像素分布；且二者像素相對(duì)應(yīng)。本實(shí)施例中，光探測(cè)裝置為CXD 17。下面進(jìn)行詳細(xì)進(jìn)行描述。如圖1所示，短相干光源1輸出的光束經(jīng)過(guò)作為起偏器的偏振片2之后得到線偏振光，線偏振光束經(jīng)過(guò)偏振分光棱鏡3后分成P光和S光，其中，P光沿線偏振光入射方向由偏振分光分光棱鏡3透射而出，S光經(jīng)偏振分光棱鏡分束面反射，沿垂直于線偏振光入射方向向下出射。在所述偏振分光棱鏡3的右后側(cè)和下側(cè)分別設(shè)置第一波片5和第二波片4。其中， 兩波片均為四分之一波片。P光經(jīng)過(guò)所述第一波片5之后被放置在該第一波片5之后的第一參考鏡7所反射，并再次經(jīng)過(guò)第一波片5后，P光偏振方向旋轉(zhuǎn)90度后進(jìn)入偏振分光棱鏡3，經(jīng)分束面反射后由偏振分光棱鏡3上面的出射，該光束定義為S2光束，S2光束的相位是一個(gè)平面。另一方面，S光經(jīng)過(guò)第二波片4和第一偏振片2 后，被設(shè)置于第一偏振片2 下側(cè)的空間光調(diào)制器23相位調(diào)制后反射，并再次通過(guò)第一偏振片2 和第二波片4，偏振方向旋轉(zhuǎn)90度后通過(guò)偏振分光棱鏡3，該光束定義為P2。本實(shí)施例中，空間光調(diào)制器23為反射式液晶空間光調(diào)制器，該液晶空間光調(diào)制器 23具備復(fù)數(shù)個(gè)像素。所述的液晶空間光調(diào)制器23與計(jì)算機(jī)24連接，在相位調(diào)制模式下，計(jì)算機(jī)M通過(guò)液晶空間光調(diào)制器的驅(qū)動(dòng)電路輸入一定的灰度信號(hào)，可使得液晶空間光調(diào)制器的像素產(chǎn)生一定的相位變化。根據(jù)液晶空間光調(diào)制器的相位調(diào)制特定可知，輸入信號(hào)的灰度與相位調(diào)制的大小成正比，對(duì)不同的像素輸入不同的灰度信號(hào)，可使得不同的像素產(chǎn)生不同的相位變化，從而可通過(guò)計(jì)算機(jī)控制液晶空間光調(diào)制器的相位分布。本實(shí)施例中，液晶空間光調(diào)制器23共有10 X 768個(gè)像素，通過(guò)在計(jì)算機(jī)上施加與所述液晶空間光調(diào)制器23像素分布相同的、且為周期性的灰度分布信號(hào)，如圖2所示 (圖2示出的為其中16個(gè)像素的信號(hào)灰度分布)，可在液晶空間光調(diào)制器23上產(chǎn)生周期性的相位分布。在本實(shí)施例中，以相鄰2X2個(gè)像素為一個(gè)周期，稱為像素單元。在一個(gè)周期中，像素的相位分布分別為0，π/2，π和3π/2。當(dāng)光束經(jīng)液晶空間光調(diào)制器23反射后，再經(jīng)過(guò)第一偏振片22a，其光束被調(diào)制后的相位分布將如圖3所示，其也是周期分布。當(dāng)然，還可以通過(guò)改變計(jì)算機(jī)信號(hào)的灰度分布，得到其它的相位分布，例如，可以使得相鄰2X2個(gè)像素的相位分布分別為0，π/2，3 π/2和31，或者0，π/3，2 π/3，和π?？梢?jiàn)，通過(guò)計(jì)算機(jī)M向液晶空間光調(diào)制器23輸入如圖2所示的周期信號(hào)，則得到光束Ρ2的相位如圖3所示。光束S2和Ρ2經(jīng)過(guò)聚焦透鏡9，被分光棱鏡10反射，然后經(jīng)準(zhǔn)直鏡11準(zhǔn)直，光束S2被索菲干涉儀中設(shè)置的第二參考鏡12和第二測(cè)試鏡13反射后的光束分別定義為SR和ST，光束Ρ2被第二參考鏡12和第二測(cè)試鏡13反射后的光束分別定義為PR禾口 PT0本實(shí)施例中，第二參考鏡12和第二測(cè)試鏡13反射光間的光程差為2 Δ L，，通過(guò)一維平移臺(tái)8調(diào)節(jié)第一參考鏡7的位置，使Ρ2和S2的光程差也為2 Δ L，則SR和ST的光程差為2 Δ L，I3R和PT的光程差為2 Δ L，SR和I3R的光程差為2 Δ L，ST和PT的光程差為2 Δ L， PT和SR的光程差為0，只有ST和ra的光程差為4 Δ L，因?yàn)楣庠词嵌滔喔砷L(zhǎng)度光源，其相干長(zhǎng)度遠(yuǎn)小于2 Δ L，因此只有光束PT和光束SR才有可能干涉。光束PT和光束SR透過(guò)分光棱鏡10，再經(jīng)成像透鏡15和第二偏振片22b，最后在 CXD 17((XD 17具有與液晶空間光調(diào)制器23相同的像素?cái)?shù)和分布，設(shè)置于干涉測(cè)量裝置時(shí)，二者像素相對(duì)應(yīng)。)