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電子經(jīng)緯儀空間坐標(biāo)測量系統(tǒng)校準(zhǔn)用靶標(biāo)、底座和基準(zhǔn)尺的制作方法

文檔序號:5840831閱讀:443來源:國知局
專利名稱:電子經(jīng)緯儀空間坐標(biāo)測量系統(tǒng)校準(zhǔn)用靶標(biāo)、底座和基準(zhǔn)尺的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于幾何量計(jì)量儀器校準(zhǔn)的靶標(biāo)、底座和基準(zhǔn)尺,尤 其涉及對電子經(jīng)緯儀坐標(biāo)測量系統(tǒng)等空間大尺寸測量儀器進(jìn)行校準(zhǔn) 的靶標(biāo)、底座和基準(zhǔn)尺。
背景技術(shù)
空間大尺寸測量儀器種類很多,包括經(jīng)緯儀測量系統(tǒng),激光測量 系統(tǒng),攝影測量系統(tǒng)等,各類儀器測量原理不同,不同的測量原理導(dǎo) 致了對其測量精確度評價(jià)的不同方法,因而空間大尺寸測量儀器的校 準(zhǔn)長期以來都沒有完全成形的標(biāo)準(zhǔn)。
國家《JJG425-2003光學(xué)經(jīng)緯儀檢定規(guī)程》和《JJG100-2003全
站型電子速測儀檢定規(guī)程》中,對單臺經(jīng)緯儀角度測量的校準(zhǔn)進(jìn)行了 規(guī)定,而由多臺電子經(jīng)緯儀組成測量系統(tǒng)的空間坐標(biāo)測量的校準(zhǔn)卻未 作規(guī)定。
在大尺寸測量儀器中,目前研究較多的是有關(guān)激光跟蹤儀的校準(zhǔn) 方法,中國計(jì)量科學(xué)研究院編寫的《基于激光的球坐標(biāo)測量系統(tǒng)的性 能評價(jià)(征求意見稿)》、航空304所編寫的《大尺寸測量系統(tǒng)-激光 跟蹤儀校準(zhǔn)規(guī)范(報(bào)批稿)》,都對激光跟蹤儀的校準(zhǔn)做出了規(guī)定,其 測量方案如附圖13所示,其中使用了激光干涉儀110,參考鏡120, 激光跟蹤儀130,靶鏡140,長導(dǎo)軌150等,主要步驟如下
步驟l.準(zhǔn)備測量設(shè)施,包括激光干涉儀、直線度很好的長導(dǎo)軌、激光跟蹤儀;
步驟2.將激光干涉儀置于長導(dǎo)軌的一端,被校準(zhǔn)的激光跟蹤儀位 于長導(dǎo)軌一側(cè),與長導(dǎo)軌橫向拉開距離H;
步驟3.使靶鏡沿導(dǎo)軌移動(dòng),根據(jù)校準(zhǔn)需要改變靶鏡的移動(dòng)距離, 并調(diào)整激光跟蹤儀的高度和與長導(dǎo)軌間的距離H,同時(shí)由激光干涉儀 和激光跟蹤儀分別測得靶鏡移動(dòng)的距離;
步驟4.將激光干涉儀的測量結(jié)果作為參考值,計(jì)算激光跟蹤儀相 對于激光干涉儀的測量偏差;
lt匕夕卜,美國國家標(biāo)7隹《Performance Evaluation of Laser Based Spherical Coordinate Measurement Systems》對激光跟蹤儀的校準(zhǔn)進(jìn)行 了描述,測量方案如附圖14所示,其中使用了基準(zhǔn)軸21,目標(biāo)基準(zhǔn) 22,兩個(gè)基準(zhǔn)目標(biāo)a和b,主要步驟如下
歩驟l.準(zhǔn)備測量設(shè)施,包括基準(zhǔn)尺、激光跟蹤儀;
步驟2.在測量空間放置一基準(zhǔn)尺,尺長A不小于2.3m,其兩端 點(diǎn)a和b的距離事先經(jīng)過標(biāo)定得到校準(zhǔn)值;
