專利名稱：反射率測(cè)量裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)一種光學(xué)檢測(cè)裝置，尤其是涉及一種可以測(cè)量大角度發(fā)散的反 射光以測(cè)量光反射率的一種反射率測(cè)量裝置。
背景技術(shù)：
由于地球變暖問(wèn)題日漸受到重視，各種能源蘊(yùn)藏量均不超過(guò)60年，加上 主要能源——石油價(jià)格頻創(chuàng)歷史新高，使得加強(qiáng)發(fā)展"再生能源"、"綠色能 源"成為全球趨勢(shì)。在這些新興能源中，由于太陽(yáng)能具有源源不斷以及潔凈的 特色，再加上不會(huì)引起污染以及不會(huì)耗盡自然資源或?qū)е氯驕厥倚?yīng)，因此 已經(jīng)逐漸在商業(yè)化能源中嶄露頭角。
目前太陽(yáng)能電池的光照面一般都會(huì)有抗反射層結(jié)構(gòu)以減少入射陽(yáng)光的反 射。由于硅晶的表面呈現(xiàn)如同鏡面般的亮黑灰色，可以反射30%以上的入射光。 因此如果直接使用于太陽(yáng)能電池，意味著就損失30%以上的陽(yáng)光能量進(jìn)入， 而上述所謂抗反射層的目的即是減少這些因?yàn)榉瓷渌斐傻膿p失。除了抗反射 層外， 一般單晶硅的太陽(yáng)能電池，其光照面的表面會(huì)經(jīng)表面結(jié)構(gòu)(texture)的處 理，來(lái)更進(jìn)一步地減少入射陽(yáng)光的反射。這表面結(jié)構(gòu)處理，會(huì)在表面留下如同 大大小小金字塔(pyramid)結(jié)構(gòu)，讓入射光至少要經(jīng)過(guò)晶片表面的二次反射，因 此就大大的減低入射光經(jīng)過(guò)第一次反射就折回的機(jī)率。
為了測(cè)量太陽(yáng)能電池的局部反射率以評(píng)估工藝的品質(zhì)，目前所使用的測(cè)量 方法為如美國(guó)專利US. Pat. No. 5,406,367所公開(kāi)的一種裝置與方法。在該技術(shù) 中在待測(cè)物上設(shè)置一積分球，以收集大發(fā)散角的反射光，再通過(guò)光檢測(cè)器檢測(cè) 大發(fā)散角的反射光的光強(qiáng)度。不過(guò)該技術(shù)在測(cè)量反射光的發(fā)散角時(shí)有所限制， 若反射光的散射角度太大則無(wú)法進(jìn)入至積分球內(nèi)，因而會(huì)造成測(cè)量上的誤差。 不過(guò)，若將該積分球的開(kāi)口加大的話，雖然可以接收到大發(fā)散角度的反射光， 但是大開(kāi)口的話，進(jìn)入積分球的光線也會(huì)容易經(jīng)幾次反射之后而離開(kāi)積分球， 因此反而會(huì)有較大的測(cè)量誤差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種反射率測(cè)量裝置，其主要利用一反射罩將由待測(cè)物上產(chǎn)生 的大角度發(fā)散的反射光調(diào)制至一光感測(cè)器上，以測(cè)量光反射率，通過(guò)簡(jiǎn)單的結(jié) 構(gòu)設(shè)計(jì)以提升測(cè)量準(zhǔn)確率以及降低成本。
在一實(shí)施例中，本發(fā)明提供一種反射率測(cè)量裝置，包括 一光源體，其可 提供一檢測(cè)光； 一第一光檢測(cè)部，其可感測(cè)光的強(qiáng)度； 一光源調(diào)制部，其可將 該檢測(cè)光調(diào)制至一待測(cè)物上并將由該待測(cè)物反射的一反射光調(diào)制至該第一光 檢測(cè)部上； 一第二光檢測(cè)部，其可感測(cè)光的強(qiáng)度；以及一反射罩，其設(shè)置于該 待測(cè)物與該光源調(diào)制部之間，該反射罩具有一拋物曲面可將由該待測(cè)物散射的 一發(fā)散反射光導(dǎo)弓i至該第二光檢測(cè)部上。
