專(zhuān)利名稱(chēng)：用于轉(zhuǎn)移側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手中測(cè)試盤(pán)的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手，更具體地，涉及一種用于轉(zhuǎn)移 側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手中測(cè)試盤(pán)的方法。
背景技術(shù)：
通常，測(cè)試機(jī)械手為用于輔助測(cè)試人員來(lái)測(cè)試通過(guò)預(yù)定制造流程 所制造的半導(dǎo)體器件的設(shè)備，該測(cè)試機(jī)械手通過(guò)測(cè)試結(jié)果等級(jí)來(lái)對(duì)半 導(dǎo)體器件分類(lèi)。測(cè)試機(jī)械手已被如名稱(chēng)為測(cè)試機(jī)械手、早期公開(kāi)號(hào)
(Laid-open)為20030029266的韓國(guó)專(zhuān)利等文獻(xiàn)所公開(kāi)。
參考附圖1,給出了常用的側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手從上面看的示意 圖。側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手包括加載單元ll、均熱腔室12、測(cè)試腔室 13、退均熱腔室14和卸載單元15。如圖l所示，側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手 的結(jié)構(gòu)中，保溫腔室12設(shè)置在加載單元11的背面，加載單元ll位于測(cè) 試機(jī)械手的左邊；常溫腔室14設(shè)置在卸載單元15的背面，卸載單元15 位于測(cè)試機(jī)械手的右邊；測(cè)試腔室13設(shè)置在保溫腔室12和常溫腔室14 的背面。
在加載單元ll中，將加載到用戶(hù)托盤(pán)上的半導(dǎo)體器件轉(zhuǎn)移并加載 到測(cè)試盤(pán)。
在保溫腔室12中，將測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室13，在轉(zhuǎn)移過(guò)程中， 根據(jù)保溫腔室12中的當(dāng)前測(cè)試環(huán)境，預(yù)熱或預(yù)制冷加載到測(cè)試盤(pán)中的 半導(dǎo)體器件。
在測(cè)試腔室13中，將測(cè)試盤(pán)從保溫腔室12的背面轉(zhuǎn)移到常溫腔室 14的背面。當(dāng)測(cè)試盤(pán)設(shè)置在測(cè)試腔室13的接近中心位置C時(shí)，將測(cè)試 盤(pán)密貼到測(cè)試儀21，該測(cè)試儀21位于中心位置C的背面。相應(yīng)地，將 裝載到測(cè)試盤(pán)上的半導(dǎo)體器件供應(yīng)到測(cè)試儀21用于測(cè)試(更具體地說(shuō)，使半導(dǎo)體器件接觸測(cè)試儀的接觸插座)。
在常溫腔室14中，將從測(cè)試腔室13轉(zhuǎn)移來(lái)的加熱或制冷后的半導(dǎo) 體器件恢復(fù)到室溫。
在卸載單元15中，將從常溫腔室14轉(zhuǎn)移來(lái)的加載在測(cè)試盤(pán)上的半
導(dǎo)體器件根據(jù)測(cè)試級(jí)別進(jìn)行分類(lèi)，然后轉(zhuǎn)移到用戶(hù)托盤(pán)上。 如上所述，如圖l中的箭頭所示，將半導(dǎo)體器件從加載單元ll轉(zhuǎn)
移到卸載單元15要經(jīng)過(guò)保溫腔室12、測(cè)試腔室13、常溫腔室14。在這 點(diǎn)上，當(dāng)半導(dǎo)體體器件被加載在測(cè)試盤(pán)上時(shí)，將半導(dǎo)體器件從加載單 元11轉(zhuǎn)移到卸載單元15。這是因?yàn)闇y(cè)試盤(pán)被設(shè)計(jì)為滿(mǎn)足測(cè)試條件，然 而用戶(hù)托盤(pán)被設(shè)計(jì)為密集加載大量的半導(dǎo)體器件，所以加載到用戶(hù)托 盤(pán)上的半導(dǎo)體器件不能滿(mǎn)足測(cè)試條件。
由于半導(dǎo)體器件是被加載測(cè)試盤(pán)上進(jìn)行轉(zhuǎn)移，該測(cè)試盤(pán)需要沿著 由箭頭所示的從加載單元11開(kāi)始經(jīng)保溫腔室12、測(cè)試腔室13、常溫腔 室14和卸載單元15返回的循環(huán)路徑被轉(zhuǎn)移。關(guān)于測(cè)試盤(pán)的轉(zhuǎn)移方法已 被相關(guān)文獻(xiàn)如早期公開(kāi)號(hào)為 19970077466、名稱(chēng)為"測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移方 法"韓國(guó)專(zhuān)利所公開(kāi)(下文中，稱(chēng)為現(xiàn)有技術(shù))。
對(duì)半導(dǎo)體器件不斷增長(zhǎng)的需求已導(dǎo)致測(cè)試機(jī)械手單位時(shí)間內(nèi)的
處理數(shù)量的增加。因此，需要增加單位時(shí)間內(nèi)測(cè)試的半導(dǎo)體器件數(shù)量 和改進(jìn)測(cè)試機(jī)械手的處理速度。本發(fā)明的目的在于增加同 一 時(shí)間內(nèi)測(cè) 試的半導(dǎo)體器件的數(shù)量。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問(wèn)題
本發(fā)明的目的是提供一種用于轉(zhuǎn)移側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手中測(cè)試 盤(pán)的方法，其中加載到三個(gè)測(cè)試盤(pán)中半導(dǎo)體器件的可以被同時(shí)測(cè)試， 從而增加了同 一 時(shí)間內(nèi)所測(cè)試的半導(dǎo)體器件數(shù)量。
技術(shù)方案
根據(jù)本發(fā)明的 一個(gè)方面，提供了 一種用于轉(zhuǎn)移側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手中測(cè)試盤(pán)的方法，該方法包括步驟(a)在測(cè)試盤(pán)裝載半導(dǎo)體器件