步驟3.激光跟蹤儀安裝在與基準(zhǔn)尺軸線相垂直的一側(cè),其高度h 與基準(zhǔn)尺的放置高度大致相同,且使其與基準(zhǔn)尺兩個(gè)端點(diǎn)的距離近似 相等。
步驟4.變換激光跟蹤儀的位置和方向,對基準(zhǔn)尺的長度進(jìn)行測 量,測量結(jié)果與基準(zhǔn)尺的校準(zhǔn)值進(jìn)行比較,并計(jì)算激光跟蹤儀相對于 基準(zhǔn)尺的測量偏差。 在以上列出的兩種激光跟蹤儀校準(zhǔn)方法中,方案一是采用長導(dǎo)軌上移動(dòng)的靶鏡作為比較媒介,以激光干涉儀作為標(biāo)準(zhǔn)器,測得激光跟 蹤儀的測量偏差。此方法操作時(shí)受長導(dǎo)軌方向的限制,測量范圍只能 沿一維方向延伸,而電子經(jīng)緯儀測量系統(tǒng),則需要在水平360。,俯仰 士45。的范圍內(nèi),沿任意方向進(jìn)行校準(zhǔn)。因此方案一不適用于電子經(jīng)緯 儀測量系統(tǒng)的校準(zhǔn)。方案二突破了導(dǎo)軌方向的限制,代之以可靈活放 置的基準(zhǔn)尺,滿足了對任意方向和角度的校準(zhǔn)要求。但由于基準(zhǔn)尺是
實(shí)物基準(zhǔn),其長度不宜過大, 一般在3m以內(nèi),否則,不僅基準(zhǔn)尺標(biāo) 定困難,當(dāng)溫度等環(huán)境條件發(fā)生變化或者尺身發(fā)生變形時(shí),都會(huì)使標(biāo) 定值失準(zhǔn),基準(zhǔn)尺過長還會(huì)造成攜帶不便。因此該方案無法滿足電子 經(jīng)緯儀系統(tǒng)在數(shù)十米范圍上的校準(zhǔn)需求。
到目前為止,國內(nèi)外尚無其它電子經(jīng)緯儀空間三維坐標(biāo)測量校準(zhǔn) 研究的報(bào)道。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的問題是提供一種電子經(jīng)緯儀空間坐標(biāo)測量系
統(tǒng)的校準(zhǔn)用的耙標(biāo)和基準(zhǔn)尺,滿足電子經(jīng)緯儀測量系統(tǒng)在水平360°, 俯仰士45。角度內(nèi),沿任意方向在數(shù)十米范圍上進(jìn)行校準(zhǔn)的需要,并且, 要求應(yīng)用于校準(zhǔn)的基準(zhǔn)點(diǎn)的坐標(biāo)值可以用精度更高的儀器實(shí)時(shí)的修 正,以保證高的校準(zhǔn)精度和降低對基準(zhǔn)放置點(diǎn)環(huán)境的依賴。
本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為
-一種電子經(jīng)諱儀空間坐標(biāo)測量系統(tǒng)校準(zhǔn)用耙標(biāo),其中,靶標(biāo)整體 為鋼球經(jīng)過加工得到的半球或球缺,鋼球由于切割而具有一個(gè)經(jīng)過球 心的端面,在此端面上粘貼有環(huán)形目標(biāo)。如上所述的一種電子經(jīng)緯儀空間坐標(biāo)測量系統(tǒng)校準(zhǔn)用靶標(biāo),其 中,所述靶標(biāo)為一個(gè)沿鋼球最大截圓平面切入八分之五的深度,然后 沿與最大截圓平面呈120°方向進(jìn)行切除所形成的球缺。
如上所述的一種電子經(jīng)緯儀空間坐標(biāo)測量系統(tǒng)校準(zhǔn)用靶標(biāo),其 中,環(huán)形目標(biāo)為紙質(zhì)環(huán)形目標(biāo),其圖案為三個(gè)同心圓,中心畫有十字 線,紙質(zhì)環(huán)形目標(biāo)與鋼球同心。
