專利名稱：光學(xué)透明狹縫及帶有光學(xué)透明狹縫的分光儀的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種光學(xué)檢測(cè)儀器，具體涉及一種光學(xué)透明狹縫。本發(fā)明還涉及
一種帶有光學(xué)透明狹縫的分光儀。
背景技術(shù)：
近年來線陣列、面陣列的探測(cè)器廣泛應(yīng)用到光譜儀及分光光度計(jì)上，使光譜儀、分 光光度計(jì)在各個(gè)領(lǐng)域內(nèi)日益發(fā)揮著重要作用。這種帶有陣列探測(cè)器的光譜儀或分光光度計(jì) 需要使用到狹縫(slit)，狹縫是決定儀器分辨率指標(biāo)的重要零件。 目前廣泛使用的狹縫包括一厚度為80 100微米的基片，基片上開具有一定規(guī) 格、一定形狀的細(xì)縫，該細(xì)縫的尺寸最終決定了儀器的分辨率。這種狹縫的制作方法是通過 蝕刻或激光切等方法在平整的金屬基片上產(chǎn)生所需要的細(xì)縫，不僅加工成本高，而且細(xì)縫 的邊緣質(zhì)量較差。 此外，這種狹縫還存在以下缺點(diǎn) 1、由于該狹縫的細(xì)縫寬度非常窄，一旦細(xì)縫內(nèi)落入極小的雜質(zhì)，清理這些雜質(zhì)將 非常困難，這些雜質(zhì)會(huì)影響到儀器的響應(yīng)度且對(duì)分辨率產(chǎn)生影響。 2、該狹縫的厚度很薄(80 100微米)，而狹縫的基片一般采用平整金屬材料制 成，儀器安裝過程中很容易破壞狹縫的表面平面度，進(jìn)而影響?yīng)M縫的質(zhì)量。由于狹縫的質(zhì)量 不高，會(huì)惡化在陣列探測(cè)器上的成像質(zhì)量，從而影響到儀器的分辨率，為消除這些不利影響 一般還要通過其它的方法進(jìn)行校正。 3、該狹縫的細(xì)縫使光譜儀的外部環(huán)境與內(nèi)部環(huán)境是相通的，在某些使用環(huán)境中外 部環(huán)境會(huì)對(duì)內(nèi)部的光學(xué)器件、陣列探測(cè)器以及電路造成損壞，限制了光譜儀的應(yīng)用范圍。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種光學(xué)透明狹縫，它可以改善成像質(zhì) 量，降低加工成本。 為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型光學(xué)透明狹縫的技術(shù)解決方案為 包括光學(xué)透明基片，光學(xué)透明基片包括透光區(qū)域和非透光區(qū)域，非透光區(qū)域的一
面或兩面分別鍍有金屬膜；所述透光區(qū)域的寬度不大于0. 5mm。 所述金屬膜的膜層厚度為2 5微米。 所述非透光區(qū)域的邊緣設(shè)有定位缺口。 本實(shí)用新型還提供一種帶有光學(xué)透明狹縫的分光儀，其技術(shù)解決方案為 包括陣列探測(cè)器、光學(xué)透明狹縫、分光光學(xué)及其機(jī)械模塊，光線從光學(xué)透明狹縫進(jìn)
入分光光學(xué)及其機(jī)械模塊的光學(xué)空間，在陣列探測(cè)器上成像。 所述分光光學(xué)及其機(jī)械模塊與光學(xué)透明狹縫形成密閉空間。 所述分光光學(xué)及其機(jī)械模塊的光學(xué)空間內(nèi)充填有保護(hù)性氣體。
本實(shí)用新型可以達(dá)到的技術(shù)效果是[0018] 本實(shí)用新型光學(xué)透明狹縫的透光區(qū)域?yàn)榉忾]式，不存在任何細(xì)縫，維護(hù)更加方便， 封閉性更好，應(yīng)用領(lǐng)域大，使用壽命長。 本實(shí)用新型光學(xué)透明狹縫的透光區(qū)域邊緣質(zhì)量高，在陣列探測(cè)器上的成像質(zhì)量 好，能夠提高分光儀的像質(zhì)。 本實(shí)用新型光學(xué)透明狹縫的透光區(qū)域的制造方法簡單，制造成本低。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)

圖1是本實(shí)用新型光學(xué)透明狹縫的示意圖； 圖2是本實(shí)用新型的剖面圖3是本實(shí)用新型帶有光學(xué)透明狹縫的分光儀的示意圖 圖中附圖標(biāo)記說明
2為透光區(qū)域， ll為光學(xué)透明基片， 13為感光膠， 6為殼體， 8為光學(xué)空間。
步詳細(xì)的說明
1為非透光區(qū)域，
3為定位缺口，
12為金屬膜，
10為光學(xué)透明狹縫，
7為陣列探測(cè)器，