在另一實(shí)施例中，本發(fā)明提供一種反射率測(cè)量裝置，包括 一光源體，其 可提供一檢測(cè)光； 一第一光檢測(cè)部，其可感測(cè)光的強(qiáng)度； 一光源調(diào)制部，其可 將該檢測(cè)光調(diào)制至一待測(cè)物上并將由該待測(cè)物反射的一反射光調(diào)制至該第一 光檢測(cè)部上； 一第二光檢測(cè)部，其可感測(cè)光的強(qiáng)度；以及一反射罩，其設(shè)置于 該待測(cè)物與該光源調(diào)制部之間，該反射罩具有一橢圓曲面可將由該待測(cè)物散射 的一發(fā)散反射光導(dǎo)引至該第二光檢測(cè)部上。
本發(fā)明的有益效果在于利用反射罩將待測(cè)物大角度發(fā)散的反射光，導(dǎo)引至 該第二光檢測(cè)部上，從而實(shí)現(xiàn)提升測(cè)量準(zhǔn)確率以及降低成本的目的。
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述，但不作為對(duì)本發(fā)明的 限定。


圖1A以及圖1B為本發(fā)明的反射率測(cè)量裝置第一實(shí)施例立體組合以及立 體分解示意圖2為本發(fā)明的反射罩剖面示意圖3為本發(fā)明的反射率測(cè)量裝置第二實(shí)施例立體分解示意圖4A與圖4B為本發(fā)明的使用拋物曲面的反射罩的光學(xué)路徑說(shuō)明示意圖5為第一光檢測(cè)部所檢測(cè)出的反射光斑模擬示意圖6為第二光檢測(cè)部所檢測(cè)出的反射光斑模擬示意圖；圖7A與圖7B為本發(fā)明的使用橢圓曲面的反射罩的光學(xué)路徑說(shuō)明示意圖。
其中，附圖標(biāo)記
1-反射率測(cè)量裝置
10- 光源體
11- 第一光檢測(cè)部
110- 光檢測(cè)器
111- 固定座
112- 透鏡
12- 光源調(diào)制部
120- 座體
121- 分光鏡
122- 透鏡
123- 開(kāi)孔
124- 套筒
125- 凸座
13- 第二光檢測(cè)部
130- 固定座
131- 罩體
132- 透鏡
133- 光檢測(cè)器
14- 反身寸罩
140- 反射面
141- 凹槽
142- 通孔
15- 光監(jiān)控部
150- 座體
151- 透鏡
152- 光檢觀!j器
16- 鐳射光控制器
17- 承載平臺(tái)90-待測(cè)物
91、 91'-第一檢測(cè)光
92、 92'-第二檢測(cè)光
93、 95、 93，、 95，-反射光
94、 96、 94，-平行光
具體實(shí)施例方式
為使對(duì)本發(fā)明的目的、構(gòu)造、特征、及其功能有進(jìn)一步的了解，將參照附 圖并配合實(shí)施例詳細(xì)說(shuō)明如下，但以下附圖及實(shí)施例僅為輔助說(shuō)明，本發(fā)明并 不限于附圖及實(shí)施例。
請(qǐng)參閱圖1A以及圖1B所示，該圖為本發(fā)明的反射率測(cè)量裝置實(shí)施例立 體組合以及立體分解示意圖。該反射率測(cè)量裝置具有一光源體10、 一第一光 檢測(cè)部11、 一光源調(diào)制部12、 一第二光檢測(cè)部13以及一反射罩14。該光源 體10可為準(zhǔn)直光源或者是一般光源以產(chǎn)生一檢測(cè)光。在本實(shí)施例中，該光源 體10選擇為準(zhǔn)直光源，其中該準(zhǔn)直光源為一鐳射光源，但不以此為限。
該光源調(diào)制部12設(shè)置于該光源體10的一側(cè)，以接收該檢測(cè)光，該光源調(diào) 制部12可以將該檢測(cè)光調(diào)制至待測(cè)物90上。在本實(shí)施例中，該光源調(diào)制部 12更具有一座體120、 一分光鏡121以及一透鏡122。該座體120的一端開(kāi)設(shè) 有一開(kāi)孔123，以提供該檢測(cè)光通過(guò)。該分光鏡121設(shè)置于對(duì)應(yīng)該開(kāi)孔123的 位置上，該分光鏡121可將該檢測(cè)光分成一第一檢測(cè)光以及一第二檢測(cè)光。