一種放置如上所述的靶標(biāo)的底座,其中,底座采用圓柱形鋼加工 而成,圓柱一端有加工出的放置靶標(biāo)的孔,孔的外邊緣有倒出的與靶 標(biāo)相配合的光滑圓角,孔的內(nèi)部有加工出的階梯孔,階梯孔中裝有稀 土磁石。
一種安裝如上所述的靶標(biāo)的基準(zhǔn)尺,包括測量桿,工裝,手柄部 分,其中,工裝固連在測量桿兩端,為L形鋼,長邊中心加工有階梯 孔,L形鋼短邊中心加工有沉孔。
一種如上所述的一種安裝如上所述的靶標(biāo)的基準(zhǔn)尺,其中,基準(zhǔn)
尺長度在900mm 1100mm之間,測量桿部分采用碳纖維材料。
本發(fā)明的有益效果在于提供了一種電子經(jīng)緯儀空間坐標(biāo)測量系 統(tǒng)的校準(zhǔn)用的靶標(biāo)和基準(zhǔn)尺,滿足電子經(jīng)緯儀測量系統(tǒng)在水平360°, 俯仰士45。角度內(nèi),沿任意方向在數(shù)十米范圍上進(jìn)行校準(zhǔn)的需要,并且, 應(yīng)用于校準(zhǔn)的基準(zhǔn)點(diǎn)的坐標(biāo)值可以用精度更高的儀器,如激光雷達(dá)掃 描儀實(shí)時(shí)的修正,以保證高的校準(zhǔn)精度和降低對基準(zhǔn)放置點(diǎn)環(huán)境的依 賴。


圖1是球缺耙標(biāo)主視圖2是球缺靶標(biāo)左視圖3是半球靶標(biāo)主視圖4是半球靶標(biāo)左視圖5是兩種儀器對靶標(biāo)測量示意圖6是球缺靶標(biāo)和底座結(jié)合使用時(shí)的主視圖7是球缺靶標(biāo)和底座結(jié)合使用時(shí)的左視圖8是校準(zhǔn)時(shí)空間靶標(biāo)布局示意圖9是半球靶標(biāo)和基準(zhǔn)尺結(jié)合使用時(shí)的主視圖IO是半球靶標(biāo)和基準(zhǔn)尺結(jié)合使用時(shí)的俯視圖11是基準(zhǔn)尺上的工裝主視圖12是基準(zhǔn)尺上的工裝剖視圖13是激光跟蹤儀校準(zhǔn)方案1示意圖14是激光跟蹤儀校準(zhǔn)方案2示意其中,R為球半徑,Z為兩個(gè)切割面交線與球心的距離,ZA為 兩個(gè)切割面的夾角,31電子經(jīng)緯儀測量系統(tǒng),32電子經(jīng)緯儀,33測 量耙標(biāo),34激光雷達(dá)掃描儀,41環(huán)形目標(biāo),42球缺革巴標(biāo),43磁石, 44底座,L校準(zhǔn)空間的長度,M校準(zhǔn)空間的寬度,H校準(zhǔn)空間的高 度,61環(huán)狀目標(biāo),62球狀靶標(biāo),63測量桿,64手柄,65工裝, 110激光干涉儀,120參考鏡,130激光跟蹤儀,140靶鏡,150長 導(dǎo)軌,H距離,21基準(zhǔn)軸,22目標(biāo)基準(zhǔn),h測量儀器高度,D測 量儀器距離目標(biāo)基準(zhǔn)的距離,A 2個(gè)目標(biāo)基準(zhǔn)之間的距離,a基準(zhǔn)目標(biāo),b基準(zhǔn)目標(biāo)。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)的描述。 實(shí)施例一
此靶標(biāo)為將一個(gè)半徑30mm的鋼球,沿最大截圓平面切入八分之 五的深度,然后沿與最大截圓平面呈120°方向進(jìn)行切除所形成的球 缺,如圖1所示,其中,R為球半徑,Z為兩個(gè)切割面交線與球心的 距離,ZA為兩個(gè)切割面的夾角。
球缺是篩選過的,中心球冠高為半徑大小,公差范圍為-0.02mm -0.05mm之內(nèi)。