，和上得到空間載波相移干涉條紋，如圖4所示，該干涉圖中包含被測(cè)光學(xué)元件-第二測(cè)試鏡13的面形誤差，同時(shí)它還包含液晶空間光調(diào)制器23引進(jìn)的空間載波相移分布信息。因?yàn)榭臻g載波相移分布是預(yù)先設(shè)計(jì)并有計(jì)算機(jī)控制的，所以空間載波相移分布是已知的，如圖3所示。在空間載波相移干涉條紋中，把空間載波相移值為0對(duì)應(yīng)的所有像素組成第一幅子干涉圖，將把空間載波相移值為η/2，π和3π/2對(duì)應(yīng)的所有像素分別組成第二、第三和第四子干涉圖，如圖5所示，利用傳統(tǒng)的四步相移算法就能從這四幅子干涉圖中提取被測(cè)光學(xué)元件(第二測(cè)試鏡13)的誤差分布。本發(fā)明的實(shí)施例提供的基于液晶空間光調(diào)制器干涉測(cè)量裝置，參考光和測(cè)試光的夾角接近為零，因此干涉儀系統(tǒng)像差引起的參考光和測(cè)試光之間的光程差的誤差較小， 即系統(tǒng)誤差較??；同時(shí)本實(shí)施例采用液晶空間光調(diào)制器實(shí)現(xiàn)空間載波相移，通過(guò)控制輸入信號(hào)在液晶空間光調(diào)制器上每個(gè)像素的灰度，可以得到設(shè)計(jì)所需的空間載波相移分布，同時(shí)它還可以人為地設(shè)計(jì)輸入信號(hào)的灰度修改空間載波相移的分布；因此，本實(shí)施例可實(shí)現(xiàn) CCD采集一幀空間載波相移干涉條紋，我們從中可以提取四幀相移π/2的子干涉圖，因此本實(shí)施例提供的干涉儀也可以在動(dòng)態(tài)環(huán)境下測(cè)量。而且，本發(fā)明提供的干涉測(cè)量裝置，可以通過(guò)計(jì)算機(jī)控制得到任意的空間載波相移分布，從而具有更廣泛的應(yīng)用價(jià)值。此外，本發(fā)明還提供一種空間相移裝置，如圖6所示，該相移裝置包括沿準(zhǔn)直光束照射方向依次設(shè)置的偏振器件22和液晶空間光調(diào)制器23，還包括用于對(duì)所述液晶空間光
6調(diào)制器相位調(diào)制的控制裝置24。本實(shí)施例中，所述控制裝置M為計(jì)算機(jī)以及液晶空間光調(diào)制器控制電路。此外所述液晶空間光調(diào)制器23為反射式。通過(guò)控制輸入信號(hào)在液晶空間光調(diào)制器23上每個(gè)像素的灰度，可以得到設(shè)計(jì)所需的空間載波相移分布。其中，輸入信號(hào)、液晶空間光調(diào)制器和CCD的像素個(gè)數(shù)要一致。本發(fā)明還提供一種液晶空間光調(diào)制器相位校正裝置，如圖7所示，包括沿光軸依次設(shè)置的干涉儀25、參考鏡沈、偏振片22和液晶空間光調(diào)制器23。液晶空間光調(diào)制器23 與控制裝置對(duì)相連接。通過(guò)該裝置可校正液晶空間光調(diào)制器23和偏振片22的面形誤差。其步驟如下， 先將液晶空間光調(diào)制器23上所有像素的輸入信號(hào)的灰度設(shè)置為零，然后用干涉儀測(cè)量液晶空間光調(diào)制器23和偏振片22的面形誤差之和。根據(jù)輸入信號(hào)的灰度與相位調(diào)制的大小成正比的特性，計(jì)算校正液晶空間光調(diào)制器23和偏振片22的面形誤差之和所要求的輸入信號(hào)的灰度分布，將該灰度分布保存到計(jì)算機(jī)內(nèi)，用于液晶空間光調(diào)制器的校正。每次使用液晶空間光調(diào)制器23時(shí)，將校正用的灰度分布和設(shè)計(jì)得到的灰度分布共同作用到液晶空間光調(diào)制器23上，這樣就能有效地抑制面形誤差的影響，從而得到高精度的空間載波相移分布?？梢?jiàn)，本發(fā)明上述實(shí)施例的干涉測(cè)量裝置還可以應(yīng)用圖7所示液晶空間光調(diào)制器相位校正裝置實(shí)現(xiàn)誤差校正，因此可實(shí)現(xiàn)高精度動(dòng)態(tài)測(cè)量。