后，將水平姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)從加載單元經(jīng)由保溫腔室轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室，
在轉(zhuǎn)移時(shí)在某點(diǎn)將測(cè)試盤(pán)的水平姿勢(shì)改變?yōu)榇怪弊藙?shì)；(b)將步驟(a) 中順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室中三個(gè)測(cè)試盤(pán)豎直排列到三行上；(c)將步驟 (b)中垂直排列到三行上的三個(gè)測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試位置；(d)在對(duì) 加載到所述三個(gè)測(cè)試盤(pán)中的半導(dǎo)體器件的測(cè)試完成后，將三個(gè)測(cè)試盤(pán) 中的每一個(gè)從測(cè)試腔室經(jīng)常溫腔室轉(zhuǎn)移到卸載單元，在轉(zhuǎn)移時(shí)在某點(diǎn) 將測(cè)試盤(pán)的垂直姿勢(shì)改變?yōu)樗阶藙?shì)；及(e)將步驟(d)中轉(zhuǎn)移到 卸載單元的每個(gè)測(cè)試盤(pán)上的半導(dǎo)體器件卸載后，將所述測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到 加載單元。
步驟(a)可以包括以下步驟(al)將測(cè)試盤(pán)以水平姿勢(shì)從加載 單元轉(zhuǎn)移到保溫腔室；(a2)將步驟(al)中轉(zhuǎn)移到保溫腔室中測(cè)試 盤(pán)的水平姿勢(shì)改變?yōu)榇怪弊藙?shì)；(a3)將步驟(a2)中獲得的垂直姿 勢(shì)的測(cè)試盤(pán)向下降至預(yù)定位置；及U4)將步驟(a3)中降至預(yù)定位 置的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室。進(jìn)一步地，在步驟(a4)中，將測(cè)試盤(pán) 轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室的中間位置，及在步驟(b)中，在步驟(a4)中順 序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室中的三個(gè)測(cè)試盤(pán)以上部、下部和中部位置的順序， 或以下部、上部和中部位置的順序進(jìn)行排列?；蛘撸诓襟E(a4)中, 將測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室的下部位置，及在步驟(b)中，在步驟(a4) 中順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室中的三個(gè)測(cè)試盤(pán)以上部、中部和下部位置的順 序排列。
步驟(a)可以包括以下步驟(al)將水平姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)從加載 單元轉(zhuǎn)移到保溫腔室，及將順序轉(zhuǎn)移到保溫腔室的測(cè)試盤(pán)排列到兩豎 直行上，其中在轉(zhuǎn)移和排列時(shí)，將測(cè)試盤(pán)在某點(diǎn)從水平姿勢(shì)改變?yōu)榇?直姿勢(shì)；及(a2)將步驟(al)中排列到兩個(gè)豎直行上的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移 到測(cè)試腔室。進(jìn)一步地，在步驟(a2)中，將測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室 的中部位置和下部位置，及在步驟(b)中，在三個(gè)測(cè)試盤(pán)中，順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室中部位置的兩個(gè)測(cè)試盤(pán)以上部、中部位置的順序進(jìn)行 排列，另一個(gè)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室下部位置的測(cè)試盤(pán)排列到下部位置?；?br> 者，在步驟(a2)中，將測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室的上部位置和下部位
置，及在步驟(b)中，在三個(gè)測(cè)試盤(pán)中，轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室上部位置 的一個(gè)測(cè)試盤(pán)排列在上部位置，另兩個(gè)順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室下部位置 的測(cè)試盤(pán)以中部、下部位置的順序進(jìn)行排列?？商娲?，在這種情況 下，在步驟(b)中，在三個(gè)測(cè)試盤(pán)中，順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室上部位 置的兩個(gè)測(cè)試盤(pán)以中部、上部位置的順序進(jìn)行排列，另一個(gè)轉(zhuǎn)移到測(cè) 試腔室下部位置的測(cè)試盤(pán)排列到下部位置。
步驟(a)可以包括以下步驟(al)將水平姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)從加載 單元轉(zhuǎn)移到保溫腔室；(a2)將步驟(al)中轉(zhuǎn)移到保溫腔室的測(cè)試 盤(pán)移動(dòng)下調(diào)至預(yù)定位置；及(a3)將測(cè)試盤(pán)由水平姿勢(shì)改變?yōu)榇怪弊?勢(shì)，并將垂直姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室。進(jìn)一步地，在步驟(a3) 中，將測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室中部位置，及在步驟(b)中，將在步 驟(a3)中順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室中的三個(gè)測(cè)試盤(pán)以上部、下部和中部 位置的順序，或以下部、上部和中部位置的順序進(jìn)行排列?；蛘?，在 步驟(a3)中，將測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室下部位置，及在步驟(b) 中，將在步驟(a3)中順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室中的三個(gè)測(cè)試盤(pán)以上部、 中部和下部位置的順序進(jìn)行排列。