在過球心的平面上粘貼有紙質(zhì)環(huán)形目標(biāo),紙質(zhì)環(huán)形目標(biāo)圖案為三 個(gè)同心圓,中心畫有十字線。中心圓為直l^ lmm,線寬0.4mm,第 二個(gè)圓為直徑8mm,線寬lmm,外圓為直徑16mm,線寬3mm,三 個(gè)圓同心度小于0.003mm,中心十字線長20mm,寬0.2mm。
此過程中需要在萬能工具顯微鏡下對靶標(biāo)找中心,利用專用工裝 保證耙標(biāo)回轉(zhuǎn)的情況下中心位置不變。將紙質(zhì)耙標(biāo)粘貼球心所在平 面,盡量保證靶標(biāo)中心與球同心,并且利用萬能工具顯微鏡對其進(jìn)行 檢驗(yàn)。
并且粘貼后需要測量粘貼靶標(biāo)后中心點(diǎn)球冠高,球冠高要求與球 半徑差小于O.Olmm,不滿足要求的在靶標(biāo)中心粘入紙片,調(diào)整到半 球矢高與標(biāo)準(zhǔn)半徑差小于0.005mm。
耙標(biāo)放置于底座上,如圖6所示,其中,環(huán)形目標(biāo)41,半球靶標(biāo)42,磁石43,底座44,底座由直徑30mm,長60mm的圓柱形45 鋼加工而成,圓柱一端加工直徑20mm,深8mm的孔,用于放置靶 標(biāo),孔的外邊緣倒出和靶標(biāo)配合的光滑圓角,內(nèi)部加工出直徑10mm, 深10mm的階梯孔,在階梯孔中填充適當(dāng)大小的磁石,整個(gè)工件發(fā)黑 處理。
由于磁石的磁性傳導(dǎo),球缺耙標(biāo)被吸附在底座上,在施加外力情 況下可以在孔中順暢的旋轉(zhuǎn)。
上述的靶標(biāo)和底座放置于距離電子經(jīng)緯儀10m處左右后,即使 左右旋轉(zhuǎn),環(huán)形靶標(biāo)的中心位移量也會(huì)很小,可以供電子經(jīng)緯儀校準(zhǔn)用。
實(shí)施例二
為一個(gè)半球耙,是將半徑為30mm鋼球切除一半形成的,如圖3 所示,其中R為球半徑。
半球是篩選過的,中心球冠高為半徑大小,公差范圍為-0.02mm -0.05mm之內(nèi)。
在過球心的平面上粘貼有紙質(zhì)環(huán)形目標(biāo),紙質(zhì)環(huán)形目標(biāo)圖案為三 個(gè)同心圓,中心畫有十字線。中心圓為直徑lmm,線寬0.4mm,第 二個(gè)圓為直徑8mm,線寬lmm,外圓為直徑16mm,線寬3mm,三 個(gè)圓同心度小于0.003mm,中心十字線長20mm,寬0.2mm。
此過程中需要在萬能工具顯微鏡下對靶標(biāo)找中心,利用專用工裝 保證靶標(biāo)回轉(zhuǎn)的情況下中心位置不變。將紙質(zhì)靶標(biāo)粘貼球心所在平 面,盡量保證靶標(biāo)中心與球同心,并且利用萬能工具顯微鏡對其進(jìn)行檢驗(yàn)。
并且粘貼后需要測量粘貼靶標(biāo)后中心點(diǎn)球冠高,球冠高要求與球
半徑差小于0.01mm,不滿足要求的在靶標(biāo)中心粘入紙片,調(diào)整到半 球矢高與標(biāo)準(zhǔn)半徑差小于0.005mm。
此半球耙放置于基準(zhǔn)尺兩端,如圖9所示,其中,環(huán)狀目標(biāo)61, 球狀耙標(biāo)62,基準(zhǔn)尺長1148.726mm,當(dāng)然根據(jù)需求可以對基準(zhǔn)尺長 進(jìn)行選取,最好控制在900mm 1200mm內(nèi)?;鶞?zhǔn)尺過短會(huì)影響校準(zhǔn) 的效果,太長的話不僅基準(zhǔn)尺標(biāo)定困難,當(dāng)溫度等環(huán)境條件發(fā)生變化 或者尺身發(fā)生變形時(shí),都會(huì)使標(biāo)定值失準(zhǔn),基準(zhǔn)尺過長還會(huì)造成攜帶 不便?;鶞?zhǔn)尺中間安裝有手柄,兩端固連有放置如上所述靶標(biāo)的工裝, 工裝是能保證靶標(biāo)的球面和平面都能被觀測到的環(huán)形結(jié)構(gòu),工裝如附 圖11所示,此處,工裝為L形鋼,長邊長46mm,寬38mm,厚4mm; 長邊中心加工有階梯孔,小孔直徑28mm,沉孔直徑31mm,深3mm; L形鋼短邊長14mm,寬38mm,厚8mm,中心加工有直徑為5mm 的孔,沉孔直徑7mm,深2mm用于加裝緊固螺釘。
