專利名稱：用于測量設(shè)備的讀頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于測量設(shè)備的讀頭，該測量設(shè)備還包括刻度尺，該讀頭可相對于所述刻度尺移動(dòng)，并且能夠確定所述移動(dòng)。
現(xiàn)有技術(shù)從現(xiàn)有技術(shù)(諸如那些在申請人的專利文獻(xiàn)EP1722200B1和EP1775558A1中公開 的)中已知用于測量設(shè)備的讀頭。所述讀頭可沿平行于所述測量設(shè)備的刻度尺的運(yùn)動(dòng)方向 相對于該刻度尺移動(dòng)，該設(shè)備設(shè)計(jì)成確定所述讀頭沿所述運(yùn)動(dòng)方向相對于所述刻度尺的相 對位置。此類型的讀頭通常包括至少一個(gè)具有確定的周期的刻度光柵；光發(fā)射器，該光發(fā) 射器發(fā)出光束以照亮刻度尺；以及分析器，該分析器接收在所述刻度尺上透射或反射的光 的至少一部分，該分析器能夠從接收的光產(chǎn)生可以用來確定讀頭相對于所述刻度尺的移動(dòng) 的電信號(hào)。例如，如文獻(xiàn)EP0207121B1所述，刻度尺包括多個(gè)周期標(biāo)記并且光發(fā)射器通過刻 度光柵照亮所述刻度尺，刻度光柵和刻度尺之間的相互作用從而產(chǎn)生具有調(diào)制周期的光分 配，光分配相對于刻度尺投射在確定平面中，分析器應(yīng)該設(shè)置在該確定平面的附近。所述投射光分配的周期和產(chǎn)生其的相對于刻度尺的距離取決于刻度光柵的刻度 周期、刻度尺的周期標(biāo)記以及刻度光柵和刻度尺之間的相對距離。另外，已知所述光投射的 區(qū)域的深度與它們的周期成比例，因此分析器在理想位置的定位越臨界(critical)，待由 所述分析器系統(tǒng)分析的投射周期越小。此外，這些類型的設(shè)備中所要求的精確度的需求水平需要刻度光柵和調(diào)制的投射 光分配盡可能接近刻度尺定位或產(chǎn)生。然而，并不總是可以或易于相對于刻度尺在一定距離處設(shè)置分析器，在該刻度尺 處投射光呈現(xiàn)所需的對比度和調(diào)制，無論是因?yàn)橐陨辖o出的理由還是因?yàn)榉治銎鞯奈锢泶?在能夠妨礙照亮刻度尺并且導(dǎo)致不需要的陰影，結(jié)果都必須在更遠(yuǎn)離刻度尺的位置放置所 述分析器。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種用于測量設(shè)備的讀頭，所述讀頭使分析器能夠布置在 任意位置中，所述任意位置允許能夠最佳地投射待在環(huán)境中接收的光，在所述環(huán)境中所述 分析器的布置不會(huì)影響照亮刻度尺或?qū)е虏恍枰年幱?，從而確保維持對此類型的設(shè)備的 精確度要求。本發(fā)明的讀頭包括具有確定周期的刻度光柵；光發(fā)射器，以通過所述刻度光柵照 亮所述設(shè)備的刻度尺，從而產(chǎn)生所述第一刻度光柵和所述刻度尺之間的第一相互作用，所 述第一相互作用產(chǎn)生具有調(diào)制周期的光分配，相對于所述刻度尺在確定距離處觀測所述光 分配，并且當(dāng)所述讀頭相對于所述刻度尺移動(dòng)時(shí)，所述光分配按比例移動(dòng)；以及分析器，以 在由所述發(fā)射器發(fā)出的光在所述刻度尺上透射或反射之后，接收所述光的至少一部分。
本發(fā)明的讀頭還包括第二刻度光柵，所述第二刻度光柵相對于所述刻度尺設(shè)置在基本上等于所述確定距離的第二距離處，并且所述第二刻度光柵包括略微不同于且接近于 所述調(diào)制周期的第二周期，導(dǎo)致在所述第二距離處并且作為所述第二周期和所述調(diào)制周期 之間的空間疊加的結(jié)果，產(chǎn)生光分配，所述光分配與具有基本上大于所述刻度尺的增量周 期的圖像周期的所述刻度尺的圖像對應(yīng)，并且當(dāng)所述讀頭相對于所述刻度尺移動(dòng)時(shí)，所述 光分配按比例移動(dòng)。