透 鏡122固定于套筒124中，套筒124再固定于反射罩14中的凹槽141中，然 后組裝時(shí)再對(duì)應(yīng)于凸座125，使得該透鏡122與該分光鏡121相對(duì)應(yīng)以將該第 一檢測(cè)光聚焦投射至待測(cè)物90上。因?yàn)橥哥R122的焦點(diǎn)必須與拋物面反射罩 14的焦點(diǎn)重合且較難調(diào)整，所以先將透鏡122與反射罩14焦點(diǎn)調(diào)整至重合， 再與凸座125上圓孔對(duì)準(zhǔn)。該第一光檢測(cè)部11設(shè)置于該光源調(diào)制部12的一側(cè) 以感測(cè)光的強(qiáng)度。在本實(shí)施例中，該第一光檢測(cè)部11更具有一固定座111、 一透鏡112以及一光檢測(cè)器110。該透鏡112設(shè)置于該分光鏡121以及該光檢 測(cè)器110之間。當(dāng)然，在另一實(shí)施方式中，如果該光檢測(cè)器110可以接收的光 線范圍夠大的話，該透鏡112可以視需求而予以省略。
該反射罩14，設(shè)置于該待測(cè)物90與該光源調(diào)制部12之間，該反射罩14可將由該待測(cè)物90散射的一發(fā)散反射光導(dǎo)引至該第二光檢測(cè)部13上。該反射 罩14上具有一反射面140，在本實(shí)施例中其為一拋物曲面(亦即其截面為拋物 線)。此外，為了增加反射效果，該反射面140上更可以涂覆一層反射膜。至 于該反射膜的材質(zhì)為現(xiàn)有技術(shù)，在此不作贅述。此外，在該反射罩14對(duì)應(yīng)該 凸座125上更具有一凹槽141，其可提供固定該套筒124。如圖2所示，該凹 槽141內(nèi)的反射罩上開(kāi)設(shè)有一通孔142，以提供光線通過(guò)。在一實(shí)施例中，該 通孔142可為具有錐度的通孔。
再回到圖1A以及圖1B所示，該第二光檢測(cè)部13，其設(shè)置于該反射罩14 的一側(cè)，以感測(cè)由該反射罩14反射的光強(qiáng)度。該第二光檢測(cè)部13更具有一固 定座130、 一罩體131、 一透鏡132以及一光檢測(cè)器133。該透鏡132固定于 該固定座130上且位于反射罩14以及該光檢測(cè)器133之間。該罩體131則連 接于該固定座130上以罩覆于該透鏡132的一側(cè)面上，該光檢測(cè)器133則設(shè)置 于該罩體131的一側(cè)。當(dāng)然，在另一實(shí)施方式中，如果該光檢測(cè)器133可以接 收的光線范圍夠大的話，該透鏡132可以視需求而予以省略。該分光鏡121 的另一側(cè)更設(shè)置一光監(jiān)控部15，其具有一固定座150、 一光檢測(cè)器152以及一 透鏡151。該透鏡151其設(shè)置于該固定座150上且位于該分光鏡121與該光檢 測(cè)器152之間，該透鏡151可將該第二檢測(cè)光聚焦至該光檢測(cè)器152上。利用 該光監(jiān)控部15可以監(jiān)測(cè)由該光源體IO所發(fā)射出的檢測(cè)光的強(qiáng)度，并對(duì)該檢測(cè) 光進(jìn)行強(qiáng)度調(diào)控。
請(qǐng)參閱圖3所示，該圖為本發(fā)明的反射率測(cè)量裝置第二實(shí)施例立體分解示 意圖。在本實(shí)施例中，基本器件與圖1B所示類似，差異的地方在于該反射罩 的反射面為一橢圓曲面。該橢圓曲面的第一焦點(diǎn)設(shè)計(jì)在待測(cè)物上，因此該第一 焦點(diǎn)發(fā)散的大角度反射光會(huì)被橢圓曲面聚焦至第二個(gè)焦點(diǎn)。該第二光檢測(cè)部即 設(shè)置于該第二焦點(diǎn)的位置上，也因?yàn)槿绱?，在本?shí)施例中，該第二光檢測(cè)部 13，并不需要額外增加一透鏡器件來(lái)將光線聚焦至檢測(cè)器133上。
