專利名稱：具有標定精度功能的光刻機投影物鏡波像差在線檢測裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種具有測量精度標定功能的光刻機投影物鏡波像差在線檢測裝置，屬于光學(xué)檢測領(lǐng)域。

背景技術(shù)：
大規(guī)模集成電路的制備過程中使用投影曝光裝置，將掩模上的圖案經(jīng)過投影物鏡縮小投影在涂有光刻膠的硅片上。2007年國際半導(dǎo)體技術(shù)路線圖(ITRS2007)指出，極紫外光刻技術(shù)(EUVL)是實現(xiàn)32nm及其以下技術(shù)節(jié)點最有潛力的候選技術(shù)。
相關(guān)專利1(US5835217)中提出了一種安裝在EUVL光刻機上利用曝光波長在線檢測投影物鏡波像差的相移點衍射干涉儀(Phase-shifting point diffractioninterferometer，PSPDI)。專利1指出，根據(jù)PS/PDI的結(jié)構(gòu)特點，PSPDI的測量精度是由圓孔衍射產(chǎn)生的球面參考波波面誤差所決定的。
相關(guān)文獻1“Characterization of the accuracy of EUV phase-shifting pointdiffraction interferometry”(Proc.SPIE，1998，3331114～123)中提出，采用兩個圓孔代替PSPDI中的窗口和圓孔進行PSPDI測量精度的標定。標定時，使兩個圓孔分別對準0、1級衍射光焦點，兩個圓孔衍射產(chǎn)生兩個球面參考波，對兩個球面參考波自身的干涉條紋進行解相計算，得到測量結(jié)果W。但是，在W不僅包含了表征PSPDI測量精度的球面參考波波面誤差WR，也包括了系統(tǒng)誤差We，不能直接使用W″作為PSPDI測量精度的標定結(jié)果。We主要由兩部分組成測試波和參考波橫向錯位所引入的慧差Ws，光電傳感器傾斜所導(dǎo)致的像散Wt。文獻1指出，Ws可以通過理論推導(dǎo)求出，Wt則無法準確求出。因此，利用文獻1的方法進行PSPDI的測量精度標定，必然會使像散Wt與表征PSPDI測量精度的WR難以分離，進而影響PSPDI測量精度標定的準確度。
相關(guān)文獻2(Proc.SPIE，2009，715671561W-1～71561W-7)中PSPDI系統(tǒng)仿真的結(jié)果表明，像散Wt是圓孔濾波最難濾除的像差。WR中的像散與系統(tǒng)誤差We中的像散Wt混合在一起，難以分離。雖然文獻1提出采用多次測量取平均值的方法可以在一定程度上減小WR中圓孔濾波剩余像散的影響，但是實際中不可能做到像散隨機誤差與系統(tǒng)誤差的完全分離。
相關(guān)專利2(申請?zhí)?00910093833.6)提出了一種可標定系統(tǒng)誤差的光刻機投影物鏡波像差在線檢測裝置。該裝置原理為利用PSPDI系統(tǒng)誤差隨光柵分束方向旋轉(zhuǎn)的特性，在PSPDI的分束裝置中引入一個與原有光柵刻線方向相垂直的光柵、在像方掩模板中引入一個圓孔，作為系統(tǒng)誤差標定元件，根據(jù)Zernike多項式在單位圓域的正交特性和奇偶對稱性質(zhì)，標定測量結(jié)果中的系統(tǒng)誤差WeT。該裝置的用途為在使用PSPDI測量光刻投影物鏡的波像差時，標定測量結(jié)果中的系統(tǒng)誤差WeT。但是，專利2中的裝置在測量光刻投影物鏡的波像差時標定出的系統(tǒng)誤差WeT不同于使用文獻1中的方法在標定PSPDI測量精度時得到的系統(tǒng)誤差We。原因為在使用文獻1中的方法標定PSPDI測量精度時，由于使用圓孔代替PSPDI中原有的窗口，圓孔的空間濾波作用改變了PSPDI的系統(tǒng)誤差WeT。因此，在標定PSPDI的測量精度時，不能采用專利2中的裝置消除系統(tǒng)誤差的影響。
綜上所述，由文獻2的仿真分析可知，現(xiàn)有的PSPDI測量精度標定方法(如文獻1提出的方法)，在標定過程中不能完全分離系統(tǒng)誤差，進而影響PSPDI測量精度標定的準確度；現(xiàn)有的PSPDI系統(tǒng)誤差標定裝置(如專利2提出的裝置)，僅適用于分離PSPDI在測量投影物鏡波像差時的系統(tǒng)誤差，而不能分離標定PSPDI測量精度時的系統(tǒng)誤差。


發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對采用現(xiàn)有的方法標定PSPDI測量精度時的系統(tǒng)誤差不能完全分離的問題，改進PSPDI的結(jié)構(gòu)，在PSPDI中加入測量精度標定元件，提出一種具有測量精度標定功能的投影物鏡波像差在線檢測裝置。
本發(fā)明的基本思想是利用PSPDI的系統(tǒng)誤差隨光柵分束方向旋轉(zhuǎn)的特性，在PSPDI中多引入一個光柵和兩個圓孔，將兩個光柵和三個圓孔一同作為測量精度標定元件，根據(jù)Zernike多項式在單位圓域的正交特性和奇偶對稱性質(zhì)分離在標定PSPDI測量精度時的系統(tǒng)誤差，得到標定表征PSPDI測量精度的圓孔衍射產(chǎn)生的球面參考波的波面誤差，使光刻機投影物鏡波像差在線檢測裝置不僅能夠在線檢測波像差，還具有測量精度標定功能。所述裝置集成于光刻機中。