所述讀頭還包括第三刻度光柵，所述第三刻度光柵具有基本上大于所 述刻度尺的周期的第三周期，所述第三刻度光柵相對于所述第二刻度光柵設(shè)置在其中的平 面以第三距離設(shè)置在所述發(fā)射器和所述第一刻度光柵之間，并且所述第三刻度光柵被所述 光發(fā)射器照亮，從而在所述第三光柵和具有所述圖像周期的所述刻度尺的圖像之間產(chǎn)生第 二相互作用，作為該第二相互作用的結(jié)果，可以得到具有讀出周期的光分配，相對于可以發(fā) 現(xiàn)具有所述圖像周期的所述刻度尺的圖像的平面在確定距離處觀測所述光分配，當(dāng)所述讀 頭相對于所述刻度尺移動(dòng)時(shí)，所述光分配按比例移動(dòng)，所述分析器設(shè)置或大約設(shè)置在獲得 具有所述讀出周期的所述光分配的所述平面中。結(jié)果，相對于設(shè)置有所述第二刻度光柵的所述平面在確定距離處，得到相對于所 述刻度尺移動(dòng)所述讀頭的光圖像的投射。所述分析器設(shè)置在所述位置中或在所述位置的附 近，確保所述分析器接收代表所述讀頭相對于所述刻度尺的移動(dòng)的光，因此得到更遠(yuǎn)離所 述刻度尺的所述分析器的可能的新布置，因此使能夠除去或減小所述分析器的物理存在遮 擋照亮所述刻度尺和/或?qū)е滤隹潭瘸呱系牟恍枰年幱暗娘L(fēng)險(xiǎn)。根據(jù)附圖及其詳述將使發(fā)明的這些和其他優(yōu)點(diǎn)以及特征變得明顯。


圖1示出了本發(fā)明的讀頭的實(shí)施方式；圖2示出了本發(fā)明的讀頭的第一優(yōu)選實(shí)施方式；圖3示出了本發(fā)明的讀頭的第三實(shí)施方式；圖4示出了本發(fā)明的讀頭的第四實(shí)施方式。
具體實(shí)施例方式圖1示出了本發(fā)明的讀頭1的實(shí)施方式，該讀頭1被設(shè)計(jì)成用于在測量設(shè)備100 中使用。所述設(shè)備100除讀頭1之外還包括刻度尺2，該刻度尺2包括具有確定的增量周期 P2沿運(yùn)動(dòng)方向X布置的多個(gè)周期標(biāo)記(圖中未示出)，所述讀頭1可沿基本上平行于所述 刻度尺2的運(yùn)動(dòng)方向X相對于該刻度尺2移動(dòng)。讀頭1包括具有第一周期Pll的第一刻度 光柵11，該第一刻度光柵11相對于刻度尺2設(shè)置在第一距離Zll處；光發(fā)射器10，以通過 刻度光柵11照亮刻度尺2 ；以及分析器140，該分析器40接收透過或反射在刻度尺2上的 光的至少一部分，該分析器40被設(shè)計(jì)成根據(jù)接收到的光產(chǎn)生電信號(hào)，所述電信號(hào)能夠用于 確定讀頭1相對于刻度尺2的移動(dòng)。優(yōu)選地分析器140接收反射在刻度尺2上的光，并且 在下文中詳細(xì)的公開內(nèi)容將涉及這種結(jié)構(gòu)(和圖)。然而，本發(fā)明并不限于這種結(jié)構(gòu)，在分 析器140接收透過所述刻度尺2的光而不是反射在該刻度尺2上的光的情況下，也能夠使 用該結(jié)構(gòu)。當(dāng)讀頭1沿運(yùn)動(dòng)方向X相對于刻度尺2移動(dòng)時(shí)，作為第一刻度光柵11和刻度尺2之間的第一相互作用11的結(jié)果，相對于所述刻度尺2在確定距離Zm處得到光分配，光分配呈現(xiàn)具有調(diào)制周期Pm的調(diào)制，并且當(dāng)讀頭1相對于刻度尺2移動(dòng)時(shí)，該光分配也按比例移 動(dòng)。所述調(diào)制周期Pm和所述確定距離Zm由下列方程式確定<formula>formula see original document page 6</formula><formula>formula see original document page 6</formula>其中P2- >刻度尺2的增量周期。Pll- >第一刻度光柵11的周期。Pm->調(diào)制周期。Zll- >刻度光柵11和刻度尺2之間的距離。Zm- >在產(chǎn)生具有調(diào)制周期Pm的光投射處相對于刻度尺2的距離。