請(qǐng)參閱圖1A、圖4A與圖4B所示，其中圖4A與圖4B為本發(fā)明使用拋 物曲面的反射罩的光學(xué)路徑說(shuō)明示意圖。在本實(shí)施例中，該反射罩14的反射 面140為拋物曲面。該光源體10所發(fā)出的準(zhǔn)直鐳射光經(jīng)座體120上的開(kāi)孔123 入射至分光鏡121，該分光鏡121將鐳射光分為一第一檢測(cè)光91以及一第二 檢測(cè)光92。該第一檢測(cè)光91會(huì)直接通過(guò)該分光鏡121，而該第二檢測(cè)光92會(huì)由該分光鏡121反射至該光監(jiān)控部15。該第二檢測(cè)光92經(jīng)透鏡151聚焦至 光檢測(cè)器152上，通過(guò)光檢測(cè)器152測(cè)得光強(qiáng)度后，反饋至鐳射光控制器16 以達(dá)到穩(wěn)定光功率的目的。另一方面，通過(guò)該分光鏡121的第一檢測(cè)光91會(huì) 進(jìn)入透鏡122聚焦經(jīng)過(guò)該通孔142至待測(cè)物90的0點(diǎn)上。在本實(shí)施例中，該 待測(cè)物90設(shè)置于可進(jìn)行三軸位移運(yùn)動(dòng)的承載平臺(tái)17上。
如圖4B所示，此時(shí)，由該待測(cè)物90反射的反射光可分為兩部分， 一部 分的反射光93(即主要反射光)經(jīng)原入射光學(xué)路徑過(guò)通孔142回到透鏡122。在 本實(shí)施例中，該通孔142具有錐度，因此可以限制反射光93進(jìn)入透鏡的角度， 以確保透鏡122能將這部分的反射光93準(zhǔn)直成平行光94。被準(zhǔn)直的平行光94 經(jīng)分光鏡121反射進(jìn)入透鏡112聚焦至光檢測(cè)器110上，而測(cè)量到主要反射光 93的強(qiáng)度L。而另一部分的反射光，為發(fā)散的大角度反射光95，其由反射罩 14反射，反射罩14的反射面140鍍有高反射率膜可反射鐳射光。由于該反射 罩14的反射面140為半拋物曲面，此半拋物曲面的焦點(diǎn)設(shè)計(jì)于待測(cè)物上(圖中 的0)，因此由0點(diǎn)發(fā)散的反射光95會(huì)被反射面140準(zhǔn)直為平行光96。此平行 光96再由透鏡132聚焦至光檢測(cè)器133上，則可測(cè)得發(fā)散的反射光強(qiáng)度12。 將I2與I,相加即為總反射光的強(qiáng)度。接著。再利用承載平臺(tái)17來(lái)變換待測(cè)物 90的檢測(cè)位置即可掃瞄整片待測(cè)物90的反射率分布情形。
圖4A與圖4B的實(shí)施例所得的光學(xué)模擬結(jié)果如圖5與圖6所示，通過(guò)反 射罩拋物曲面的設(shè)計(jì)，光學(xué)軟件模擬以接收90度的發(fā)散角的反射罩為例，在 主要反射光部分可以被透鏡112聚焦于光檢測(cè)器110上，其聚焦的光斑大小如 圖5所示，而較大發(fā)散角的反射光可完全被接收準(zhǔn)直成平行光，再經(jīng)透鏡132 聚焦到光檢測(cè)器133上，其聚焦的光斑大小如圖6所示，使用的光檢測(cè)器其主 要測(cè)量區(qū)域大于光斑即可測(cè)量出反射光強(qiáng)度，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)大發(fā)散角反射光的測(cè) 量，此外反射罩制作上相對(duì)比較容易，因此成本也較低。
請(qǐng)參閱圖1B與圖7A所示，該圖為本發(fā)明的使用橢圓曲面的反射罩的光 學(xué)路徑說(shuō)明示意圖。在本實(shí)施例中，該反射罩14的反射面140為一橢圓曲面。 當(dāng)該光源體10所發(fā)出的準(zhǔn)直鐳射光經(jīng)座體120上的開(kāi)孔123入射至分光鏡 121，鐳射光經(jīng)分光鏡121分為一第一檢測(cè)光91，以及一第二檢測(cè)光92'。該第 一檢測(cè)光91，會(huì)直接通過(guò)該分光鏡121，而該第二檢測(cè)光92'會(huì)由該分光鏡121 反射至該光監(jiān)控部15。該第二檢測(cè)光92，經(jīng)透鏡151聚焦至光檢測(cè)器152上，通過(guò)光檢測(cè)器152測(cè)得光強(qiáng)度后，反饋至鐳射光控制器16以達(dá)到穩(wěn)定光功率 的目的。另一方面，通過(guò)該分光鏡121的第一檢測(cè)光91'會(huì)進(jìn)入透鏡122聚焦 經(jīng)過(guò)該通孔142至待測(cè)物90的P點(diǎn)上。在本實(shí)施例中，該待測(cè)物90設(shè)置于可 進(jìn)行三軸位移運(yùn)動(dòng)的承載平臺(tái)17上。
