專利名稱：待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種檢測(cè)治具，特別是指一種待測(cè)物體共平面度 的檢測(cè)治具。
背景技術(shù)：
圖1顯示以往一種沖壓成型的隔離罩11 (EMI shielding),常用于電 子產(chǎn)品，可以隔離電磁波。所述隔離罩11包含一固定底面111，所述 固定底面111需要較高的平整度才可利用表面粘著(surface-mount device,簡(jiǎn)稱SMD)的方式固定在電路板上。
參閱圖2，以往測(cè)試所述固定底面lll是否平整時(shí)，是將所述隔離 罩11放置于一平臺(tái)12上，并在不對(duì)所述隔離罩11施加外力下，以一 張如名片般厚度的薄片13，沿所述隔離罩11四周測(cè)試是否可以插入， 若可以插入代表所述隔離罩11平整度不夠，若無法插入代表所述隔離 罩11平整度合格。在此種方試的測(cè)試下， 一般設(shè)定的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)為所述 固定底面任何一個(gè)地方與所述平臺(tái)12的間距51不得大于O.lmm，然 而這種測(cè)試方式具有以下缺陷
一、 此種檢測(cè)方式是以人工檢査，每一件隔離罩11需要多次的插 入動(dòng)作才能檢測(cè)完成，需要較大量的人力來篩選，具有浪費(fèi)人力的缺 陷。
二、 因?yàn)樾枰^多的人力，通常工廠都是以抽樣檢査，如此良率 的高低將視抽檢的頻率而定，在有限的成本考慮上，很難每件隔離罩 ll都檢查，況且以插入薄片13方試檢測(cè)平整度，只有測(cè)試插入處是否 平整，所述固定底面111若有其它的地方不平，仍有可能疏漏而沒測(cè) 出，難以提升良率，具有良率不佳的缺陷。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種得以減少檢測(cè)所需人力及提升良
率的待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具。
本實(shí)用新型提供的待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具適用于檢測(cè)一待
測(cè)物體的共平面度；其包含一量測(cè)臺(tái)、 一發(fā)光源及一導(dǎo)光件。
所述量測(cè)臺(tái)呈中空且不透光，并包括一呈環(huán)繞的量測(cè)內(nèi)周面，及 一形成于所述量測(cè)臺(tái)頂緣并供所述待測(cè)物體放置的基準(zhǔn)平面。所述量 測(cè)內(nèi)周面界定出一容室，所述發(fā)光源設(shè)置于所述量測(cè)臺(tái)，并能發(fā)出光 線穿過所述容室。所述導(dǎo)光件設(shè)置于所述量測(cè)臺(tái)，并位于所述容室頂 端，且供所述待測(cè)物體蓋置其外，所述導(dǎo)光件將所述發(fā)光源所發(fā)出的 光散射至所述待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)平面的交界處。
本實(shí)用新型以光學(xué)方式來測(cè)試所述待測(cè)物體的共平面度，借此減 少檢測(cè)所需人力及提升良率，其具有以下功效
一、 利用所述待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具以光學(xué)方式來檢測(cè)， 每一件待測(cè)物體不再需要多次人工的插入檢測(cè)動(dòng)作，改以人眼觀察間
距54所占的刻度大小，或是交由電腦軟件運(yùn)算即可馬上判別出不良品，
因此可以達(dá)到節(jié)省檢測(cè)所需人力的功效。
二、 利用光學(xué)方式來檢測(cè)待測(cè)物體，步驟少且可以自動(dòng)化的一次 就完整檢測(cè)出所述待測(cè)物體四周底面是否平整，因此可以用來檢測(cè)工 廠所生產(chǎn)的所有待測(cè)物體，少了抽樣誤差的變因，良率可以大大的提 升，達(dá)到良率較佳的功效。


下面通過最佳實(shí)施例及附圖對(duì)本實(shí)用新型待測(cè)物體共平面度的檢 測(cè)治具進(jìn)行詳細(xì)說明，附圖中-
圖1是一立體圖，說明以往的一種隔離罩；
圖2是一側(cè)視圖，說明以往一薄片測(cè)試所述隔離罩的一固定底面 是否平整；
圖3是一立體分解圖，說明本實(shí)用新型待測(cè)物體共平面度的檢測(cè) 治具的第一較佳實(shí)施例；
圖4是所述第一較佳實(shí)施例的局部剖視圖，說明各個(gè)元件的結(jié)合 關(guān)系；
圖5是圖4的一局部放大圖，說明一待測(cè)物體與一基準(zhǔn)平面的交 界處；及
圖6是一立體分解圖，說明本實(shí)用新型待測(cè)物體共平面度的檢測(cè) 治具的第二較佳實(shí)施例。
具體實(shí)施方式
在本實(shí)用新型被詳細(xì)描述前，要注意的是，在以下的說明內(nèi)容中， 類似的元件是以相同的編號(hào)來表示。
參閱圖3、圖4、圖5，本實(shí)用新型待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具 的第一較佳實(shí)施例適用于檢測(cè)一待測(cè)物體91的共平面度，在本第一較 佳實(shí)施例中，所述待測(cè)物體91即是隔離罩，所述待測(cè)物體共平面度的 檢測(cè)治具包含一量測(cè)臺(tái)3、 一發(fā)光源4及一導(dǎo)光件5。