η和m- >整數(shù)，優(yōu)選分別與1和_1對應(yīng)。優(yōu)選第一距離Zll也與塔爾博特距離T的整倍數(shù)對應(yīng)，結(jié)果得到以調(diào)制周期Pm調(diào) 制的光的最大對比度。塔爾博特距離T由下列方程式確定T = Pll * P2/(n * m * λ )其中Ρ2- >刻度尺2的增量周期。Pll- >第一刻度光柵11的周期。λ - >由發(fā)射器10發(fā)射的光的波長。η和m- >整數(shù)，優(yōu)選分別與1和_1對應(yīng)。本發(fā)明的讀頭1還包括第二刻度光柵12，該第二刻度光柵12相對于刻度尺2設(shè)置 在基本上等于確定距離Zm的第二距離Z12處，并且該第二刻度光柵12包括略微不同于并 且接近于調(diào)制周期Zm的第二周期P12，結(jié)果是，由于第二周期P12和調(diào)制周期Pm的疊加，相 對于刻度尺2在所述第二距離Z12處得到新的調(diào)制光分配，該新的調(diào)制光分配與所述刻度 尺2的圖像相對應(yīng)但是具有基本上大于所述刻度尺2的增量周期P2的圖像周期Pi，并且當(dāng) 讀頭1相對于刻度尺2移動(dòng)時(shí)，該新的調(diào)制光分配按比例移動(dòng)。所述圖像周期Pi由以下方 程式限定<formula>formula see original document page 6</formula>其中Pi- >刻度尺2的圖像周期。P12- >第二刻度光柵12的周期。Pm->調(diào)制周期。結(jié)果，相對于刻度尺2的讀頭1的增量周期P2的移動(dòng)和所述刻度尺2的圖像的圖 像周期Pi的移動(dòng)相對應(yīng)。讀頭1還包括具有第三周期P13的第三刻度光柵13，該第三周期P13約等于圖象 周期Pi并且基本上大于刻度尺的周期P2，該第三刻度光柵13相對于設(shè)置有第二刻度光柵 12的平面以第三距離Z13設(shè)置在發(fā)射器10和刻度光柵11之間，結(jié)果是由發(fā)射器10發(fā)出并且透過第三光柵13的光與刻度尺2的圖像相互作用，在第二光柵12設(shè)置在其中的平面上得到該相互作用，并且，作為所述第二相互作用12的結(jié)果，得到具有讀出周期Pl的光分配， 相對于設(shè)置有所述第二刻度光柵12的平面在附加距離Zl處觀測該光分配，并且當(dāng)刻度尺2 的圖像移動(dòng)時(shí)該光分配按比例移動(dòng)，進(jìn)而當(dāng)讀頭1相對于刻度尺2移動(dòng)時(shí)該光分配按比例 移動(dòng)。結(jié)果，相對于刻度尺2的讀頭1的增量周期P2的移動(dòng)與讀出周期Pl的移動(dòng)相對應(yīng)。 讀出周期Pl和在此產(chǎn)生所述讀出周期Pl的相對于刻度尺2的圖像的附加距離Zl取決于 第三周期P13、圖像周期Pi以及相對于所述刻度尺2的圖像的第三距離Z13，所述第三刻度 光柵13設(shè)置在該第三距離Z13處<formula>formula see original document page 7</formula><formula>formula see original document page 7</formula>其中Ρ13- >第三刻度光柵13的周期。Pi- >刻度尺的圖像周期。Pl->讀出周期。Ζ13- >第三光柵13和產(chǎn)生刻度尺的圖像的平面之間的距離。Zl- >相對于產(chǎn)生刻度尺的圖像的平面的距離，在該距離處觀測以讀出周期Pl調(diào) 制的光。η'和m’ - >整數(shù)，優(yōu)選分別與1和_1相對應(yīng)。因而設(shè)置有分析器140的特定位置Zl取決于光柵13和刻度尺2的圖像之間的距 離，而不取決于讀頭1和刻度尺2之間的距離。分析器140優(yōu)選包括具有結(jié)構(gòu)光電二極管(圖中未示出)的矩陣的光電探測器裝 置131，該光電探測器裝置131具有特定的第四周期P14，該光電探測器裝置131被設(shè)計(jì)成 接受并且產(chǎn)生來自具有讀出周期Pl的光分配的反映讀頭1的移動(dòng)的電信號(hào)。