為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案如下 具有標定精度功能的光刻機投影物鏡波像差在線檢測裝置，包括物方掩模板、分束裝置、移相裝置、像方掩模板、光電傳感器、存儲器、運算器、控制器和光刻機；其中，像方掩模板包括一個窗口和直徑相同的第一圓孔、第二圓孔和第三圓孔，且以窗口中心、第一圓孔圓心、第二圓孔圓心、第三圓孔圓心為頂點構(gòu)成四邊形；用于①在線檢測投影物鏡波像差時產(chǎn)生的測試波和球面參考波，②標定在測量精度時產(chǎn)生的兩個球面參考波； 像方掩模板位于光刻機的硅片工件臺上，處于光刻機投影物鏡的像面中，由硅片工件臺支撐和帶動；工作過程中，①當使用所述裝置在線檢測投影物鏡波像差時，第一圓孔的圓心要對準投影物鏡像面處的0級衍射光，同時，窗口的中心要對準投影物鏡像面處的+1或-1級衍射光，以產(chǎn)生測試波和球面參考波；②當標定所述裝置的測量精度時，需要進行正交方向上的兩次測量第一次測量中，第三圓孔的圓心要對準投影物鏡像面處的0級衍射光，同時，第二圓孔的圓心對準投影物鏡像面處的+1或-1級衍射光，以分別產(chǎn)生球面參考波；第二次測量中，第三圓孔的圓心要對準投影物鏡像面處的0級衍射光，同時，第一圓孔的圓心要對準投影物鏡像面處的+1或-1級衍射光，以分別產(chǎn)生球面參考波；第一圓孔和第二圓孔的圓心與所述窗口中心的連線垂直且相等，第一圓孔和第二圓孔的圓心與第三圓孔的圓心的連線垂直且相等。
所述的像方掩模板上以窗口中心、第一圓孔圓心、第二圓孔圓心、第三圓孔圓心為頂點的四邊形為正方形。
所述的正方形，在測量過程中 (1)當分束裝置位于投影物鏡與像方掩模板之間時，其邊長s滿足關(guān)系式s＝λz2/d，式中λ為光刻機的曝光波長，m為投影物鏡的倍率，d為分束裝置中光柵的周期常數(shù)，z2為分束裝置與像方掩模板在光軸方向上的間距，以實現(xiàn)投影物鏡波像差的測量及裝置精度的標定； (2)當分束裝置位于物方掩模板和投影物鏡之間時，其邊長s滿足關(guān)系式s＝λz1/md，式中λ為光刻機的曝光波長，m為投影物鏡的倍率，d為分束裝置中光柵的周期常數(shù)，z1為分束裝置與物方掩模板在光軸方向上的間距，以實現(xiàn)投影物鏡波像差的測量及裝置精度的標定。
所述三個圓孔的直徑φ都小于所述投影物鏡衍射極限分辨率，滿足φ＝λ/2NA，其中λ為所述光刻機的曝光波長，NA為投影物鏡的像方數(shù)值孔徑。
標定所述裝置測量精度的方法，包括如下步驟 步驟一、在裝有所述裝置的光刻機上調(diào)節(jié)照明系統(tǒng)，使光源發(fā)出的光束在投影物鏡視場范圍內(nèi)均勻的照明掩模板；移動掩模工件臺，帶動物方掩模板進行移動，使物方掩模板位于掩模板所在的投影物鏡的物面；照明系統(tǒng)的出射光束均勻照明物方掩模板，經(jīng)過物方掩模板上的圓孔進行空間濾波，消除照明系統(tǒng)的像差； 步驟二、使用第二圓孔衍射的球面參考波和第三圓孔衍射的球面參考波進行測量，得到測量結(jié)果W‖，并將結(jié)果保存在存儲器中利用分束裝置中的第一光柵對物方掩模板上的圓孔的出射光束進行分束；光束通過第一光柵的周期結(jié)構(gòu)后，出射角度不同的各個級次衍射光束經(jīng)過投影物鏡后，攜帶了投影物鏡的波像差信息，在投影物鏡的像面上形成若干個衍射級次；像方掩模板由硅片工件臺支撐和驅(qū)動，移動硅片工件臺，使像方掩模板位于投影物鏡的像面，并使第三圓孔對準像面處的0級衍射光以產(chǎn)生球面波，使第二圓孔對準像面處的+1或-1級衍射光以產(chǎn)生球面波； 兩束球面波發(fā)生雙光束干涉，在光電傳感器上形成干涉條紋，光電傳感器記錄干涉條紋的強度信息并存儲在存儲器中；控制器控制移相裝置驅(qū)動分束裝置在垂直于第一光柵刻線的方向上平移，從而在第一光柵的±1級次衍射光中引入相位差，利用光電傳感器采集移相后的干涉條紋，儲存在存儲器中；重復(fù)此過程，在存儲器中存儲多幅移相的干涉條紋； 利用運算器根據(jù)中多幅移相干涉條紋的強度信息，計算出37項Zernike多項式表示的第二圓孔和第三圓孔衍射的兩個球面參考波測量結(jié)果W‖，并存儲在存儲器中； 步驟三、使用第一圓孔衍射的球面參考波和第三圓孔衍射的球面參考波進行測量，得到測量結(jié)果W⊥，并將結(jié)果保存在存儲器中利用分束裝置中的第二光柵代替第一光柵，用第一圓孔代替第二圓孔，重復(fù)步驟二，得到37項Zernike多項式表示的第一圓孔和第三圓孔衍射的兩個球面參考波測量結(jié)果W⊥，并存儲在存儲器中； 步驟四、標定所述裝置的測量精度利用Zernike多項式在單位圓內(nèi)具有正交特性以及奇偶對稱性質(zhì)，運算器根據(jù)W‖和W⊥，計算出W‖中所包含的Zernike多項式表示的系統(tǒng)誤差We，并存儲在存儲器中；運算器計算出37項Zernike多項式表示的表征所述裝置測量精度的球面參考波誤差WR＝W‖-We，并存儲在存儲器中。
標定所述裝置測量精度的方法的步驟四中根據(jù)W‖和W⊥，計算W‖中所包含的Zernike多項式表示的系統(tǒng)誤差We，并最終得到37項Zernike多項式表示的表征裝置測量精度的球面參考波誤差WR的方法如下 [1]37項Zernike多項式表示的W‖為

其中，an‖為37項Zernike多項式對應(yīng)項系數(shù)，zn為37項Zernike多項式；37項Zernike多項式表示的W⊥為

其中，an⊥為37項Zernike多項式對應(yīng)項系數(shù)； [2]對W‖和W⊥作差，得到兩次測量結(jié)果的差值WΔ表示為
其中 [3]計算標定裝置的測量精度時引入的系統(tǒng)誤差WeWe由兩部分組成，即We＝Ws+Wt，其中Ws為測試波和參考波橫向錯位所引入的慧差，Wt為光電傳感器傾斜所導(dǎo)致的像散；Ws計算為

Wt計算為 得到裝置測量精度標定結(jié)果WR37項Zernike多項式表示的表征裝置測量精度的球面參考波誤差WR＝W‖-We。
本發(fā)明中各部件的作用說明如下 (1)物方掩模板在物方掩模板上，開有一個直徑不超過光刻機照明系統(tǒng)衍射極限分辨率的圓孔，用于選擇測量視場點以及濾除光刻機照明系統(tǒng)的像差。