有益效果
根據(jù)本發(fā)明，測(cè)試機(jī)械手可以輔助測(cè)試者同時(shí)測(cè)試加載到三個(gè)測(cè) 試盤(pán)上的半導(dǎo)體器件，因此增加了同一時(shí)間內(nèi)所測(cè)試的半導(dǎo)體器件數(shù) 量。相應(yīng)地，測(cè)試機(jī)械手的處理速度得到了改進(jìn)。


通過(guò)與相應(yīng)附圖所結(jié)合的優(yōu)選實(shí)施方式的描述，本發(fā)明的上述目 的及特征將變得更為明顯，其中
圖l為整體側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手中半導(dǎo)體器件和測(cè)試盤(pán)的轉(zhuǎn)移路徑俯視圖2為根據(jù)本發(fā)明第一優(yōu)選實(shí)施方式用于轉(zhuǎn)移側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械
手中測(cè)試盤(pán)的方法流程圖3~圖6為用于解釋圖2中測(cè)試盤(pán)的轉(zhuǎn)移方法的示意圖； 圖7為根據(jù)本發(fā)明第二優(yōu)選實(shí)施方式中用于轉(zhuǎn)移側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)
械手中測(cè)試盤(pán)的方法流程圖8~圖10為用于解釋圖7中測(cè)試盤(pán)的轉(zhuǎn)移方法的示意圖； 圖ll為根據(jù)本發(fā)明第三優(yōu)選實(shí)施方式中用于轉(zhuǎn)移側(cè)對(duì)接式測(cè)試
機(jī)械手中測(cè)試盤(pán)的方法流程圖12、圖13為用于解釋圖11中測(cè)試盤(pán)的轉(zhuǎn)移方法的示意圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明提出的側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手中測(cè)試盤(pán)的轉(zhuǎn)移方法的優(yōu)選 實(shí)施方式，結(jié)合附圖詳細(xì)描述如下。 第一優(yōu)選實(shí)施例
如圖2所示為本發(fā)明第一優(yōu)選實(shí)施方式中用于轉(zhuǎn)移側(cè)對(duì)接式測(cè)試 機(jī)械手中測(cè)試盤(pán)的方法流程圖。圖3為解釋根據(jù)圖2所示測(cè)試盤(pán)的轉(zhuǎn)移 方法中測(cè)試盤(pán)在側(cè)對(duì)接式機(jī)械手中轉(zhuǎn)移的狀態(tài)的示意圖。下面參考附 圖2和附圖3描述根據(jù)本發(fā)明第一優(yōu)選實(shí)施方式測(cè)試盤(pán)的轉(zhuǎn)移方法。
在將半導(dǎo)體器件加載到位于加載單元中的測(cè)試盤(pán)201上后，將水 平姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到保溫腔室220 (步驟S201)。
然后，將步驟S201中轉(zhuǎn)移到保溫腔室220中的水平姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán) 改變?yōu)榇怪弊藙?shì)(步驟S202)。
步驟S201和S202已經(jīng)被本申請(qǐng)人以前提交的，名稱(chēng)為"測(cè)試機(jī)械 手及其操作方法"、申請(qǐng)?zhí)枮?020050124223(韓國(guó)專(zhuān)利號(hào)為10074106) 的韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)所公開(kāi)。在所公開(kāi)方法中，盡管測(cè)試盤(pán)的姿勢(shì)改變不 同于現(xiàn)有技術(shù)，由于加載到測(cè)試盤(pán)中的半導(dǎo)體器件被預(yù)熱或預(yù)制冷， 因此能夠減少測(cè)試半導(dǎo)體器件的時(shí)間。此后，將在步驟S202中獲得的垂直姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)降低至預(yù)定位置
(步驟S203 )。在此，所述預(yù)定位置對(duì)應(yīng)于測(cè)試腔室230豎直方向的中 部位置。
將步驟S203中降低至預(yù)定位置的測(cè)試盤(pán)逐步向后轉(zhuǎn)移最終到達(dá) 測(cè)試腔室203的中部位置(步驟S204)。從圖3中可以看出，從保溫腔 室220轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室230的測(cè)試盤(pán)被加載到測(cè)試腔室230的左邊。
將在步驟S204中順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室230中部位置的三個(gè)測(cè)試盤(pán) 豎直排列到三行上，即以上部、下部和中部位置的順序(步驟S205 )。 參考附圖4 (a) 4 (d)詳細(xì)描述如下。
圖4 (a) ~4 (d)為圖3所示測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移狀態(tài)的左視圖，其中為方 便解釋三個(gè)測(cè)試盤(pán)用粗體表示。如圖4 (a)及4 (b)所示，將在保溫 腔室220中預(yù)熱或預(yù)制冷后的測(cè)試盤(pán)逐步轉(zhuǎn)移最終到達(dá)測(cè)試腔室230。 在這個(gè)時(shí)候，如圖4(c)所示，將第一個(gè)到達(dá)測(cè)試腔室230中間位置 的測(cè)試盤(pán)202升高至測(cè)試腔室230的上部位置。如圖4(d)所示，將第 二個(gè)到達(dá)測(cè)試腔室230中間位置的測(cè)試盤(pán)203降低至測(cè)試腔室230的下 部位置。那么，如圖4(d)所示，第三個(gè)到達(dá)的測(cè)試盤(pán)204位于中部 位置。因此，從保溫腔室220順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室230的三個(gè)測(cè)試盤(pán)豎 直排列到三行上?；蛘撸梢詫⑷齻€(gè)測(cè)試盤(pán)以下部、上部和中部位置 的順序豎直排列。