所述量測(cè)臺(tái)3呈中空且不透光，并包括一呈環(huán)繞的量測(cè)內(nèi)周面31、 一形成于所述量測(cè)臺(tái)3頂緣并供所述待測(cè)物體91放置的基準(zhǔn)平面32、 一支撐面33及一側(cè)抵面34。所述量測(cè)內(nèi)周面31界定出一容室35，所 述量測(cè)內(nèi)周面31、支撐面33、側(cè)抵面34與基準(zhǔn)平面32依序相互連接， 所述量測(cè)內(nèi)周面31與所述側(cè)抵面34實(shí)質(zhì)上皆呈直立，所述支撐面33 與所述基準(zhǔn)平面32實(shí)質(zhì)上皆呈水平，所述導(dǎo)光件5底面受所述支撐面 33支撐，且所述導(dǎo)光件5側(cè)面抵靠于所述側(cè)抵面34。
所述發(fā)光源4設(shè)置于所述量測(cè)臺(tái)3底部，并能發(fā)出光線穿過所述 容室35，所述發(fā)光源4包括一設(shè)置于所述量測(cè)臺(tái)3底面的電路基板41 ， 及多顆設(shè)置于所述電路基板41頂面的發(fā)光二極管42。
所述導(dǎo)光件5位于所述容室35頂端，且供所述待測(cè)物體91蓋置 其外。所述導(dǎo)光件5的長(zhǎng)、寬的尺寸小于所述待測(cè)物體91內(nèi)緣長(zhǎng)、寬 一寬度差預(yù)設(shè)值S2(0.2mm)，所述導(dǎo)光件5高于所述基準(zhǔn)平面32的高 度小于所述待測(cè)物體91內(nèi)緣高度一高度差預(yù)設(shè)值S3(0.5mm)。所述導(dǎo) 光件5包括一透明壓克力所制成的透光板51，及一錫箔52，所述錫箔 52貼于所述透光板51頂面，且所述錫箔6的反光面朝向所述發(fā)光源4， 使得所述導(dǎo)光件5的頂面無法透光，所述導(dǎo)光件5將所述發(fā)光源4所 發(fā)出的光散射至所述待測(cè)物體91與所述基準(zhǔn)平面32的交界處6。
在量測(cè)時(shí)，可在所述待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具四周設(shè)置鏡子 92，并在上方設(shè)置一臺(tái)攝影機(jī)93，所述攝影機(jī)93能抓取所述鏡子92
中畫面并內(nèi)含感光元件(電荷耦合元件Charge Coupled Device,簡(jiǎn)稱 CCD)。借此，所述攝影機(jī)93能抓取到所述待測(cè)物體91與所述基準(zhǔn)平 面32的交界處6漏光的畫面，并以電腦分析所述抓取的畫面，借以判 斷所述待測(cè)物體91與所述基準(zhǔn)平面32的間距54是否不大于O.lmm， 并將所述間距S4大于0.1mm的不良品挑出。其中，"將所述待測(cè)物體 91裝上所述待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具，再利用CCD截取畫面以供 判斷及量測(cè)"的自動(dòng)化方式非關(guān)本實(shí)用新型的重點(diǎn)，故在此不再贅述其 步驟與細(xì)節(jié)。
如上述，本實(shí)用新型待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具具有以下功效:
一、 利用所述待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具以光學(xué)方式來檢測(cè)， 每一件待測(cè)物體91不再需要多次人工的插入檢測(cè)動(dòng)作，改以人眼觀察 間距54所占的刻度大小，或是交由電腦軟件運(yùn)算即可馬上判別出不良 品，因此可以達(dá)到節(jié)省檢測(cè)所需人力的功效。
二、 利用光學(xué)方式來檢測(cè)待測(cè)物體91，步驟少且可以自動(dòng)化的一 次就完整檢測(cè)出所述待測(cè)物體91四周底面是否平整，因此可以用來檢 測(cè)工廠所生產(chǎn)的所有待測(cè)物體91，少了抽樣誤差的變因，良率可以大 大的提升，達(dá)到良率較佳的功效。
參閱圖6，本實(shí)用新型待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具的第二較佳實(shí) 施例大致與所述第一較佳實(shí)施例相同，其不同處在于所述導(dǎo)光件5為 不透明材料(金屬)所制成，所述導(dǎo)光件5具有一擋光板53，及多個(gè)自 所述擋光板底面朝下延伸的腳柱54，所述發(fā)光二極管42發(fā)出的光經(jīng)過 擋光板53擋住散射后，穿過該些腳柱之間55，再經(jīng)由所述待測(cè)物體 91與所述基準(zhǔn)平面32的交界處6(如圖3所示)透出，借此達(dá)到上述的 功效。
權(quán)利要求1、一種待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具，適用于檢測(cè)一待測(cè)物體的共平面度；其特征在于，包含一個(gè)中空且不透光的量測(cè)臺(tái)，所述量測(cè)臺(tái)包括一呈環(huán)繞的量測(cè)內(nèi)周面，及一形成于所述量測(cè)臺(tái)頂緣并供所述待測(cè)物體放置的基準(zhǔn)平面，所述量測(cè)內(nèi)周面界定出一容室；一個(gè)發(fā)光源，設(shè)置于所述量測(cè)臺(tái)，并能發(fā)出光線穿過所述容室；及一個(gè)導(dǎo)光件，設(shè)置于所述量測(cè)臺(tái)，并位于所述容室頂端，且供所述待測(cè)物體蓋置其外，所述導(dǎo)光件將所述發(fā)光源所發(fā)出的光散射至所述待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)平面的交界處。