當(dāng)然,半球耙標(biāo)也可以和底座配合使用,球缺靶標(biāo)也可以和基準(zhǔn) 尺配合使用。
靶標(biāo)使用時(shí)被兩種儀器同時(shí)測量的情況如圖5所示,其中,電子 經(jīng)緯儀測量系統(tǒng)31,電子經(jīng)緯儀32,測量靶標(biāo)33,激光雷達(dá)掃描儀 34,經(jīng)緯儀建立的空間坐標(biāo)測量系統(tǒng)采用的是紙質(zhì)環(huán)形目標(biāo),激光雷 達(dá)掃描儀采用的是金屬球面靶標(biāo)。專門研究設(shè)計(jì)的具有半球結(jié)構(gòu)的靶 標(biāo)適合不同種類的儀器進(jìn)行測量,并且反應(yīng)相同的測量目標(biāo)。利用靶標(biāo)即可實(shí)現(xiàn)對大尺寸儀器校準(zhǔn)。
具體測試時(shí)布置耙標(biāo)的方式如圖8所示,其中,測試用耙標(biāo)1 16,
長L為20m,寬M為14m,高N為7m, 一方面在空間上布置若干 靶標(biāo),利用靶標(biāo)中心反應(yīng)空間坐標(biāo)點(diǎn),建立空間坐標(biāo)實(shí)物標(biāo)準(zhǔn),激光 雷達(dá)掃描儀作為空間坐標(biāo)量值傳遞裝置,得到各個(gè)靶標(biāo)空間坐標(biāo)標(biāo)準(zhǔn) 值,然后經(jīng)緯儀測量系統(tǒng)對靶標(biāo)進(jìn)行測量,測量結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)值比較完 成對經(jīng)緯儀系統(tǒng)校準(zhǔn)過程。
另一方面,為了方便激光雷達(dá)掃描儀和電子經(jīng)緯儀系統(tǒng)現(xiàn)場校準(zhǔn) 的需求,利用半球耙標(biāo)制作了多用途基準(zhǔn)尺,方便不同儀器的現(xiàn)場校 準(zhǔn)需求,即基準(zhǔn)尺可以有兩個(gè)方面的用途, 一是在進(jìn)行上述校準(zhǔn)之前 對激光雷達(dá)掃描儀進(jìn)行校準(zhǔn),以保證激光雷達(dá)掃描儀的結(jié)果的可靠 性,二是可以直接用于電子經(jīng)緯儀的校準(zhǔn)。
除了上述的校準(zhǔn)以外,通過對靶標(biāo)的進(jìn)一步改進(jìn),可以拓展到其 它相關(guān)類型影像式大尺寸測量儀器,實(shí)現(xiàn)不同儀器測量結(jié)果校準(zhǔn)和比 較,這也為大尺寸測量儀器的校準(zhǔn)開辟了新途徑。
使用時(shí)的詳細(xì)步驟介紹如下
步驟l、放置儀器和耙標(biāo);
在校準(zhǔn)進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)室內(nèi)放置儀器和靶標(biāo),儀器包括激光雷達(dá)掃描 儀一臺,多臺電子經(jīng)緯儀組成的待校準(zhǔn)的電子經(jīng)緯儀系統(tǒng)一套,靶標(biāo) 是能夠同時(shí)被激光雷達(dá)掃描儀和電子經(jīng)緯儀測量且對不同測量儀器 反應(yīng)空間同 一 點(diǎn)坐標(biāo)的專用靶標(biāo);