接下來(lái)，將在步驟S205中豎直排列好的三個(gè)測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到與測(cè)試 腔室230中心位置對(duì)應(yīng)的測(cè)試位置(步驟S206)。
此后，在步驟S206中所說(shuō)的與測(cè)試腔室230中心位置對(duì)應(yīng)的測(cè)試 位置上對(duì)加載到三個(gè)測(cè)試盤(pán)上的半導(dǎo)體器件進(jìn)行測(cè)試，并將三個(gè)測(cè)試 盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室230的右邊即常溫腔室240的背面(步驟S207)。
在步驟S207中轉(zhuǎn)移到常溫腔室240背面的三個(gè)測(cè)試盤(pán)中，將位于 中部位置的測(cè)試盤(pán)移向常溫腔室240，及將位于上部和下部位置的測(cè) 試盤(pán)順序轉(zhuǎn)移到中部位置然后再轉(zhuǎn)移到常溫腔室240。從而，將豎直排列到三行上的測(cè)試盤(pán)順序轉(zhuǎn)移到常溫腔室240 (步驟S208)?；蛘?，
將位于下部和上部的測(cè)試盤(pán)順序轉(zhuǎn)移到中部位置然后再轉(zhuǎn)移到常溫
腔室240。
接下來(lái)，將步驟S208中從測(cè)試腔室230轉(zhuǎn)移到常溫腔室240中的測(cè) 試盤(pán)逐步轉(zhuǎn)移到預(yù)定位置(步驟S209)。
然后，將步驟S209中轉(zhuǎn)移到預(yù)定位置的測(cè)試盤(pán)升高至設(shè)定位置 (步驟S210)。
此后，將升高后測(cè)試盤(pán)由垂直姿勢(shì)改變?yōu)樗阶藙?shì)(步驟S211)。 將步驟S211中獲得的水平姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到卸載單元，從而使
如參考數(shù)字205表示的測(cè)試盤(pán)被處理(步驟S212)。
.在將從步驟S212中轉(zhuǎn)移到卸載單元的測(cè)試盤(pán)中卸載半導(dǎo)體器件
后，將該測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到加載單元，從而使如參考數(shù)字201表示的測(cè)試
盤(pán)被處理。
第一優(yōu)選實(shí)施方式的修改
如圖5所示為第一優(yōu)選實(shí)施方式的修改圖示。參考圖5，在將從加 載單元轉(zhuǎn)移到保溫腔室220a的測(cè)試盤(pán)由水平姿勢(shì)改變?yōu)榇怪弊藙?shì)后 降低至預(yù)定位置時(shí)，該測(cè)試盤(pán)降低至與測(cè)試腔室230a豎直方向的下部 位置對(duì)應(yīng)的位置，然后將測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室230a的下部位置。相 應(yīng)地，將測(cè)試盤(pán)從保溫腔室220a轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室230a的下部位置。在 這種情況下，將順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室230a中的三個(gè)測(cè)試盤(pán)以上部、中 部和下部位置的順序進(jìn)行豎直排列。當(dāng)將測(cè)試盤(pán)從測(cè)試腔室230a轉(zhuǎn)移 到常溫腔室240a時(shí)，優(yōu)選以位于下部、中部和上部位置測(cè)試盤(pán)的順序 轉(zhuǎn)移所述測(cè)試盤(pán)。
圖3所示的第一優(yōu)選實(shí)施例方式及圖5所示的其修改中將三個(gè)測(cè) 試盤(pán)豎直排列到三行所需的時(shí)間是不同的。參考圖6(a),在圖3所示 的第一優(yōu)選實(shí)施方式中，將三個(gè)測(cè)試排豎直排列到三行上所需的總移 動(dòng)距離對(duì)應(yīng)于2L。然而，參考圖6(b),在圖5所示的修改的情況下，將三個(gè)測(cè)試排豎直排列到三行上所需的總移動(dòng)距離對(duì)應(yīng)于3L(當(dāng)將測(cè) 試盤(pán)從測(cè)試腔室轉(zhuǎn)移到常溫腔室時(shí)也是這樣)。移動(dòng)距離的差別影響 了將測(cè)試盤(pán)豎直排列到三行上所需時(shí)間，因此使用圖3所示的轉(zhuǎn)移方 法時(shí)，會(huì)提高測(cè)試機(jī)械手的處理速度。
第二優(yōu)選實(shí)施方式
如圖7所示為根據(jù)本發(fā)明第二優(yōu)選實(shí)施方式測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移方法流程 圖。圖8為圖7中轉(zhuǎn)移方法所用的側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手的示意圖。下面 參考圖7和圖8描述根據(jù)本發(fā)明第二優(yōu)選實(shí)施方式測(cè)試盤(pán)的轉(zhuǎn)移方法。
在將半導(dǎo)體器件加載到位于加載單元中的測(cè)試盤(pán)701上后，將水 平姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到保溫腔室720 (步驟S701)。
接下來(lái)，將步驟S701中轉(zhuǎn)移到保溫腔室220中的水平姿勢(shì)的測(cè)試 盤(pán)改變?yōu)榇怪弊藙?shì)(S702)。
此后，將在步驟S702中順序獲得的垂直姿勢(shì)的多個(gè)測(cè)試盤(pán)降低并 排列在兩個(gè)豎直行即上、下行上(步驟S703 )。在此，排列到兩行上 的測(cè)試盤(pán)的位置近似對(duì)應(yīng)測(cè)試腔室730豎直方向上中部和下部位置。