(2)分束裝置用于光束分束以及在標定該裝置的測量精度時改變分束方向。
分束裝置包括兩個二元衍射光柵第一光柵和第二光柵，兩個光柵可以均為二元振幅光柵，也可以均為二元位相光柵。其中，第一光柵的作用為在使用所述裝置在線檢測投影物鏡波像差以及在標定所述裝置的測量精度時對光束進行分束，以產(chǎn)生測試臂和參考臂；第二光柵的作用為在標定所述裝置的測量精度時，將經(jīng)第一光柵分束后的測試臂和參考臂的方向旋轉(zhuǎn)90度，這就使得所述裝置的系統(tǒng)誤差也隨之旋轉(zhuǎn)90度，而測量真值不變，從而將系統(tǒng)誤差從所述裝置的測量精度標定結(jié)果中分離出來。
兩個光柵的刻線方向相垂直，且周期常數(shù)、占空比和外圍寬度相同，其外圍寬度均須滿足光柵衍射的0級和1級衍射光或者0級和-1級衍射光能夠同時填充投影物鏡的光瞳。兩光柵在分束裝置所在平面上的間距在不影響測量的前提下應(yīng)盡可能小。
(3)移相裝置用于帶動分束裝置在測試臂和參考臂之間引入有序相移。
(4)像方掩模板用于所述裝置在線檢測投影物鏡波像差時產(chǎn)生測試波和球面參考波，以及標定所述裝置的測量精度時產(chǎn)生兩個球面參考波。
像方掩模板包括一個窗口和與窗口分開一定距離的三個直徑相同的圓孔第一圓孔、第二圓孔和第三圓孔。
窗口尺寸決定了所述裝置能夠測量的空間頻率，用于所述裝置在線檢測投影物鏡波像差時產(chǎn)生測試波。第一圓孔用于所述裝置在線檢測投影物鏡波像差以及測量精度標定時產(chǎn)生球面參考波；第二圓孔和第三圓孔用于標定所述裝置的測量精度時產(chǎn)生球面參考波。即在使用所述裝置在線檢測投影物鏡波像差時，窗口和第一圓孔分別產(chǎn)生測試波和球面參考波；在標定所述裝置的測量精度時，需要進行正交方向上的兩次測量，第一次測量時采用第二圓孔和第三圓孔分別產(chǎn)生球面參考波，第二次測量時采用第一圓孔和第三圓孔分別產(chǎn)生球面參考波。
(5)光電傳感器用于在使用裝置檢測投影物鏡的波像差時，采集測試波和球面參考波的干涉條紋；以及在標定裝置的測量精度時，采集兩個球面參考波的干涉條紋。
(6)存儲器用于保存光電傳感器所采集的干涉條紋強度信息，投影物鏡各個視場點的波像差，第二圓孔和第三圓孔產(chǎn)生的兩個球面參考波干涉的測量結(jié)果，第一圓孔和第三圓孔產(chǎn)生的兩個球面參考波干涉的測量結(jié)果，所述裝置測量精度標定時產(chǎn)生的系統(tǒng)誤差，所述裝置測量精度的標定結(jié)果，以及投影物鏡各個補償器的調(diào)節(jié)量。
(7)運算器用于根據(jù)存儲器中數(shù)據(jù)計算投影物鏡各個視場點的波像差，第二圓孔和第三圓孔產(chǎn)生的兩個球面參考波干涉的測量結(jié)果，第一圓孔和第三圓孔產(chǎn)生的兩個球面參考波干涉的測量結(jié)果，所述裝置測量精度標定時產(chǎn)生的系統(tǒng)誤差，所述裝置測量精度的標定結(jié)果，以及投影物鏡各個補償器的調(diào)節(jié)量。
(8)控制器用于控制掩模工件臺和硅片工件臺改變所測量的投影物鏡的視場點，根據(jù)存儲器中投影物鏡各個補償器調(diào)整量調(diào)整補償器來校正像差，以及控制移相裝置步進實現(xiàn)移相。
本發(fā)明所述裝置各組成部分的位置與連接關(guān)系如下 物方掩模板位于投影物鏡的物面，并由光刻機中的掩模工件臺固定支撐和帶動。物方掩模板上的圓孔要始終處于光刻機投影物鏡的視場范圍之內(nèi)，圓孔所在位置即為本發(fā)明裝置所測量的投影物鏡的視場點。
分束裝置由移相裝置固定支撐，移相裝置帶動分束裝置在垂直于光軸方向的平面內(nèi)進行垂直于第一或第二光柵刻線方向的平移。分束裝置位于物方掩模板和投影物鏡之間，也可以位于投影物鏡與像方掩模板之間當使用所述裝置在線檢測投影物鏡波像差時，若第一光柵位于物方掩模板和投影物鏡之間，在標定所述裝置的測量精度時，第一光柵和第二光柵也必須位于物方掩模板和投影物鏡之間；當使用所述裝置在線檢測投影物鏡波像差時，若第一光柵位于投影物鏡與像方掩模板之間，在標定所述裝置的測量精度時，第一光柵和第二光柵也必須位于投影物鏡與像方掩模板之間。
像方掩模板位于投影物鏡的像面，并由硅片工件臺支撐和帶動。當使用所述裝置在線檢測投影物鏡波像差時，第一圓孔的圓心要對準投影物鏡像面處的0級衍射光，同時，窗口的中心要對準投影物鏡像面處的+1或-1級衍射光。當標定所述裝置的測量精度時，需要進行正交方向上的兩次測量第一次測量中，第三圓孔的圓心要對準投影物鏡像面處的0級衍射光，同時，第二圓孔的圓心要對準投影物鏡像面處的+1或-1級衍射光；第二次測量中，第三圓孔的圓心要對準投影物鏡像面處的0級衍射光，同時，第一圓孔的圓心要對準投影物鏡像面處的+1或-1級衍射光；第一圓孔和第二圓孔的圓心與所述窗口中心的連線垂直且相等，第一圓孔和第二圓孔的圓心與第三圓孔的圓心的連線垂直且相等。即所述窗口的中心和三個圓孔的圓心分別位于一個邊長為s的正方形的四個頂點。三個圓孔的直徑φ都小于所述投影物鏡衍射極限分辨率，一般應(yīng)滿足φ＝λ/2NA，具體參數(shù)由實驗結(jié)果確定，其中λ為所述光刻機的曝光波長，NA為投影物鏡的像方數(shù)值孔徑。
當分束裝置位于物方掩模板和投影物鏡之間時，像方掩模板上以窗口中心、第一圓孔圓心、第二圓孔圓心、第三圓孔圓心為頂點的正方形邊長s滿足關(guān)系式s＝λz1/md，式中λ為光刻機的曝光波長，m為投影物鏡的倍率，d為分束裝置中光柵的周期常數(shù)，z1為分束裝置與物方掩模板在光軸方向上的間距。