激光雷達(dá)掃描儀放置于實(shí)驗(yàn)室中間;電子經(jīng)緯儀系統(tǒng)電子經(jīng)緯儀均布在激光雷達(dá)掃描儀周圍。
在步驟1中,實(shí)驗(yàn)室通常是選用20mxl0mxl0m左右的測量空 間,場地內(nèi)采光良好,四周固定靶標(biāo)的墻體堅(jiān)實(shí)牢固的實(shí)驗(yàn)室,以保 證得到的數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。
此外,通常經(jīng)緯儀系統(tǒng)中每兩臺電子經(jīng)緯儀間的距離控制在 3m 4m內(nèi)互瞄精度較高,所以將每臺電子經(jīng)緯儀放置于距激光雷達(dá) 掃描儀1.5m左右,這樣可以保證電子經(jīng)緯儀的互瞄精度,電子經(jīng)緯 儀高度調(diào)整至實(shí)驗(yàn)者操作方便的高度。
電子經(jīng)諱儀系統(tǒng)中電子經(jīng)緯儀的組成臺數(shù)是不一定的,但是其臺 數(shù)不影響本校準(zhǔn)方法的使用。
電子經(jīng)緯儀由于工作過程中會(huì)自行確認(rèn)各臺經(jīng)緯儀的確切位置, 所以放置電子經(jīng)緯儀時(shí)不需要十分精確,大致均勻的放置于激光雷達(dá) 掃描儀四周即可,如待校準(zhǔn)的電子經(jīng)緯儀系統(tǒng)由4臺電子經(jīng)緯儀組成 時(shí),按相互間隔90。均布在激光雷達(dá)掃描儀周圍。
革巴標(biāo)數(shù)量和位置根據(jù)實(shí)驗(yàn)空間大小和環(huán)境條件靈活設(shè)定,數(shù)量在 16 30之間,設(shè)置靶標(biāo)時(shí),高低方向上須照顧到經(jīng)緯儀測量的俯仰 角度范圍,控制在每臺經(jīng)緯儀的觀測角都為±45°內(nèi);實(shí)際布置方法 的示意圖如圖8所示;其中,1 16測試用靶標(biāo),L長20m, M寬 14m, N高7m;
步驟2、用激光雷達(dá)掃描儀對靶標(biāo)賦值,組成標(biāo)準(zhǔn)器具組;
由激光雷達(dá)掃描儀對測量耙標(biāo)P, P"依次進(jìn)行測量,得到激光雷 達(dá)掃描儀坐標(biāo)系下各測量靶標(biāo)的空間三維坐標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)值,記錄為(x,標(biāo),y!標(biāo),Zi標(biāo)),(X2標(biāo),y2標(biāo),Z2標(biāo))(Xn標(biāo),yn標(biāo),Zn標(biāo));
在步驟2中,由激光雷達(dá)掃描儀對測量靶標(biāo)g P"依次進(jìn)行測量 時(shí),可以是每個(gè)測點(diǎn)經(jīng)過3次測量取平均值。
步驟3、被校準(zhǔn)的電子經(jīng)緯儀系統(tǒng)測量每個(gè)靶標(biāo)得到測量值;
首先由電子經(jīng)緯儀在測量坐標(biāo)系下對測量靶標(biāo)g P"依次進(jìn)行 測量,得到電子經(jīng)緯儀測量系統(tǒng)對測量靶標(biāo)空間三維坐標(biāo)的實(shí)測值; 對靶標(biāo)進(jìn)行3次測量,每次測量需要對經(jīng)緯儀系統(tǒng)的位置進(jìn)行調(diào)整, 得到3種不同狀態(tài)下測量值,對于每一種狀態(tài)下的一組測量值,用以 下步驟進(jìn)行處理,得到每種狀態(tài)下每個(gè)測量值的相對誤差;
在步驟3中,具體操作時(shí),可以是電子經(jīng)緯儀測量系統(tǒng)對測量靶 標(biāo)空間三維坐標(biāo),每個(gè)測點(diǎn)經(jīng)過2或4次測量取平均值,測量時(shí)均方 根誤差控制在0.05mm以內(nèi);