將步驟S703中排列到兩豎直行上的測(cè)試盤(pán)逐步向后轉(zhuǎn)移最終到 達(dá)測(cè)試腔室730的中部和下部位置(步驟S704)。
將步驟S704中轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室730下部位置的測(cè)試盤(pán)保持在下部 位置。進(jìn)一步地，按轉(zhuǎn)移順序?qū)㈨樞蜣D(zhuǎn)移到中部位置的兩個(gè)測(cè)試盤(pán)排 列到下部和中部位置。因此，從保溫腔室720順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室730 的三個(gè)測(cè)試盤(pán)豎直排列到測(cè)試腔室730的三行上(步驟S705 )。為此， 從保溫腔室720轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室730中部位置的測(cè)試盤(pán)數(shù)量為從保溫 腔室720轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室730下部位置的測(cè)試盤(pán)數(shù)量的兩倍，并且在步 驟S703中，需要將在步驟S702改變姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)按需要以適當(dāng)?shù)姆绞?排列在兩行上。
接下來(lái)，將步驟S705中排列在三行上的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到與測(cè)試腔室 730中心位置相對(duì)應(yīng)的測(cè)試位置(步驟S706)。此后，將加載到三個(gè)測(cè)試盤(pán)上的半導(dǎo)體器件在測(cè)試位置進(jìn)行測(cè)
試，所述測(cè)試位置與步驟S706中的測(cè)試腔室730中心位置相對(duì)應(yīng)，然 后將三個(gè)測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室的右邊即常溫腔室740的背面(步驟 S707 )。
在步驟S707中轉(zhuǎn)移到常溫腔室740背面的三個(gè)測(cè)試盤(pán)中，將位于 中間和下部位置的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到常溫腔室，將位于上部位置的測(cè)試盤(pán) 降低至中部位置然后轉(zhuǎn)移到常溫腔室240 (步驟S708)。相應(yīng)地，可以 將測(cè)試盤(pán)以其在常溫腔室740排列在兩行的狀態(tài)向前轉(zhuǎn)移。
接下來(lái)，將步驟S708中從測(cè)試腔室230以?xún)尚蟹绞睫D(zhuǎn)移到常溫腔 室240中的測(cè)試盤(pán)逐步向前轉(zhuǎn)移到預(yù)定位置(步驟S709)。
然后，將步驟S709中轉(zhuǎn)移到預(yù)定位置的測(cè)試盤(pán)升高至設(shè)定位置 (步驟S710)。
此后，將步驟S710中升高后的測(cè)試盤(pán)的垂直姿勢(shì)改變?yōu)樗阶藙?shì) (步驟S711)。
將步驟S711中獲得的水平姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到卸載單元，從而使 如參考數(shù)字705表示的測(cè)試盤(pán)被處理(步驟S712)
在將從步驟S712中轉(zhuǎn)移到卸載單元的測(cè)試盤(pán)中卸載半導(dǎo)體器件 后，將該測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到加載單元，從而使如參考數(shù)字701表示的測(cè)試 盤(pán)被處理(步驟S713 )。
根據(jù)本發(fā)明的第二優(yōu)選實(shí)施方式，能夠進(jìn)一步減少將測(cè)試盤(pán)豎直 排列到測(cè)試腔室730中三行上的時(shí)間。因此，與第一優(yōu)選實(shí)施方式及
其修改相比較，可以實(shí)現(xiàn)更高的處理速度。
盡管將第二優(yōu)選實(shí)施方式中測(cè)試盤(pán)的水平姿勢(shì)在保溫腔室改變
為垂直姿勢(shì)，可以同現(xiàn)有技術(shù)那樣在保溫腔室上部將測(cè)試盤(pán)的姿勢(shì)改 變?yōu)榇怪弊藙?shì)后，再將測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到保溫腔室。 第二實(shí)施方式的修改
圖9描述了第二優(yōu)選實(shí)施方式的修改。參考圖9，加載單元和卸載單元的位置對(duì)應(yīng)于測(cè)試腔室730a的豎直方向中部位置。進(jìn)一步地，在 保溫腔室720a和常溫腔室740a中改變測(cè)試盤(pán)的各自位置與測(cè)試腔室 730a豎直方向中部位置相對(duì)應(yīng)。
在從加載單元順序轉(zhuǎn)移到保溫腔室720a的測(cè)試盤(pán)由水平姿勢(shì)改 變?yōu)榇怪弊藙?shì)后，將測(cè)試盤(pán)排列到兩行的情況下，排列在兩個(gè)豎直行 的測(cè)試盤(pán)的位置近似對(duì)應(yīng)于測(cè)試腔室730a豎直方向上的上部和下部 位置。將排列在兩行上的測(cè)試盤(pán)逐步向后轉(zhuǎn)移最終到達(dá)測(cè)試腔室730a 的上部和下部位置。將轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室730a上部位置的測(cè)試盤(pán)保持在 上部位置。進(jìn)一步地，將順序轉(zhuǎn)移到下部位置的兩個(gè)測(cè)試盤(pán)按轉(zhuǎn)移順 序排列在中部和下部位置。因此，從保溫腔室720a轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室 730a中的三個(gè)測(cè)試盤(pán)豎直排列在測(cè)試腔室730a中的三行上。為此，從 保溫腔室720a轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室730a下部位置的測(cè)試盤(pán)數(shù)量，是從保溫 腔室720a轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室730a上部位置的測(cè)試盤(pán)數(shù)量的兩倍，并且需 要將垂直姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)按要求以適當(dāng)?shù)姆绞脚帕性趦尚猩?。在轉(zhuǎn)移到 常溫腔室740a背面的三個(gè)測(cè)試盤(pán)中，將位于上部和下部位置的測(cè)試盤(pán) 按原樣轉(zhuǎn)移到常溫腔室740a的背面，及將位于中部位置的測(cè)試盤(pán)降至 中部位置然后轉(zhuǎn)移到常溫腔室240a。相應(yīng)地，可以將測(cè)試盤(pán)以測(cè)試盤(pán) 在常溫腔室740a排列在兩行的狀態(tài)向前轉(zhuǎn)移