當分束裝置位于投影物鏡與像方掩模板之間時，像方掩模板上以窗口中心、第一圓孔圓心、第二圓孔圓心、第三圓孔圓心為頂點的正方形邊長s滿足關(guān)系式s＝λz2/d，式中z2為分束裝置與像方掩模板在光軸方向上的間距。
光電傳感器由光刻機的硅片工件臺固定支撐和帶動，并與像方掩模板平行。光電傳感器有效像元區(qū)的中心在垂直方向上與窗口中心重合，光電傳感器與像方掩模板的間距取決于光電傳感器有效像元區(qū)的大小以及投影物鏡的數(shù)值孔徑，以能夠完全采集測試波和參考波形成的干涉條紋為準。
存儲器分別同光電傳感器、運算器、控制器相連接。控制器分別同移相裝置、掩模工件臺、硅片工件臺以及投影物鏡補償器相連接。連接方式可以采用數(shù)據(jù)線、電纜線等有線方式，也可采用紅外傳輸、藍牙等無線方式。
有益效果 相對于相關(guān)專利1提出的PSPDI，以及相關(guān)文獻1提出的PSPDI測量精度標定方法，本發(fā)明所提供的測量裝置對PSPDI的結(jié)構(gòu)進行了改進，在PSPDI中多加入了一個光柵和兩個圓孔，將兩個光柵和三個圓孔一同作為測量精度標定元件，在標定表征PSPDI測量精度的圓孔衍射產(chǎn)生的球面參考波的波面誤差時，能夠準確地得到系統(tǒng)誤差，提高了PSPDI測量精度標定的準確度。



圖1為本發(fā)明所述裝置安裝在光刻機中的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為本發(fā)明所述裝置中的物方掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3為本發(fā)明所述裝置中的分束裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖4為本發(fā)明所述裝置中的像方掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖中，101-光源、102-照明系統(tǒng)、103-掩模板、104-掩模工件臺、105-投影物鏡、106-硅片、107-硅片工件臺、201-物方掩模板、201a-物方掩模板圓孔、202-分束裝置、203-移相裝置、204-像方掩模板、205-光電傳感器、206-存儲器、207-運算器、208-控制器、202a-第一光柵、202b-第二光柵204a-窗口、204b-第一圓孔、204c-第二圓孔、204d-第三圓孔。

具體實施例方式 下面結(jié)合附圖和具體實施方式
對本發(fā)明作進一步詳細說明。
首先闡述光刻機的結(jié)構(gòu)組成及工作原理。光刻機包括光源101、照明系統(tǒng)102、掩模板103、掩模工件臺104、投影物鏡105、硅片106以及硅片工件臺107。光源101發(fā)出的光經(jīng)過照明系統(tǒng)102后，照明在掩模板103上，將掩模板103上的圖案通過投影物鏡105，以步進-掃描的方式，縮小投影在涂有光刻膠的硅片106上，實現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移。光源101為波長約13.5nm的極紫外光源，或者波長約為193nm的ArF準分子激光，或者波長約為248nm的KrF準分子激光。照明系統(tǒng)102具有調(diào)節(jié)光束轉(zhuǎn)向、形狀的光學(xué)元件，以及勻光光學(xué)元件，這樣照明在掩模板103上的光束在投影物鏡105視場范圍內(nèi)具有較理想的均勻性?？逃写D(zhuǎn)移的電路圖案的掩模板103由掩模工件臺104支撐和帶動；涂有光刻膠的硅片106由硅片工件臺107支撐和帶動。掩模板103和硅片106位于投影物鏡105的光學(xué)共軛面上。掩模工件臺104和硅片工件臺107以不同的速率同步掃描運動，以步進-掃描的方式將掩模板103的圖案，通過投影物鏡105精確地投影轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的硅片107上。
本發(fā)明通過在光刻機上集成具有測量精度標定功能的投影物鏡波像差在線檢測裝置，進行投影物鏡105波像差的在線檢測和校正，并且標定裝置的測量精度，如圖1所示。本發(fā)明裝置包括物方掩模板201、分束裝置202、移相裝置203、像方掩模板204、光電傳感器205、存儲器206、運算器207以及控制器208。
其中，在物方掩模板201上，開有一個直徑不超過光刻機照明系統(tǒng)102衍射極限分辨率的圓孔201a，用于選擇測量視場點以及濾除照明系統(tǒng)102的像差。
分束裝置202用于光束分束以及在標定裝置的測量精度時改變分束方向。分束裝置202包括兩個二元衍射光柵第一光柵202a和第二光柵202b，兩個光柵可以均為二元振幅光柵，也可以均為二元位相光柵。其中，第一光柵202a用于使用裝置在線檢測投影物鏡波像差時對光束進行分束，以產(chǎn)生測試臂和參考臂；第一光柵202a也用于在標定裝置的測量精度時對光束進行分束，以產(chǎn)生測試臂和參考臂；第二光柵202b用于在標定裝置的測量精度時，將光束分束后的測試臂和參考臂的方向相對于使用第一光柵202a時測試臂和參考臂的方向旋轉(zhuǎn)90度，這就使得裝置的系統(tǒng)誤差也隨之旋轉(zhuǎn)90度，而測量真值不變，從而分離將系統(tǒng)誤差從測量結(jié)果中分離出來。
兩個光柵的刻線方向相垂直，且周期常數(shù)、占空比和外圍寬度相同，其外圍寬度均須滿足光柵衍射的0級和1級衍射光或者0級和-1級衍射光能夠同時填充投影物鏡105的光瞳。兩光柵在分束裝置202所在平面上的間距在不影響測量的前提下應(yīng)盡可能小。
移相裝置203用于帶動分束裝置202在測試臂和參考臂之間引入有序相移。