代替結(jié)構(gòu)光 電二極管的矩陣，所述分析器140還可以包括光電探測器裝置131和具有第四周期P14的 第四刻度光柵14，其中該光電探測器裝置131將它們接收的光轉(zhuǎn)換成電信號(hào)，該電信號(hào)可 以用來確定讀頭1相對于刻度尺2的移動(dòng)，以便將讀出周期Pl調(diào)整為可以由光電探測器裝 置131接受的周期。在圖2所示的第一優(yōu)選實(shí)施方式中，發(fā)射器10傾斜地照亮刻度尺2，并且第一和第 二刻度光柵11和12面向所述刻度尺2。第一刻度光柵11的第一周期Pll優(yōu)選等于刻度尺 2的增量周期P2的兩倍，并且第二周期不同于但接近于所述第一周期P11，相對于刻度尺2 設(shè)置在相同距離Z11、Z12處的光柵11和12形成單個(gè)元件。分析器140還包括根據(jù)第四周 期P14布置的結(jié)構(gòu)光電二極管的矩陣，所述光電二極管的矩陣和第三光柵13相對于產(chǎn)生具 有圖像周期Pi的刻度尺2的圖像的平面設(shè)置在相同距離Z14、Z13處。在所述優(yōu)選實(shí)施方 式中，刻度尺的增量周期P2大約等于20微米且第一周期Pll大約等于40微米，得到40微 米的調(diào)制周期Pm。第二周期P12大約等于34. 5微米，得到大約等于250微米的圖像周期 Pi0第三周期和第四周期P13和P14大約等于500微米。在第二優(yōu)選實(shí)施方式中，第一周期Pll和第二周期P12可以等于且略微不同于并 接近于增量周期P2的兩倍，所述周期Pll和P12能夠小于或大于所述增量周期P2(例如，20微米的增量周期P2以及周期Pll和P12大約等于37或43. 5微米)，周期P13和P14保 持大約等于500微米。當(dāng)然，除了 500微米，它們也可以具有不同周期并且甚至可以相對于 產(chǎn)生具有圖像周期Pi的刻度尺2的圖像的平面放置在不同的距離處。圖3和4示出了本發(fā)明的兩個(gè)其它不同實(shí)施方式。在所述實(shí)施方式中，光垂直地落到刻度尺2上，并且為了實(shí)現(xiàn)光垂直地落到刻度尺2上，讀頭1包括立方體4，優(yōu)選偏振立 方體。第一刻度光柵11和第二刻度光柵12也形成單個(gè)元件，設(shè)置在面向刻度尺2的立方 體4的面上，這些光柵設(shè)置在所述立方體4和所述刻度尺2之間。在圖3所示的第三實(shí)施方式中，分析器140設(shè)置在立方體4的與面向刻度尺2的 面41相反的面42上，并且第三刻度光柵13設(shè)置在所述立方體4的側(cè)面43、44上，發(fā)射器 10面向所述第三刻度光柵13設(shè)置。在圖4所述的第四實(shí)施方式中，第三刻度光柵13設(shè)置在立方體4的與面向刻度尺 2的面41相反的面42上，發(fā)射器10在第三刻度光柵13上的基本垂直面中發(fā)光。分析器 140設(shè)置在所述立方體4的側(cè)面43、44中的一面上。
權(quán)利要求
用于測量設(shè)備的讀頭，所述測量設(shè)備還包括具有增量周期(P2)的刻度尺(2)，所述讀頭(1)可沿基本上平行于所述刻度尺(2)的運(yùn)動(dòng)方向(X)相對于該刻度尺(2)移動(dòng)，并且所述讀頭(1)包括具有確定的光柵周期(P11)的第一刻度光柵(11)，所述第一刻度光柵(11)相對于所述刻度尺(2)設(shè)置在第一距離(Z1)處，光發(fā)射器(10)，所述光發(fā)射器(10)通過所述第一刻度光柵(11)照亮所述刻度尺(2)，在所述第一刻度光柵(11)和所述刻度尺(2)之間產(chǎn)生第一相互作用(11)，所述第一相互作用(11)因此給出具有調(diào)制周期(Pm)的光分配，相對于所述刻度尺(2)在確定距離(Zm)處觀測所述光分配，并且當(dāng)所述讀頭(1)相對于所述刻度尺(2)移動(dòng)時(shí)所述光分配按比例移動(dòng)，以及分析器(140)，所述分析器(140)適合于根據(jù)該分析器(140