步驟4、將電子經(jīng)緯儀的測量值轉(zhuǎn)換到激光雷達(dá)掃描儀的測量坐 標(biāo)系下;通過歩驟4.1 4.2完成;
歩驟4.1、電子經(jīng)緯儀系統(tǒng)的測量坐標(biāo)系和激光雷達(dá)掃描儀的測 量坐標(biāo)系關(guān)系的確定通過步驟4丄1 步驟4丄3完成;
步驟4丄1、布置基準(zhǔn)尺,這些基準(zhǔn)尺上的靶標(biāo),作為公共標(biāo)志
點(diǎn);
基準(zhǔn)尺布置在電子經(jīng)緯儀系統(tǒng)和激光雷達(dá)掃描儀都能夠測量的 地方。
在步驟4丄1中,基準(zhǔn)尺可分別取電子經(jīng)緯儀最短工作距離1.5m 左右和實(shí)驗(yàn)空間允許的最大距離處放置,并盡量放置于最低處,即觀測角接近一45。,和最高處,即觀測角接近+ 45°的不同位置。這樣的點(diǎn)用于坐標(biāo)轉(zhuǎn)換時(shí),可以保證得到的轉(zhuǎn)換公式能最大限度 的適用于所有的測量點(diǎn)。步驟4丄2、激光雷達(dá)掃描儀和電子經(jīng)緯儀分別測量公共標(biāo)志點(diǎn), 分別得到公共標(biāo)志點(diǎn)的三維坐標(biāo);歩驟4丄3、根據(jù)公共點(diǎn)在兩種儀器的測量坐標(biāo)系下的測量值, 利用迭代解算的方法可以得到兩個(gè)坐標(biāo)系關(guān)系,主要包括坐標(biāo)系角度 旋轉(zhuǎn)和坐標(biāo)系平移,按照這種關(guān)系電子經(jīng)緯儀坐標(biāo)系下的點(diǎn)就可以轉(zhuǎn) 換到激光雷達(dá)掃描儀坐標(biāo)系下;步驟4.2、電子經(jīng)緯儀系統(tǒng)的測量值的轉(zhuǎn)換;利用上述的關(guān)系, 將電子經(jīng)緯儀系統(tǒng)得到的測量值的轉(zhuǎn)換為激光雷達(dá)掃描儀坐標(biāo)系下 的值,得到轉(zhuǎn)換后的坐標(biāo)值(x,轉(zhuǎn),y1K, z轉(zhuǎn)),(X2轉(zhuǎn),y2ft, 22轉(zhuǎn)) (Xn轉(zhuǎn),yn轉(zhuǎn),Zn轉(zhuǎn));步驟5、經(jīng)轉(zhuǎn)換的電子經(jīng)緯儀測量值與其標(biāo)準(zhǔn)值比較,并通過以 下步驟,分析得到電子經(jīng)緯儀測量系統(tǒng)的測量偏差及測量不確定度評 估;歩驟5.1、點(diǎn)集比較轉(zhuǎn)換坐標(biāo)值與標(biāo)準(zhǔn)坐標(biāo)值進(jìn)行比較Axiii轉(zhuǎn)-Xi標(biāo),Z\yi 二yi轉(zhuǎn)-yi標(biāo),Azi ^Zi轉(zhuǎn)-z;標(biāo),z' = l ", 步驟5.2、求得轉(zhuǎn)換坐標(biāo)值與標(biāo)準(zhǔn)坐標(biāo)值的空間坐標(biāo)綜合偏差,D,. = V( Ax,.)2+(A》2+( Az》2 ," 1 "; 步驟5.3、標(biāo)準(zhǔn)極徑計(jì)算激光雷達(dá)測量儀測得的各測量靶標(biāo)極<formula>formula see original document page 15</formula>. 步驟5.4、空間坐標(biāo)測量相對誤差計(jì)算;測量靶標(biāo)P,的空間坐標(biāo)綜合偏差D,與其標(biāo)準(zhǔn)極徑的比值A(chǔ)/丄,即為電子經(jīng)緯儀測量系統(tǒng)對該點(diǎn)的空間坐標(biāo)測量相對誤差。 D,/丄,,1)2/丄2,…,z^//^,……中的最大值即為電子經(jīng)緯儀測量系統(tǒng)空間坐標(biāo)測量的最大相對誤差。