像方掩模板204用于裝置在線檢測投影物鏡105波像差時產(chǎn)生測試波和球面參考波，以及標定裝置的測量精度時產(chǎn)生兩個球面參考波。像方掩模板204包括一個窗口204a和與窗口204a分開一定距離的三個直徑相同的圓孔第一圓孔204b、第二圓孔204c和第三圓孔204d。窗口204a的尺寸決定了裝置能夠測量的空間頻率，用于裝置在線檢測投影物105鏡波像差時產(chǎn)生測試波。第一圓孔204b用于裝置在線檢測投影物鏡105波像差時產(chǎn)生球面參考波，也用于裝置的測量精度標定時產(chǎn)生球面參考波；第二圓孔204b和第三圓孔204c用于標定裝置的測量精度時產(chǎn)生球面參考波。即在使用裝置在線檢測投影物鏡105波像差時，窗口204a和第一圓孔204b分別產(chǎn)生測試波和球面參考波；在標定裝置的測量精度時，需要進行正交方向上的兩次測量，第一次測量時采用第二圓孔204c和第三圓孔204d分別產(chǎn)生球面參考波，第二次測量時采用第一圓孔204b和第三圓孔204d分別產(chǎn)生球面參考波。
光電傳感器205用于在使用裝置檢測投影物鏡105的波像差時，采集測試波和球面參考波的干涉條紋；以及在標定裝置的測量精度時，采集兩個球面參考波的干涉條紋。
存儲器206用于保存光電傳感器205所采集的干涉條紋強度信息，投影物鏡105各個視場點的波像差，第二圓孔204c和第三圓孔204d產(chǎn)生的兩個球面參考波干涉的測量結(jié)果，第一圓孔204b和第三圓孔204d產(chǎn)生的兩個球面參考波干涉的測量結(jié)果，裝置測量精度標定時產(chǎn)生的系統(tǒng)誤差，裝置測量精度的標定結(jié)果，以及投影物鏡105各個補償器的調(diào)節(jié)量。
運算器207用于根據(jù)存儲器206中數(shù)據(jù)計算投影物鏡105各個視場點的波像差，第二圓孔204c和第三圓孔204d產(chǎn)生的兩個球面參考波干涉的測量結(jié)果，第一圓孔204b和第三圓孔204d產(chǎn)生的兩個球面參考波干涉的測量結(jié)果，裝置測量精度標定時產(chǎn)生的系統(tǒng)誤差，裝置測量精度的標定結(jié)果，以及投影物鏡105各個補償器的調(diào)節(jié)量。
控制器208用于控制掩模工件臺104和硅片工件臺107改變所測量的投影物鏡105的視場點，根據(jù)存儲器206中投影物鏡各個補償器調(diào)整量調(diào)整補償器來校正像差，以及控制移相裝置203步進實現(xiàn)移相。
上述各組成部分的位置與連接關(guān)系如下 物方掩模板201位于投影物鏡105的物面，并由光刻機中的掩模工件臺104固定支撐和帶動。物方掩模板201上的圓孔201a要始終處于光刻機投影物鏡105的視場范圍之內(nèi)，圓孔201a所在位置即為本發(fā)明裝置所測量的投影物鏡105的視場點。
分束裝置202由移相裝置203固定支撐，移相裝置203帶動分束裝置202在垂直于光軸方向的平面內(nèi)進行垂直于第一光柵202a或第二光柵202b刻線方向的平移。分束裝置202位于物方掩模板201和投影物鏡105之間，也可以位于投影物鏡105與像方掩模板204之間。當使用裝置在線檢測投影物鏡105波像差時，若第一光柵202a位于物方掩模板201和投影物鏡105之間，在標定裝置的測量精度時，第一光柵202a和第二光柵202b也必須位于物方掩模板201和投影物鏡105之間；當使用裝置在線檢測投影物鏡105波像差時，若第一光柵202a位于投影物鏡105與像方掩模板204之間，在標定裝置的測量精度時，第一光柵202a和第二光柵202b也必須位于投影物鏡105與像方掩模板204之間。
像方掩模板204位于投影物鏡105的像面，并由硅片工件臺107支撐和帶動。當使用裝置在線檢測投影物鏡105波像差時，第一圓孔204b的圓心要對準投影物鏡105像面處的0級衍射光，同時，窗口204a的中心要對準投影物鏡105像面處的+1或-1級衍射光。當標定裝置的測量精度時，需要進行正交方向上的兩次測量第一次測量中，第三圓孔204d的圓心要對準投影物鏡105像面處的0級衍射光，同時，第二圓孔204c的圓心要對準投影物鏡105像面處的+1或-1級衍射光；第二次測量中，第三圓孔204d的圓心要對準投影物鏡105像面處的0級衍射光，同時，第一圓孔204b的圓心要對準投影物鏡105像面處的+1或-1級衍射光；第一圓孔204b和第二圓孔204c的圓心與窗口204a中心的連線垂直且相等，第一圓孔204b和第二圓孔204c的圓心與第三圓孔204d的圓心的連線垂直且相等。即窗口204a的中心、第一圓孔204b的圓心、第二圓孔204c的圓心、第三圓孔204c的圓心分別位于一個邊長為s的正方形的四個頂點。第一圓孔204b、第二圓孔204c、第三圓孔204c的直徑φ都小于所述投影物鏡衍射極限分辨率，一般應(yīng)滿足φ＝λ/2NA，具體參數(shù)由實驗結(jié)果確定，其中λ為所述光刻機的曝光波長，NA為投影物鏡的像方數(shù)值孔徑。
當分束裝置202位于物方掩模板201和投影物鏡105之間時，像方掩模板204上以窗口204a中心、第一圓孔204b圓心、第二圓孔204c圓心、第三圓孔204d圓心為頂點的正方形邊長s滿足關(guān)系式s＝λz1/md，式中λ為光刻機的曝光波長，m為投影物鏡105的倍率，d為分束裝置202中第一光柵202a和第二光柵202b的周期常數(shù)，z1為分束裝置202與物方掩模板201在光軸方向上的間距。
當分束裝置202位于投影物鏡105與像方掩模板204之間時，像方掩模板上以窗口204a中心、第一圓孔204b圓心、第二圓孔204c圓心、第三圓孔204d圓心為頂點的正方形邊長s滿足關(guān)系式s＝λz2/d，式中z2為分束裝置202與像方掩模板204在光軸方向上的間距。