如圖7B所示，此時(shí)，由該待測(cè)物90反射的反射光可分為兩部分， 一部 分的反射光93'(即主要反射光)經(jīng)原入射光學(xué)路徑過(guò)通孔142回到透鏡122。在 本實(shí)施例中，該通孔142具有錐度，因此可以限制反射光進(jìn)入透鏡122的角度， 以確保透鏡122能將這部分的反射光準(zhǔn)直成平行光94'。被準(zhǔn)直的平行94'光 經(jīng)分光鏡121反射進(jìn)入透鏡112聚焦至光檢測(cè)器110上，以測(cè)量到主要反射光 93'的強(qiáng)度ir。而另一部分的反射光95'，為發(fā)散的大角度反射光，其由反射 罩14上反射。反射罩14的反射面140上鍍有高反射率膜可反射鐳射光，且反 射面140設(shè)計(jì)成橢圓曲面，此橢圓曲面的第一焦點(diǎn)設(shè)計(jì)于待測(cè)物的P點(diǎn)上，因 此由P點(diǎn)發(fā)散的大角度反射光95'會(huì)被橢圓曲面聚焦至第二個(gè)焦點(diǎn)P'，將光檢
測(cè)器133設(shè)置于P'上，則可測(cè)得發(fā)散的反射光強(qiáng)度l2'，將i2'與ir相加即為總
反射光的強(qiáng)度，再利用承載平臺(tái)來(lái)調(diào)整待測(cè)物即可掃瞄整片待測(cè)物的反射率分 布情形。
綜合上述，本發(fā)明提供的反射率測(cè)量裝置，可以通過(guò)簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)以提 升測(cè)量準(zhǔn)確率以及降低成本。因此可以滿足業(yè)界的需求，進(jìn)而提高該產(chǎn)業(yè)的競(jìng) 爭(zhēng)力以及帶動(dòng)周圍產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。
當(dāng)然，本發(fā)明還可有其他多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情 況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這 些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種反射率測(cè)量裝置，其特征在于，包括一光源體，其可提供一檢測(cè)光；一第一光檢測(cè)部，其可感測(cè)光的強(qiáng)度；一光源調(diào)制部，其可將該檢測(cè)光調(diào)制至一待測(cè)物上并將由該待測(cè)物反射的一反射光調(diào)制至該第一光檢測(cè)部上；一第二光檢測(cè)部，其可感測(cè)光的強(qiáng)度；以及一反射罩，其設(shè)置于該待測(cè)物與該光源調(diào)制部之間，該反射罩可將由該待測(cè)物散射的一發(fā)散反射光導(dǎo)引至該第二光檢測(cè)部上。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射率測(cè)量裝置，其特征在于，該反射罩上更具 有一通孔，其可提供該檢測(cè)光以及該反射光通過(guò)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的反射率測(cè)量裝置，其特征在于，該通孔具有一錐度。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射率測(cè)量裝置，其特征在于，該反射罩具有一 拋物曲面，其焦點(diǎn)位于該待測(cè)物上，該拋物曲面可將該發(fā)散反射光調(diào)制成一平 行光至該第二光檢測(cè)部。