圖8所示的第二優(yōu)選實(shí)施方式和圖9所示的其修改方式中將測(cè)試 盤(pán)排列到兩豎直行所需的時(shí)間是不同的。參考圖10(a),在圖8所示 的優(yōu)選實(shí)施例l中，將三個(gè)測(cè)試盤(pán)701排豎直排列到三行上所需的總移 動(dòng)距離對(duì)應(yīng)于4L。與此同時(shí)，參考圖10(b),在圖9所示的修改的情 況下，將三個(gè)測(cè)試排豎直排列到兩行上所需的總移動(dòng)距離對(duì)應(yīng)于3L (當(dāng)將測(cè)試盤(pán)從常溫腔室轉(zhuǎn)移到卸載單元時(shí)也是這樣)。移動(dòng)距離的 差別影響了將測(cè)試盤(pán)豎直排列到兩行上所需時(shí)間，因此使用圖9所示 的轉(zhuǎn)移方法時(shí)，會(huì)提高測(cè)試機(jī)械手的處理速度。
對(duì)將測(cè)試盤(pán)排列在與測(cè)試腔室上部和下部位置對(duì)應(yīng)的兩行上的情形，能夠?qū)㈨樞蜣D(zhuǎn)移到測(cè)試腔室上部位置的兩個(gè)測(cè)試盤(pán)按轉(zhuǎn)移順序 排列在中部和上部位置，進(jìn)一步地，將轉(zhuǎn)移到下部位置的測(cè)試盤(pán)還保 持在同樣的下部位置。相應(yīng)地，將從保溫腔室轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室中的三 個(gè)測(cè)試盤(pán)豎直排列在測(cè)試腔室中的三行上。此后，將位于常溫腔室背 面三行上的測(cè)試盤(pán)通過(guò)上述反轉(zhuǎn)過(guò)程排列在兩行上然后轉(zhuǎn)移到常溫 腔室。
第三優(yōu)選實(shí)施方式
圖ll為根據(jù)本發(fā)明第三優(yōu)選實(shí)施方式測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移方法流程圖。圖
12為利用圖11中轉(zhuǎn)移方法時(shí)側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手中測(cè)試盤(pán)的轉(zhuǎn)移狀 態(tài)示意圖。下面參考圖11和圖12描述根據(jù)本發(fā)明第三優(yōu)選實(shí)施方式測(cè) 試盤(pán)的轉(zhuǎn)移方法。
在將半導(dǎo)體器件加載到位于加載單元中的測(cè)試盤(pán)1101上后，將測(cè) 試盤(pán)以水平姿勢(shì)轉(zhuǎn)移到保溫腔室1120 (步驟S1101)。
接下來(lái)，將步驟S1101中轉(zhuǎn)移到保溫腔室1120中的水平姿勢(shì)的測(cè) 試盤(pán)移動(dòng)下調(diào)至預(yù)定位置(步驟S1102)。
此后，在步驟S1102中移動(dòng)下調(diào)至預(yù)定位置的測(cè)試盤(pán)在由水平姿 勢(shì)改變?yōu)榇怪弊藙?shì)時(shí)將其轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室1130(步驟S1102)。參考圖 12，從常溫腔室1120轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室1130中的測(cè)試盤(pán)改變姿勢(shì)時(shí)，將 其大約轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室1130豎直方向的中部位置。
按照步驟S1102和S1102測(cè)試盤(pán)的轉(zhuǎn)移方法已被由被本申請(qǐng)人以 前提交的，名稱(chēng)為"用于轉(zhuǎn)移側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手中測(cè)試盤(pán)的方法"、 申請(qǐng)?zhí)枮?020060028191的韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)所公開(kāi)。根據(jù)該方法，將轉(zhuǎn) 移到保溫腔室中的測(cè)試盤(pán)以水平姿勢(shì)進(jìn)行下調(diào)，然后將其姿勢(shì)改變?yōu)?垂直姿勢(shì)，從而獲得更短的測(cè)試盤(pán)循環(huán)路徑，與現(xiàn)有技術(shù)相比減小了 測(cè)試機(jī)械手的尺寸。
將步驟S1103中順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室1130中部位置的測(cè)試盤(pán)以上 部、下部和中部位置的順序排列在三行(步驟S1104)?；蛘?，能夠以下部、上部和中部位置的順序排列三個(gè)測(cè)試盤(pán)。
接下來(lái)，將步驟S1104中排列在三個(gè)豎直行上的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到與
測(cè)試腔室1130中心位置對(duì)應(yīng)的測(cè)試位置(步驟S1105)。
在步驟S1105中所說(shuō)的與測(cè)試腔室li30中心位置對(duì)應(yīng)的測(cè)試位置 上對(duì)加載到三個(gè)測(cè)試盤(pán)上的半導(dǎo)體器件進(jìn)行測(cè)試后，將三個(gè)測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn) 移到測(cè)試腔室1130的右邊即常溫腔室1140的背面(步驟S1106)。