光電傳感器205由光刻機的硅片工件臺107固定支撐和帶動，并與像方掩模板204平行。光電傳感器205有效像元區(qū)的中心在垂直方向上與窗口204a中心重合，光電傳感器205與像方掩模板204的間距取決于光電傳感器205有效像元區(qū)的大小以及投影物鏡105的數(shù)值孔徑，以能夠完全采集測試波和參考波形成的干涉條紋為準。
存儲器206分別同光電傳感器205、運算器207、控制器208相連接?？刂破?08分別同移相裝置203、掩模工件臺104、硅片工件臺107以及投影物鏡105的補償器相連接。連接方式可以采用數(shù)據(jù)線、電纜線等有線方式，也可采用紅外傳輸、藍牙等無線方式。
使用本具體實施方式
所述裝置進行光刻機投影物鏡波像差檢測的方法如下 1)光源101發(fā)出的光束首先經(jīng)過照明系統(tǒng)102整形，使光束均勻照明于掩模板103所在的平面。移動掩模工件臺104使物方掩模板201位于掩模板103所在平面，即投影物鏡105的物面。照明系統(tǒng)102出射光束均勻照明201，經(jīng)過201上的圓孔201a空間濾波，以消除照明系統(tǒng)102的像差，圓孔201a所在的位置即為所選擇的測量視場點，如圖2所示。
2)進行投影物鏡105單個視場點的波像差在線檢測利用分束裝置202中的第一光柵202a對圓孔201a的出射光束進行分束，如圖3所示；光束通過第一光柵202a的周期結(jié)構(gòu)后，出射角度不同的各個級次衍射光束經(jīng)過投影物鏡105，攜帶了投影物鏡105的波像差信息，在投影物鏡105的像面上形成多個衍射級次；如圖4所示，像方掩模板204由硅片工件臺107支撐和帶動，移動硅片工件臺107使像方掩模板204位于投影物鏡105的像面，并且使第一圓孔204b中心對準投影物鏡105像面處的0級衍射光產(chǎn)生球面參考波，使窗口204a中心對準投影物鏡105像面處的+1或-1級衍射光，衍射光攜帶了投影物鏡105的波像差信息，形成測試波。
隨后，測試波和參考波發(fā)生雙光束干涉，在光電傳感器205上形成干涉條紋，光電傳感器205記錄干涉條紋的強度信息并存儲在存儲器206中；控制器208控制移相裝置203帶動分束裝置202在垂直于第一光柵202a刻線的方向上平移，從而在第一光柵202a的±1級衍射光中引入相位差，利用光電傳感器205采集移相后的干涉條紋，儲存在存儲器206中，重復(fù)上述過程，在存儲器206中存儲多幅移相的干涉條紋。
最后，利用運算器207根據(jù)存儲器206中多幅移相干涉條紋的強度信息，計算出37項Zernike多項式表示的投影物鏡105在圓孔201a規(guī)定的視場點的波像差W1″，并存儲在存儲器206中。
3)進行投影物鏡105全視場的波像差在線檢測控制器208根據(jù)存儲器206中儲存的投影物鏡105的波像差測量位置，控制掩模工件臺104和硅片工件臺107平移來改變所測量的投影物鏡105的視場點。之后，按照步驟2)所述過程，對新視場點進行波像差在線檢測，并將測量結(jié)果保存在存儲器206中。
重復(fù)步驟3)，直至完成投影物鏡105各個視場點波像差Wn(n＝1，2，3…)的測量；并將測量結(jié)果Wn(n＝1，2，3…)存儲在存儲器206中。
4)進行投影物鏡105全視場波像差計算和校正運算器207根據(jù)投影物鏡105各個視場點波像差Wn(n＝1，2，3…)，利用敏感度矩陣計算投影物鏡105中各個補償器的調(diào)節(jié)量，并存入存儲器206；控制器208根據(jù)存儲器206中各個補償器的調(diào)節(jié)量計算結(jié)果，自動調(diào)整投影物鏡105中各個補償器，從而完成投影物鏡105的波像差校正。
使用本具體實施方式
所述裝置進行標定該裝置測量精度的方法如下 1)光源101發(fā)出的光束首先經(jīng)過照明系統(tǒng)102整形，使光束均勻照明于掩模板103所在的平面。移動掩模工件臺104使物方掩模板201位于掩模板103所在平面，即投影物鏡105的物面。照明系統(tǒng)102出射光束均勻照明201，經(jīng)過201上的圓孔201a空間濾波，以消除照明系統(tǒng)102的像差，圓孔201a所在的位置即為所選擇的測量視場點，如圖2所示。
2)使用像方掩模板204上的第二圓孔204c衍射的球面參考波和第三圓孔204d衍射的球面參考波進行測量，得到測量結(jié)果W‖，并將結(jié)果保存在存儲器206中利用分束裝置202中的第一光柵202a對物方掩模板201上的圓孔201a的出射光束進行分束；光束通過第一光柵202a的周期結(jié)構(gòu)后，出射角度不同的各個級次衍射光束經(jīng)過投影物鏡105后，攜帶了投影物鏡105的波像差信息，在投影物鏡105的像面上形成若干個衍射級次；像方掩模板204由硅片工件臺107支撐和驅(qū)動，移動硅片工件臺107，使像方掩模板204位于投影物鏡105的像面，并使第三圓孔204d對準像面處的0級衍射光以產(chǎn)生球面波，使第二圓孔204c對準像面處的+1或-1級衍射光以產(chǎn)生球面波； 兩束球面波發(fā)生雙光束干涉，在光電傳感器205上形成干涉條紋，光電傳感器205記錄干涉條紋的強度信息并存儲在存儲器206中；控制器208控制移相裝置203驅(qū)動分束裝置202在垂直于第一光柵202a刻線的方向上平移，從而在第一光柵202a的±1級次衍射光中引入相位差，利用光電傳感器205采集移相后的干涉條紋，儲存在存儲器206中。