具體實(shí)施方式如圖1、圖2所示，本實(shí)用新型光學(xué)透明狹縫，包括光學(xué)透明基片11，光學(xué)透明基片 11包括透光區(qū)域2、非透光區(qū)域l，非透光區(qū)域1的兩面分別鍍有一層完全不透光的金屬膜 12。 透光區(qū)域2的寬度不大于0. 5mm。透光區(qū)域2的寬度決定了光譜儀的分辨率。 光學(xué)透明基片11可以是玻璃、石英、硅片等在UV到IR區(qū)域內(nèi)透光的光學(xué)透明材 料。 金屬膜12的膜層厚度為2 5微米。 非透光區(qū)域1的邊緣設(shè)有定位缺口 3，定位缺口 3用于定位光學(xué)透明狹縫的方向， 以利于調(diào)試的方便。 也可在非細(xì)縫區(qū)域1的一面鍍有一層完全不透光的金屬膜12。鍍有金屬膜12的 一面為光學(xué)透明狹縫的工作面。 本實(shí)用新型透光區(qū)域2的制作方法是在金屬膜12上涂上一層感光膠13，通過掩 膜版對(duì)涂有感光膠13的基片進(jìn)行曝光(掩膜版的形狀與細(xì)縫區(qū)域2的形狀相同)，再將整 個(gè)基片放入腐蝕液中將透光區(qū)域2的金屬膜12去掉而形成的；最后將感光膠13去除。 這種形成透光區(qū)域2的方法，不僅方法簡單，能夠大幅降低光學(xué)透明狹縫的成本， 進(jìn)而降低分光儀的成本；而且所形成的透光區(qū)域2的邊緣質(zhì)量很高，因此本實(shí)用新型光學(xué) 透明狹縫10在陣列探測(cè)器7上的成像質(zhì)量更好，能夠提高分光儀的像質(zhì)。 如圖3所示，本實(shí)用新型帶有光學(xué)透明狹縫的分光儀，包括陣列探測(cè)器7、光學(xué)透 明狹縫10、分光光學(xué)及其機(jī)械模塊的殼體6，殼體6內(nèi)設(shè)置陣列探測(cè)器7，殼體6外壁設(shè)置光 學(xué)透明狹縫10。光線從光學(xué)透明狹縫IO進(jìn)入分光光學(xué)及其機(jī)械模塊的光學(xué)空間8，最終在
4陣列探測(cè)器7上成像。 本實(shí)用新型光學(xué)透明狹縫10的透光區(qū)域2為封閉式(透光區(qū)域2為光學(xué)透明基 片11的一部分)，不存在任何細(xì)縫，維護(hù)更加方便，封閉性更好，可使分光儀內(nèi)部的光學(xué)空 間8與外界隔絕，保護(hù)分光儀內(nèi)部的光學(xué)器件，使分光儀能夠在潮濕環(huán)境中使用，使用壽命 更長。 由于分光儀內(nèi)部的光學(xué)空間8與外界隔絕，可在光學(xué)空間8內(nèi)充填特殊的保護(hù)性
氣體(如惰性氣體、氮?dú)獾?以保護(hù)光學(xué)器件，擴(kuò)大了陣列光譜儀的應(yīng)用領(lǐng)域。 本實(shí)用新型光學(xué)透明狹縫10可用于光譜儀、分光光度計(jì)、單色儀等分光儀器上。
權(quán)利要求一種光學(xué)透明狹縫，其特征在于包括光學(xué)透明基片，光學(xué)透明基片包括透光區(qū)域和非透光區(qū)域，非透光區(qū)域的一面或兩面分別鍍有金屬膜；所述透光區(qū)域的寬度不大于0.5mm。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)透明狹縫，其特征在于所述金屬膜的膜層厚度為2 5微米。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)透明狹縫，其特征在于所述非透光區(qū)域的邊緣設(shè)有定位缺口。
4. 一種帶有權(quán)利要求1至3所述的光學(xué)透明狹縫的分光儀，其特征在于包括陣列探測(cè)器、光學(xué)透明狹縫、分光光學(xué)及其機(jī)械模塊，光線從光學(xué)透明狹縫進(jìn)入分光光學(xué)及其機(jī)械模塊的光學(xué)空間，在陣列探測(cè)器上成像。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的帶有光學(xué)透明狹縫的分光儀，其特征在于所述分光光學(xué)及其機(jī)械模塊與光學(xué)透明狹縫形成密閉空間。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的帶有光學(xué)透明狹縫的分光儀，其特征在于所述分光光學(xué)及其機(jī)械模塊的光學(xué)空間內(nèi)充填有保護(hù)性氣體。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種光學(xué)透明狹縫，包括光學(xué)透明基片，光學(xué)透明基片包括透光區(qū)域和非透光區(qū)域，非透光區(qū)域的一面或兩面分別鍍有金屬膜；所述透光區(qū)域的寬度不大于0.5mm。所述金屬膜的膜層厚度為2～5微米。本實(shí)用新型光學(xué)透明狹縫的透光區(qū)域?yàn)榉忾]式，不存在任何細(xì)縫，維護(hù)更加方便，封閉性更好，應(yīng)用領(lǐng)域大，使用壽命長。本實(shí)用新型光學(xué)透明狹縫的透光區(qū)域邊緣質(zhì)量高，在陣列探測(cè)器上的成像質(zhì)量好，能夠提高分光儀的像質(zhì)。本實(shí)用新型光學(xué)透明狹縫的透光區(qū)域的制造方法簡單，制造成本低。本實(shí)用新型還公開了一種帶有光學(xué)透明狹縫的分光儀。
文檔編號(hào)G01J3/00GK201488810SQ200920074459
公開日2010年5月26日 申請(qǐng)日期2009年9月3日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月3日
發(fā)明者江道國 申請(qǐng)人:必達(dá)泰克光電設(shè)備(上海)有限公司