在步驟S1106中轉(zhuǎn)移到常溫腔室1140背面的三個(gè)測(cè)試盤(pán)中，位于 中部位置的測(cè)試盤(pán)由垂直姿勢(shì)改變?yōu)樗阶藙?shì)時(shí)將其轉(zhuǎn)移到常溫腔 室1140，及將位于上部和下部位置的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到中部位置然后在改 變姿勢(shì)后再按序或反序轉(zhuǎn)移到常溫腔室240。從而，將排列在三行上 的測(cè)試盤(pán)在由垂直姿勢(shì)改變?yōu)樗阶藙?shì)時(shí)轉(zhuǎn)移到常溫腔室1140(步驟 S1107)。
接下來(lái)，將步驟S1107中在改變姿勢(shì)時(shí)從測(cè)試腔室1130轉(zhuǎn)移到常 溫腔室1140中的測(cè)試盤(pán)逐步轉(zhuǎn)移到預(yù)定位置(步驟S1108 )。
然后，將步驟S1108中轉(zhuǎn)移到預(yù)定位置的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到卸載單元， 從而使如參考數(shù)字1105表示的測(cè)試盤(pán)被處理(步驟S1109)。
在將半導(dǎo)體器件從步驟S1109中轉(zhuǎn)移到卸載單元的測(cè)試盤(pán)卸載 后，將測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到加載單元，從而使如參考數(shù)字1101表示的測(cè)試盤(pán) 被處理。
第三優(yōu)選實(shí)施方式的修改
圖13描述了第三優(yōu)選實(shí)施方式的修改。參考圖13，對(duì)將轉(zhuǎn)移到預(yù) 定位置的測(cè)試盤(pán)在改變姿勢(shì)時(shí)從保溫腔室1120a轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室 1130a的情況，將測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室1130a豎直方向的下部位置。 在這個(gè)時(shí)候，將順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室1130a中的三個(gè)測(cè)試盤(pán)排列在三 行上，即以上部、中部和下部位置的順序。當(dāng)將測(cè)試盤(pán)從測(cè)試腔室 1130a轉(zhuǎn)移到常溫腔室1140a時(shí)也是這樣。
盡管上述實(shí)施例中保溫腔室和常溫腔室中轉(zhuǎn)移同常用方法一樣是互相對(duì)稱(chēng)的，但是保溫腔室和常溫腔室中的轉(zhuǎn)移也能夠如所描述是 彼此不同。
在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以對(duì)如上所述的測(cè)試 盤(pán)的轉(zhuǎn)移方法做出各種修改。相應(yīng)地，通過(guò)優(yōu)選實(shí)施例說(shuō)明和詳細(xì)描 述了本發(fā)明，但本發(fā)明不局限于此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)通過(guò)如下的 權(quán)利要求及其等同替代來(lái)解釋。
權(quán)利要求
1、一種用于轉(zhuǎn)移側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手中測(cè)試盤(pán)的方法，該方法包括步驟(a)在測(cè)試盤(pán)裝載半導(dǎo)體器件后，將水平姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)從加載單元經(jīng)由保溫腔室轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室，其中在轉(zhuǎn)移時(shí)在某點(diǎn)將測(cè)試盤(pán)的水平姿勢(shì)改變?yōu)榇怪弊藙?shì)；(b)將步驟(a)中順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室的三個(gè)測(cè)試盤(pán)豎直排列到三行上；(c)將步驟(b)中豎直排列到三行上的三個(gè)測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試位置；(d)在對(duì)加載在三個(gè)測(cè)試盤(pán)上的半導(dǎo)體器件測(cè)試完成后，將三個(gè)測(cè)試盤(pán)中的每一個(gè)從測(cè)試腔室經(jīng)由常溫腔室轉(zhuǎn)移到卸載單元，其中在轉(zhuǎn)移時(shí)在某點(diǎn)將測(cè)試盤(pán)的垂直姿勢(shì)改變?yōu)樗阶藙?shì)；及(e)將步驟(d)中轉(zhuǎn)移到卸載單元的每個(gè)測(cè)試盤(pán)上的半導(dǎo)體器件卸載后，將所述測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到加載單元。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的方法，其中步驟(a)包括步驟 (al )將測(cè)試盤(pán)以水平姿勢(shì)從加載單元轉(zhuǎn)移到保溫腔室；(a2)將步驟(al)中轉(zhuǎn)移到保溫腔室中測(cè)試盤(pán)的水平姿勢(shì)改變 為垂直姿勢(shì)；'(a3)將步驟(a2)中獲得的垂直姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)向下降至預(yù)定位 置；及(a4)將步驟(a3)中降至預(yù)定位置的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中步驟(a4)中，將測(cè)試盤(pán) 轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室的中部位置，及在步驟(b)中，將步驟(a4)中順 序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室中的三個(gè)測(cè)試盤(pán)以上部、下部和中部位置的順序， 或以下部、上部和中部位置的順序進(jìn)行排列。