2、 如權(quán)利要求1所述的待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具，其特征在 于所述導(dǎo)光件包含一透光板，及一貼于所述透光板頂面的錫箔，所 述錫箔的反光面朝向所述發(fā)光源。
3、 如權(quán)利要求2所述的待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具，其特征在 于所述透光板為透明壓克力所制成，且所述導(dǎo)光件的長(zhǎng)、寬的尺寸 小于所述待測(cè)物體內(nèi)緣長(zhǎng)、寬一寬度差預(yù)設(shè)值，所述導(dǎo)光件高于所述 基準(zhǔn)平面的高度小于所述待測(cè)物體內(nèi)緣高度一高度差預(yù)設(shè)值。
4、 如權(quán)利要求3所述的待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具，其特征在 于所述量測(cè)臺(tái)還具有一支撐面及一側(cè)抵面，所述量測(cè)內(nèi)周面、支撐 面、側(cè)抵面與基準(zhǔn)平面依序相互連接，所述量測(cè)內(nèi)周面與所述側(cè)抵面 實(shí)質(zhì)上皆呈直立，所述支撐面與所述基準(zhǔn)平面實(shí)質(zhì)上皆呈水平，所述 導(dǎo)光件底面受所述支撐面支撐，且所述導(dǎo)光件側(cè)面抵靠于所述側(cè)抵面。
5、 如權(quán)利要求4所述的待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具，其特征在 于所述發(fā)光源包括一設(shè)置于所述量測(cè)臺(tái)底面的電路基板，及多顆設(shè) 置于所述電路基板頂面的發(fā)光二極管。
6、 如權(quán)利要求1所述的待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具，其特征在 于所述導(dǎo)光件為不透明材料所制成，所述導(dǎo)光件具有一擋光板，及 多個(gè)自所述擋光板底面朝下延伸的腳柱，所述發(fā)光源發(fā)出的光經(jīng)過擋 光板擋住散射后，穿過所述腳柱之間。
7、 如權(quán)利要求6所述的待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具，其特征在 于所述導(dǎo)光件長(zhǎng)、寬的尺寸小于所述待測(cè)物體內(nèi)緣長(zhǎng)、寬一寬度差 預(yù)設(shè)值，所述導(dǎo)光件高于所述基準(zhǔn)平面的高度小于所述待測(cè)物體內(nèi)緣 高度一高度差預(yù)設(shè)值。
8、 如權(quán)利要求7所述的待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具，其特征在 于所述量測(cè)臺(tái)還具有一支撐面及一側(cè)抵面，所述量測(cè)內(nèi)周面、支撐 面、側(cè)抵面與基準(zhǔn)平面依序相互連接，所述量測(cè)內(nèi)周面與所述側(cè)抵面 實(shí)質(zhì)上皆呈直立，所述支撐面與所述基準(zhǔn)平面實(shí)質(zhì)上皆呈水平，所述 導(dǎo)光件底面受所述支撐面支撐，且所述導(dǎo)光件側(cè)面抵靠于所述側(cè)抵面。
9、 如權(quán)利要求8所述的待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具，其特征在 于所述發(fā)光源包括一設(shè)置于所述量測(cè)臺(tái)底面的電路基板，及多顆設(shè) 置于所述電路基板頂面的發(fā)光二極管。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種待測(cè)物體共平面度的檢測(cè)治具，包含一量測(cè)臺(tái)、一發(fā)光源及一導(dǎo)光件。所述量測(cè)臺(tái)呈中空且不透光，并包括一呈環(huán)繞的量測(cè)內(nèi)周面，及一形成于所述量測(cè)臺(tái)頂緣并供一待測(cè)物體放置的基準(zhǔn)平面。量測(cè)內(nèi)周面界定出一容室，發(fā)光源設(shè)置于量測(cè)臺(tái)，并能發(fā)出光線穿過所述容室。導(dǎo)光件設(shè)置于量測(cè)臺(tái)，并位于所述容室頂端，且供待測(cè)物體蓋置其外。借此達(dá)到以光學(xué)方式來測(cè)試待測(cè)物體的共平面度，減少檢測(cè)所需人力及提升良率的功效。
文檔編號(hào)G01B11/30GK201184787SQ20082000762
公開日2009年1月21日 申請(qǐng)日期2008年3月31日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月31日
發(fā)明者許華山 申請(qǐng)人:洋亨企業(yè)有限公司