重復(fù)此過程，在存儲器206中存儲多幅移相的干涉條紋； 利用運算器207根據(jù)中多幅移相干涉條紋的強度信息，計算出37項Zernike多項式表示的第二圓孔202c和第三圓孔202d衍射的兩個球面參考波測量結(jié)果W‖，并存儲在存儲器206中； 3)使用像方掩模板204上的第一圓孔202b衍射的球面參考波和第三圓孔204d衍射的球面參考波進行測量，得到測量結(jié)果W⊥，并將結(jié)果保存在存儲器206中利用分束裝置202中的第二光柵202b對物方掩模板201上的圓孔201a的出射光束進行分束；光束通過第二光柵202b的周期結(jié)構(gòu)后，出射角度不同的各個級次衍射光束經(jīng)過投影物鏡105后，攜帶了投影物鏡105的波像差信息，在投影物鏡105的像面上形成若干個衍射級次；像方掩模板204由硅片工件臺107支撐和驅(qū)動，移動硅片工件臺107，使像方掩模板204位于投影物鏡105的像面，并使第三圓孔204d對準像面處的0級衍射光以產(chǎn)生球面波，使第一圓孔204b對準像面處的+1或-1級衍射光以產(chǎn)生球面波； 兩束球面波發(fā)生雙光束干涉，在光電傳感器205上形成干涉條紋，光電傳感器205記錄干涉條紋的強度信息并存儲在存儲器206中；控制器208控制移相裝置203驅(qū)動分束裝置202在垂直于第二光柵202b刻線的方向上平移，從而在第二光柵202b的±1級次衍射光中引入相位差，利用光電傳感器205采集移相后的干涉條紋，儲存在存儲器206中。重復(fù)此過程，在存儲器206中存儲多幅移相的干涉條紋； 利用運算器207根據(jù)中多幅移相干涉條紋的強度信息，計算出37項Zernike多項式表示的第一圓孔202b和第三圓孔202d衍射的兩個球面參考波測量結(jié)果W⊥，并存儲在存儲器206中； 4)標定裝置的測量精度利用Zernike多項式在單位圓內(nèi)具有正交特性以及奇偶對稱性質(zhì)，運算器207根據(jù)W‖和W⊥，計算出W‖中所包含的Zernike多項式表示的系統(tǒng)誤差We，并存儲在存儲器206中；運算器207計算出37項Zernike多項式表示的表征裝置測量精度的球面參考波誤差WR＝W‖-We，并存儲在存儲器206中。
其中，根據(jù)W‖和W⊥，計算出W‖中所包含的Zernike多項式表示的系統(tǒng)誤差We，并最終得到37項Zernike多項式表示的表征裝置測量精度的球面參考波誤差WR的方法如下 [4]37項Zernike多項式表示的W‖為

其中，an‖為37項Zernike多項式對應(yīng)項系數(shù)，zn為37項Zernike多項式；37項Zernike多項式表示的W⊥為

其中，an⊥為37項Zernike多項式對應(yīng)項系數(shù)； [5]對W‖和W⊥作差，得到兩次測量結(jié)果的差值WΔ表示為
其中 [6]計算標定裝置的測量精度時引入的系統(tǒng)誤差WeWe由兩部分組成，即We＝Ws+Wt，其中Ws為測試波和參考波橫向錯位所引入的慧差，Wt為光電傳感器傾斜所導(dǎo)致的像散；Ws可計算為

Wt可計算為 [7]得到裝置測量精度標定結(jié)果WR37項Zernike多項式表示的表征裝置測量精度的球面參考波誤差WR＝W‖-We。
雖然結(jié)合了附圖描述了本發(fā)明的具體實施方式
，但是對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些也應(yīng)視為屬于本發(fā)明的保護范圍。
權(quán)利要求
1.具有標定精度功能的光刻機投影物鏡波像差在線檢測裝置，包括物方掩模板、分束裝置、移相裝置、光電傳感器、存儲器、運算器和控制器，外圍裝置包括光刻機，其特征在于還包括像方掩模板；其中，像方掩模板包括一個窗口和直徑相同的第一圓孔、第二圓孔和第三圓孔，且以窗口中心、第一圓孔圓心、第二圓孔圓心、第三圓孔圓心為頂點構(gòu)成四邊形；用于①在線檢測投影物鏡波像差時產(chǎn)生的測試波和球面參考波，②標定在測量精度時產(chǎn)生的兩個球面參考波；
像方掩模板位于光刻機的硅片工件臺上，處于光刻機投影物鏡的像面中，由硅片工件臺支撐和帶動；工作過程中，①當使用所述裝置在線檢測投影物鏡波像差時，第一圓孔的圓心要對準投影物鏡像面處的0級衍射光，同時，窗口的中心要對準投影物鏡像面處的+1或-1級衍射光，以產(chǎn)生測試波和球面參考波；②當標定所述裝置的測量精度時，需要進行正交方向上的兩次測量第一次測量中，第三圓孔的圓心要對準投影物鏡像面處的0級衍射光，同時，第二圓孔的圓心對準投影物鏡像面處的+1或-1級衍射光，以分別產(chǎn)生球面參考波；第二次測量中，第三圓孔的圓心要對準投影物鏡像面處的0級衍射光，同時，第一圓孔的圓心要對準投影物鏡像面處的+1或-1級衍射光，以分別產(chǎn)生球面參考波；第一圓孔和第二圓孔的圓心與所述窗口中心的連線垂直且相等，第一圓孔和第二圓孔的圓心與第三圓孔的圓心的連線垂直且相等。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有標定精度功能的光刻機投影物鏡波像差在線檢測裝置，其特征在于所述的像方掩模板上以窗口中心、第一圓孔圓心、第二圓孔圓心、第三圓孔圓心為頂點的四邊形為正方形。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的具有標定精度功能的光刻機投影物鏡波像差在線檢測裝置，其特征在于所述的正方形，在測量過程中當分束裝置位于投影物鏡與像方掩模板之間時，其邊長s滿足關(guān)系式s＝λz2/d，式中λ為光刻機的曝光波長，m為投影物鏡的倍率，d為分束裝置中光柵的周期常數(shù)，z2為分束裝置與像方掩模板在光軸方向上的間距，以實現(xiàn)投影物鏡波像差的測量及裝置精度的標定。