)接收的光產(chǎn)生代表所述移動(dòng)的電信號(hào)，其特征在于所述讀頭(1)還包括第二刻度光柵(12)，所述第二刻度光柵(12)具有不同于且接近于所述調(diào)制周期(Pm)的第二光柵周期(P12)，所述第二刻度光柵(12)相對于所述刻度尺(2)設(shè)置在基本上等于所述確定距離(Zm)的第二距離(Z12)處，導(dǎo)致在所述第二距離(Z12)處并且作為所述第二周期(P12)和所述調(diào)制周期(Pm)之間的空間疊加的結(jié)果，新的光分配與具有基本上大于所述刻度尺(2)的所述增量周期(P2)的圖像周期(Pi)的所述刻度尺(2)的圖像相對應(yīng)，并且當(dāng)所述讀頭(1)相對于所述刻度尺(2)移動(dòng)時(shí)所述新的光分配按比例移動(dòng)，所述讀頭(1)還包括第三刻度光柵(13)，所述第三刻度光柵(13)具有基本上大于所述刻度尺(2)的所述增量周期(P2)的第三周期(P13)，所述第三刻度光柵(13)相對于設(shè)置所述第二刻度光柵(12)的平面以第三距離(Z13)設(shè)置在所述發(fā)射器(10)和所述第一刻度光柵(11)之間，并且所述第三刻度光柵(13)被所述光發(fā)射器(10)照亮，從而在所述第三光柵(13)和具有圖像周期(Pi)的被投射到所述第二刻度光柵(12)上的所述刻度尺(2)的圖像之間產(chǎn)生第二相互作用(12)，作為所述第二相互作用(12)的結(jié)果得到具有讀出周期(P1)的光分配，相對于產(chǎn)生具有圖像周期(Pi)的所述刻度尺(2)的圖像的所述平面在確定距離(Z1)處觀測所述光分配，并且當(dāng)所述讀頭(1)相對于所述刻度尺(2)移動(dòng)時(shí)所述光分配按比例移動(dòng)，所述分析器(140)設(shè)置在或近似設(shè)置在得到具有所述讀出周期(P1)的所述光分配的平面中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的讀頭，其中，所述第一刻度光柵(11)和所述第二刻度光柵 (12)相對于所述刻度尺(2)設(shè)置在相同距離(Z11，Z12)處。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的讀頭，其中，所述第一刻度光柵(11)的所述光柵周期(Pll) 等于所述刻度尺(2)的所述增量周期(P2)的兩倍，并且所述第二刻度光柵(12)的所述第 二周期(P12)不同于且接近于所述第一刻度光柵(11)的所述周期(Pll)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的讀頭，其中，所述第二周期(P12)小于所述第一刻度光柵 (11)的所述周期(Pll)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的讀頭，其中，所述增量周期(P2)大約等于20微米，所述第一 刻度光柵(11)的所述光柵周期(Pll)大約等于40微米，并且所述第二周期(P12)大約等于34. 5微米。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的讀頭，其中，所述第一刻度光柵(11)的所述周期(Pll)和所 述第二刻度光柵(12)的所述第二周期(P12)彼此相等并且不同于并接近于所述增量周期 (P2)的兩倍。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的讀頭，其中，所述第一刻度光柵(11)和所述第 二刻度光柵(12)形成單個(gè)元件。