本發(fā)明雖然以較佳實(shí)施例公開(kāi)如上，但其并不是用來(lái)限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，都可以做出可能的變動(dòng)和修改，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以本發(fā)明權(quán)利要求所界定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種干涉測(cè)量裝置，其特征在于包括，用以產(chǎn)生偏振狀態(tài)相互正交線偏振光的裝置，該相互正交線偏振光分別稱為參考光和測(cè)試光；相位調(diào)制式空間光調(diào)制器，設(shè)置于參考光或測(cè)試光的光路中，用以改變光波前的空間相位分布；該空間光調(diào)制器具有復(fù)數(shù)個(gè)像素，每一像素具備特定的相位分布；其中，經(jīng)所述空間光調(diào)制器相位調(diào)制后的光稱為調(diào)制光，未經(jīng)調(diào)制的光稱為未調(diào)制光；基于所述調(diào)制光和未調(diào)制光實(shí)現(xiàn)干涉測(cè)量的干涉儀；對(duì)干涉儀產(chǎn)生的相干光探測(cè)的光探測(cè)裝置，該光探測(cè)裝置具備與所述空間光調(diào)制器相同的像素分布；且二者像素相對(duì)應(yīng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干涉測(cè)量裝置，其特征在于，所述空間光調(diào)制器為反射式液晶空間光調(diào)制器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干涉測(cè)量裝置，其特征在于，所述產(chǎn)生偏振狀態(tài)相互正交線偏振光的裝置包括共軸設(shè)置的線偏振光起偏器和偏振分光棱鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的干涉測(cè)量裝置，其特征在于，所述產(chǎn)生偏振狀態(tài)相互正交線偏振光的裝置還進(jìn)一步包括使偏振分光鏡后的正交線偏振光產(chǎn)生相位延遲的結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的干涉測(cè)量裝置，其特征在于，液晶空間光調(diào)制器至少包括一組2X2分布的像素單元，且所述像素單元中每一像素具有不同的相位。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的干涉測(cè)量裝置，其特征在于，所述每一像素單元中相位分布分另U為 0、π/2、π 禾口 3π/20
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干涉測(cè)量裝置，其特征在于，所述干涉儀為菲索干涉儀。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的干涉測(cè)量裝置，其特征在在于，還包括相干光源。
9.一種空間相移裝置，其特征在于包括沿準(zhǔn)直光束照射方向依次設(shè)置的偏振器件和液晶空間光調(diào)制器，還包括用于對(duì)所述液晶空間光調(diào)制器相位調(diào)制的控制裝置。
10.一種液晶空間光調(diào)制器相位校正裝置，其特征在于包括沿光軸依次設(shè)置的干涉儀、 參考鏡、偏振片和液晶空間光調(diào)制器。
全文摘要
本發(fā)明提供一種干涉測(cè)量裝置，包括用以產(chǎn)生偏振狀態(tài)相互正交線偏振光的裝置，該相互正交線偏振光分別稱為參考光和測(cè)試光；相位調(diào)制式空間光調(diào)制器，設(shè)置于參考光或測(cè)試光的光路中，用以改變光波前的空間相位分布；該空間光調(diào)制器具有復(fù)數(shù)個(gè)像素，每一像素具備特定的相位分布；其中，經(jīng)所述空間光調(diào)制器相位調(diào)制后的光稱為調(diào)制光，未經(jīng)調(diào)制的光稱為未調(diào)制光；基于所述調(diào)制光和未調(diào)制光實(shí)現(xiàn)干涉測(cè)量的干涉儀；對(duì)干涉儀產(chǎn)生的相干光探測(cè)的光探測(cè)裝置；且二者像素相對(duì)應(yīng)。本發(fā)明提供的裝置，不但可以實(shí)現(xiàn)多個(gè)空間載波相移分布時(shí)的測(cè)量，而且還可以實(shí)現(xiàn)高精度動(dòng)態(tài)測(cè)量。本發(fā)明還提供一種空間相移裝置以及液晶空間光調(diào)制器相位校正裝置。
文檔編號(hào)G01B9/02GK102435136SQ20111027906
公開(kāi)日2012年5月2日 申請(qǐng)日期2011年9月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月20日
發(fā)明者徐建程 申請(qǐng)人:浙江師范大學(xué)