5. 根據(jù)權(quán)利要4所述的反射率測(cè)量裝置，其特征在于，該拋物曲面上更鍍 有一反射膜。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的反射率測(cè)量裝置，其特征在于，該第一光檢測(cè)部 與該光源調(diào)制部間更設(shè)置有一透鏡單元。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射率測(cè)量裝置，其特征在于，該反射罩具有一 橢圓曲面，該橢圓曲面的第一焦點(diǎn)在該待測(cè)物上，該橢圓曲面可調(diào)制該發(fā)散反 射光聚焦于該橢圓曲面的第二焦點(diǎn)上。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的反射率測(cè)量裝置，其特征在于，該第二光檢測(cè)部 設(shè)置于該第二焦點(diǎn)上。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的反射率測(cè)量裝置，其特征在于，該拋物曲面上更鍍有一反射膜。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射率測(cè)量裝置，其特征在于，該光源調(diào)制部 更具有一分光鏡，其可將該檢測(cè)光分光以形成一第一檢測(cè)光以及一第二檢測(cè)光以及一透鏡，其可將該第一檢測(cè)光聚焦至該待測(cè)物上。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的反射率測(cè)量裝置，其特征在于，更具有一光監(jiān) 控部以接收該第二檢測(cè)光，進(jìn)而監(jiān)控該檢測(cè)光的功率強(qiáng)度。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的反射率測(cè)量裝置，其特征在于，該光監(jiān)控部更 具有一光檢測(cè)器；以及一透鏡，其設(shè)置于該分光鏡與該檢測(cè)器之間，該透鏡可將該第二檢測(cè)光聚 焦至該光檢測(cè)器上。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射率測(cè)量裝置，其特征在于，該第一光檢測(cè) 部與該光源調(diào)制部間更設(shè)置有一透鏡單元。
14. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射率測(cè)量裝置，其特征在于，該光源體可提 供一準(zhǔn)直光源。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的反射率測(cè)量裝置，其特征在于，該準(zhǔn)直光源為一鐳射。
全文摘要
本發(fā)明提供一種反射率測(cè)量裝置，該裝置包含一光源體，其可提供一檢測(cè)光；一第一光檢測(cè)部，其可感測(cè)光的強(qiáng)度；一光源調(diào)制部，其可將該檢測(cè)光調(diào)制至一待測(cè)物上并將由該待測(cè)物反射的一反射光調(diào)制至該第一光檢測(cè)部上；一第二光檢測(cè)部，其可感測(cè)光的強(qiáng)度；以及一反射罩，其設(shè)置于該待測(cè)物與該光源調(diào)制部之間，該反射罩可將由該待測(cè)物散射的一發(fā)散反射光導(dǎo)引至該第二光檢測(cè)部上。
文檔編號(hào)G01N21/55GK101493408SQ20081000421
公開(kāi)日2009年7月29日 申請(qǐng)日期2008年1月21日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月21日
發(fā)明者張?jiān)Ｐ? 林昆蔚, 江易軒, 鄭龍宇 申請(qǐng)人:財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院