4、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中在步驟(a4)中，將測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室的下部位置，及在步驟(b)中，在步驟(a4)中順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室中的三個(gè)測(cè)試盤(pán)以上部、中部和下部位置的順序排列。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中步驟(a)包括步驟 (al)將水平姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)從加載單元轉(zhuǎn)移到保溫腔室，及將順序轉(zhuǎn)移到保溫腔室的測(cè)試盤(pán)排列到兩豎直行上，其中在轉(zhuǎn)移和排列 時(shí)，將測(cè)試盤(pán)在某點(diǎn)從水平姿勢(shì)改變?yōu)榇怪弊藙?shì)；及(a2)將步驟(al)中排列到兩個(gè)豎直行上的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中在步驟(a2)中，將測(cè)試 盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室的中部位置和下部位置，及在步驟(b)中，在三個(gè)測(cè)試盤(pán)中，將順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室中 部位置的兩個(gè)測(cè)試盤(pán)以上部、中部位置的順序進(jìn)行排列，另一個(gè)轉(zhuǎn)移 到測(cè)試腔室下部位置的測(cè)試盤(pán)排列到下部位置。
7、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中在步驟(a2)中，將測(cè)試 盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室的上部位置和下部位置，及在步驟(b)中，在三個(gè)測(cè)試盤(pán)中，轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室上部位置的 一個(gè)測(cè)試盤(pán)排列到上部位置，另兩個(gè)順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室下部位置的 測(cè)試盤(pán)以中部、下部位置的順序進(jìn)行排列。
8、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中在步驟(a2)中，將測(cè)試 盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室的上部位置和下部位置，及在步驟(b)中，在三個(gè)測(cè)試盤(pán)中，順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室上部位 置的兩個(gè)測(cè)試盤(pán)以中部、上部位置的順序進(jìn)行排列，另一個(gè)轉(zhuǎn)移到測(cè) 試腔室下部位置的測(cè)試盤(pán)排列到下部位置。
9、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的方法，其中步驟(a)包括步驟 (al)將水平姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)從加載單元轉(zhuǎn)移到保溫腔室；(a2)將步驟(al)中轉(zhuǎn)移到保溫腔室的測(cè)試盤(pán)移動(dòng)下調(diào)至預(yù)定位置；及(a3)將測(cè)試盤(pán)由水平姿勢(shì)改變?yōu)榇怪弊藙?shì)，并將垂直姿勢(shì)的測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中在步驟(a3)中，將測(cè)試 盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室中部位置，及在步驟(b)中，將在步驟(a3)中順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室中的三 個(gè)測(cè)試盤(pán)以上部、下部和中部位置的順序，或以下部、上部和中部位 置的順序進(jìn)行排列。
11、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中在步驟(a3)中，將測(cè)試 盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室下部位置，及在步驟(b)中，將在步驟(a3)中順序轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室中的三 個(gè)測(cè)試盤(pán)以上部、中部和下部位置的順序進(jìn)行排列。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于轉(zhuǎn)移側(cè)對(duì)接式測(cè)試機(jī)械手中測(cè)試盤(pán)的方法，根據(jù)本發(fā)明的方法，將加載后測(cè)試盤(pán)的姿勢(shì)改變?yōu)榇怪弊藙?shì)，并將測(cè)試盤(pán)轉(zhuǎn)移到測(cè)試腔室，將垂直姿勢(shì)的三個(gè)測(cè)試盤(pán)豎直排列在三行上，從而加載在三個(gè)測(cè)試盤(pán)上的半導(dǎo)體器件能夠被同時(shí)測(cè)試，因此增加了同一時(shí)間可以測(cè)試的半導(dǎo)體器件的數(shù)量。
文檔編號(hào)G01R31/26GK101506674SQ200780031114
公開(kāi)日2009年8月12日 申請(qǐng)日期2007年1月8日 優(yōu)先權(quán)日2006年8月22日
發(fā)明者全寅九, 具泰興, 沈載均, 羅閏成, 金動(dòng)漢 申請(qǐng)人:泰克元有限公司