權(quán)利要求
1.一種電子經(jīng)緯儀空間坐標(biāo)測量系統(tǒng)校準(zhǔn)用靶標(biāo),其特征在于靶標(biāo)整體為鋼球經(jīng)過加工得到的半球或球缺,鋼球由于加工而具有一個(gè)經(jīng)過球心的端面,在此端面上粘貼有環(huán)形目標(biāo)。
2. 如權(quán)利要求1所述的一種電子經(jīng)緯儀空間坐標(biāo)測量系統(tǒng)校準(zhǔn) 用靶標(biāo),其特征在于所述靶標(biāo)為一個(gè)沿鋼球最大截圓平面切入八分 之五的深度,然后沿與最大截圓平面呈120。方向進(jìn)行切除所形成的球 缺。
3. 如權(quán)利要求1至2中任一項(xiàng)所述的一種電子經(jīng)緯儀空間坐標(biāo)測量系統(tǒng)校準(zhǔn)用靶標(biāo),其特征在于環(huán)形目標(biāo)為紙質(zhì)環(huán)形目標(biāo),其圖 案為三個(gè)同心圓,中心畫有十字線,紙質(zhì)環(huán)形目標(biāo)與鋼球同心。
4. 一種放置如權(quán)利要求1所述靶標(biāo)的底座,其特征在于底座 采用圓柱形鋼加工而成,圓柱一端有加工出的放置靶標(biāo)的孔,孔的外 邊緣有倒出的與靶標(biāo)相配合的光滑圓角,孔的內(nèi)部有加工出的階梯 孔,階梯孔中裝有稀土磁石。
5. —種安裝如權(quán)利要求1所述耙標(biāo)的基準(zhǔn)尺,包括測量桿,工 裝,手柄部分,其特征在于工裝固連在測量桿兩端,為L形鋼,長 邊中心加工有階梯孔,L形鋼短邊中心加工有沉孔。
6. —種如權(quán)利要求5所述的一種安裝如權(quán)利要求1所述靶標(biāo)的 基準(zhǔn)尺,其特征在于基準(zhǔn)尺長度在900mm 1100mm之間,測量桿部分采用碳纖維材料。
全文摘要
本發(fā)明是一種電子經(jīng)緯儀空間坐標(biāo)測量系統(tǒng)校準(zhǔn)用靶標(biāo)、底座和基準(zhǔn)尺,旨在滿足電子經(jīng)緯儀測量系統(tǒng)在水平360°,俯仰±45°角度內(nèi),沿任意方向在數(shù)十米范圍上進(jìn)行校準(zhǔn)的需要。其中靶標(biāo)為軸承鋼球經(jīng)過線切割加工而成的半球或球缺;包括粘貼有紙質(zhì)環(huán)形標(biāo)志的端面,及一種放置如上所述靶標(biāo)的底座,一種安裝如上所述靶標(biāo)的基準(zhǔn)尺。本發(fā)明滿足了電子經(jīng)緯儀測量系統(tǒng)在水平360°,俯仰±45°角度內(nèi),沿任意方向在數(shù)十米范圍上進(jìn)行校準(zhǔn)的需要,并且,應(yīng)用于校準(zhǔn)的基準(zhǔn)點(diǎn)的坐標(biāo)值可以用精度更高的儀器,如激光雷達(dá)掃描儀實(shí)時(shí)的修正,以保證高的校準(zhǔn)精度和降低對基準(zhǔn)放置點(diǎn)環(huán)境的依賴。
文檔編號G01B7/00GK101655343SQ200810147440
公開日2010年2月24日 申請日期2008年8月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月18日
發(fā)明者勇 劉, 芳 方, 晴 殷, 沈兆欣, 燕 賀, 陳曉暉 申請人:北京航天計(jì)量測試技術(shù)研究所
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