8.根據(jù)權(quán)利要求2至7中的任一項(xiàng)所述的讀頭，其中，所述第一距離(Zll)是等于由方 程式Τ = Ρ11*Ρ2/(η*πι*λ)限定的塔爾博特距離(T)的整數(shù)倍，其中λ對應(yīng)于由所述光發(fā) 射器(10)發(fā)射的光的波長，η和m對應(yīng)于整數(shù)，Ρ2為所述刻度尺(2)的所述增量周期(P2)， Pll為所述第一刻度光柵(11)的所述光柵周期(Pll)。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的讀頭，其中，所述第三光柵(13)的所述第三周 期(P13)等于所述圖像周期(Pi)的兩倍，并且所述分析器(140)和所述第三光柵(13)相對 于產(chǎn)生具有所述圖像周期(Pi)的所述刻度尺(2)的圖像的所述平面設(shè)置在相同距離(Z13， Z14)處。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的讀頭，其中，所述分析器(140)包括光電探測器裝置(131)， 所述光電探測器裝置(131)具有有特定的第四周期(P14)的結(jié)構(gòu)光電二極管的矩陣，所述 光電探測器裝置(131)適合于根據(jù)它們接收的光接受和產(chǎn)生電信號(hào)。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的讀頭，其中，所述發(fā)射器(10)的布置使所述 光能夠傾斜地落到所述刻度尺(2)上，并且其中所述第一和第二刻度光柵(11，12)面向所 述刻度尺(2)，所述第二光柵(12)接收反射在所述刻度尺(2)上的光。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至9中的任一項(xiàng)所述的讀頭，其中，所述光以基本上豎直的方式 落在所述刻度尺(2)上，所述讀頭(1)包括偏振立方體(4)，并且所述第一和第二刻度光柵 (11，12)設(shè)置在面向所述刻度尺(2)的所述立方體(4)的第一面(41)上，所述第三刻度光 柵(13)設(shè)置在面向所述發(fā)射器(10)的所述立方體(4)的側(cè)面(43，44)上，并且所述分析 器(140)設(shè)置在與所述立方體(4)的所述第一面(41)相反的第二面(42)上。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至9中的任一項(xiàng)所述的讀頭，其中，所述光以基本上豎直的方式 落到所述刻度尺(2)上，所述讀頭(1)包括偏振立方體(4)，并且所述第一和第二刻度光柵 (11，12)設(shè)置在面向所述刻度尺(2)的所述立方體(4)的第一面(41)上，所述第三刻度光 柵(13)設(shè)置在與所述立方體(4)的所述第一面(41)相反的第二面(42)上并且面向所述 發(fā)射器(10)，并且所述分析器(140)設(shè)置在所述立方體(4)的側(cè)面(43，44)上。
14.測量設(shè)備，所述測量設(shè)備包括刻度尺(2)，其特征在于，所述測量設(shè)備還包括根據(jù) 前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的讀頭(1)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種用于測量設(shè)備的讀頭，所述讀頭包括刻度光柵(11)，和用于通過所述光柵(11)照亮刻度尺(2)的光發(fā)射器(10)。所述讀頭可相對于所述刻度尺(2)移動(dòng)，在所述刻度尺(2)和所述光柵(11)之間的第一相互作用之后，在相對于所述刻度尺(2)的確定距離處的平面中得到具有調(diào)制周期的光分配。在所述平面中，設(shè)置具有不同于但接近于所述調(diào)制周期的周期的光柵(12)，作為所述光柵(12)和所述調(diào)制周期之間的疊加的結(jié)果，得到對應(yīng)于所述刻度尺(2)的圖像的具有圖像周期的新的光分配。所述讀頭(1)還包括和所述圖像相互作用的另一個(gè)光柵(13)。
文檔編號(hào)G01D7/00GK101825482SQ20101012413
公開日2010年9月8日 申請日期2010年3月1日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月2日
發(fā)明者喬斯·埃米利奧·歐緹·岡薩雷斯, 帕布羅·德拉豐特·普拉多, 托馬斯·莫拉安斯·卡爾沃 申請人:菲高公司