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的具有標定精度功能的光刻機投影物鏡波像差在線檢測裝置，其特征在于所述的正方形，在測量過程中當分束裝置位于物方掩模板和投影物鏡之間時，其邊長s滿足關(guān)系式s＝λz1/md，式中λ為光刻機的曝光波長，m為投影物鏡的倍率，d為分束裝置中光柵的周期常數(shù)，z1為分束裝置與物方掩模板在光軸方向上的間距，以實現(xiàn)投影物鏡波像差的測量及裝置精度的標定。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有標定精度功能的光刻機投影物鏡波像差在線檢測裝置，其特征在于所述三個圓孔的直徑φ都小于所述投影物鏡衍射極限分辨率，滿足φ＝λ/2NA，其中λ為所述光刻機的曝光波長，NA為投影物鏡的像方數(shù)值孔徑。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有標定精度功能的光刻機投影物鏡波像差在線檢測裝置，其特征在于標定所述裝置測量精度的方法，包括如下步驟
步驟一、在裝有所述裝置的光刻機上調(diào)節(jié)照明系統(tǒng)，使光源發(fā)出的光束在投影物鏡視場范圍內(nèi)均勻的照明掩模板；移動掩模工件臺，帶動物方掩模板進行移動，使物方掩模板位于掩模板所在的投影物鏡的物面；照明系統(tǒng)的出射光束均勻照明物方掩模板，經(jīng)過物方掩模板上的圓孔進行空間濾波，消除照明系統(tǒng)的像差；
步驟二、使用第二圓孔衍射的球面參考波和第三圓孔衍射的球面參考波進行測量，得到測量結(jié)果W‖，并將結(jié)果保存在存儲器中利用分束裝置中的第一光柵對物方掩模板上的圓孔的出射光束進行分束；光束通過第一光柵的周期結(jié)構(gòu)后，出射角度不同的各個級次衍射光束經(jīng)過投影物鏡后，攜帶了投影物鏡的波像差信息，在投影物鏡的像面上形成若干個衍射級次；像方掩模板由硅片工件臺支撐和驅(qū)動，移動硅片工件臺，使像方掩模板位于投影物鏡的像面，并使第三圓孔對準像面處的0級衍射光以產(chǎn)生球面波，使第二圓孔對準像面處的+1或-1級衍射光以產(chǎn)生球面波；
兩束球面波發(fā)生雙光束干涉，在光電傳感器上形成干涉條紋，光電傳感器記錄干涉條紋的強度信息并存儲在存儲器中；控制器控制移相裝置驅(qū)動分束裝置在垂直于第一光柵刻線的方向上平移，從而在第一光柵的±1級次衍射光中引入相位差，利用光電傳感器采集移相后的干涉條紋，儲存在存儲器中；重復(fù)此過程，在存儲器中存儲多幅移相的干涉條紋；
利用運算器根據(jù)中多幅移相干涉條紋的強度信息，計算出37項Zernike多項式表示的第二圓孔和第三圓孔衍射的兩個球面參考波測量結(jié)果W‖，并存儲在存儲器中；
步驟三、使用第一圓孔衍射的球面參考波和第三圓孔衍射的球面參考波進行測量，得到測量結(jié)果W⊥，并將結(jié)果保存在存儲器中利用分束裝置中的第二光柵代替第一光柵，用第一圓孔代替第二圓孔，重復(fù)步驟二，得到37項Zernike多項式表示的第一圓孔和第三圓孔衍射的兩個球面參考波測量結(jié)果W⊥，并存儲在存儲器中；
步驟四、標定所述裝置的測量精度利用Zernike多項式在單位圓內(nèi)具有正交特性以及奇偶對稱性質(zhì)，運算器根據(jù)W‖和W⊥，計算出W‖中所包含的Zernike多項式表示的系統(tǒng)誤差We，并存儲在存儲器中；運算器計算出37項Zernike多項式表示的表征所述裝置測量精度的球面參考波誤差WR＝W‖-We，并存儲在存儲器中。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的具有標定精度功能的光刻機投影物鏡波像差在線檢測裝置，其特征在于標定所述裝置測量精度的方法的步驟四中根據(jù)W‖和W⊥，計算W‖中所包含的Zernike多項式表示的系統(tǒng)誤差We，并最終得到37項Zernike多項式表示的表征裝置測量精度的球面參考波誤差WR的方法如下
[1]37項Zernike多項式表示的W‖為
其中，an‖為37項Zernike多項式對應(yīng)項系數(shù)，zn為37項Zernike多項式；37項Zernike多項式表示的W⊥為
其中，an⊥為37項Zernike多項式對應(yīng)項系數(shù)；
[2]對W‖和W⊥作差，得到兩次測量結(jié)果的差值WΔ表示為
其中
[3]計算標定裝置的測量精度時引入的系統(tǒng)誤差WeWe由兩部分組成，即
We＝Ws+Wt，其中Ws為測試波和參考波橫向錯位所引入的慧差，Wt為光電傳感器傾斜所導(dǎo)致的像散；Ws計算為
Wt計算為
得到裝置測量精度標定結(jié)果WR37項Zernike多項式表示的表征裝置測量精度的球面參考波誤差WR＝W‖-We。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種具有測量精度標定功能的光刻機投影物鏡波像差在線檢測裝置，屬于光學(xué)檢測領(lǐng)域。本發(fā)明利用PSPDI的系統(tǒng)誤差隨光柵分束方向旋轉(zhuǎn)的特性，在PSPDI中多引入一個光柵和兩個圓孔，將兩個光柵和三個圓孔一同作為測量精度標定元件，根據(jù)Zernike多項式在單位圓域的正交特性和奇偶對稱性質(zhì)分離在標定PSPDI測量精度時的系統(tǒng)誤差，得到標定表征PSPDI測量精度的圓孔衍射產(chǎn)生的球面參考波的波面誤差，使光刻機投影物鏡波像差在線檢測裝置不僅能夠在線檢測波像差，還具有測量精度標定功能。
文檔編號G01M11/02GK101813894SQ20101015122
公開日2010年8月25日 申請日期2010年4月16日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月16日
發(fā)明者劉克, 李艷秋, 汪海, 劉麗輝 申請人:北京理工大學(xué)