專利名稱：基板支撐臺和具有基板支撐臺的基板檢查設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板支撐臺和一種具有所述基板支撐臺的基板檢查設(shè)備。更明確地說，本發(fā)明涉及一種基板支撐臺和一種具有所述基板支撐臺的基板檢查設(shè)備，其可通過改進(jìn)檢查效率和減少生產(chǎn)時間(tact time)的量來改進(jìn)生產(chǎn)率，且通過防止需要不必要的外圍裝置，并通過使用單個檢查設(shè)備共同地執(zhí)行凹痕檢查(dent inspection)和裂縫檢查(crackinspection)來減小工作空間和各種損失。
背景技術(shù)：
基板是圖像顯示裝置的組件?；灏雽?dǎo)體基板和平板顯示器(FlatPanel Display，F(xiàn)PD)基板。FPD基板包含液晶顯示器(Liquid CrystalDisplay，LCD)基板、等離子顯示面板(Plasma Display Panel，PDP)基板、有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Diode，OLED)基板和類似物。
LCD基板將被描述為FPD基板的實例。LCD的一般制造工藝分成TFT工藝、單元工藝和模塊工藝。在所述工藝中，模塊工藝是將各種電子組件附接到LCD基板以組裝產(chǎn)品且將用于驅(qū)動LCD基板的驅(qū)動器IC附接到所述LCD基板的工藝。
為了執(zhí)行此工藝，已在相關(guān)技術(shù)中使用了直接將驅(qū)動器IC的引線安裝到LCD基板的技術(shù)。
然而，因為最近已制造了具有高分辨率的LCD產(chǎn)品，所以難以將具有大量引線的驅(qū)動器IC安裝到LCD基板，且因此通常使用TAB(Tape AutomatedBonding，卷帶式自動接合)作為一種安裝技術(shù)。
具體地說，作為一種類型的帶載封裝(tape carrier package，TCP)的TAB是通過中間形成有圖案的帶而不是引線框來將驅(qū)動器IC接合(下文用作“壓縮”和“附接”)到LCD基板的封裝技術(shù)。然而，TAB還表示壓縮地附接到LCD基板的對應(yīng)位置以便在LCD基板中形成信號線的帶或所述帶的整個區(qū)域。在下文的描述中，后者被稱為“TAB”。
在將TAB附接到LCD基板之前，通常首先在LCD基板中使用各向異性導(dǎo)電膜(anisotropic conductive film，ACF)。各向異性導(dǎo)電膜具有類似于雙面帶(two-sided tape)的結(jié)構(gòu)，其中將通過熱量而硬化的粘合劑與微小的導(dǎo)電球彼此混合。此各向異性導(dǎo)電膜是通常在安裝工藝中使用的材料。
如果各向異性導(dǎo)電膜在對應(yīng)位置處接合到LCD基板，那么TAB會附接到各向異性導(dǎo)電膜的表面。此時，TAB的電極圖案和LCD基板的電極圖案需要準(zhǔn)確地彼此附接。用于使LCD基板和TAB具有導(dǎo)電性的導(dǎo)電球也需要準(zhǔn)確地定位。
如果將各向異性導(dǎo)電膜和TAB附接到LCD基板，那么在高溫狀態(tài)下將足夠的壓力施加到LCD基板和TAB，使得LCD基板和TAB的電路圖案的襯墊彼此接觸。此時，當(dāng)各向異性導(dǎo)電膜中接觸部分處的導(dǎo)電球被毀壞時，電流在兩個襯墊之間流動，且剩余的粘合劑填充在不平坦的表面而不是兩個襯墊中，并在其中硬化。以此方式，TAB附接工藝完成。
在TAB附接工藝完成之后，對LCD基板執(zhí)行各種檢查。舉例來說，執(zhí)行凹痕檢查以檢查TAB的電極圖案是否準(zhǔn)確地附接到LCD基板的電極圖案，且導(dǎo)電球的形狀和位置是否為優(yōu)選，且執(zhí)行裂縫檢查以檢查在壓縮TAB時，LCD基板中是否出現(xiàn)裂縫。
按照慣例，凹痕檢查和裂縫檢查分別由凹痕檢查設(shè)備和裂縫檢查設(shè)備執(zhí)行。凹痕檢查和裂縫檢查具有類似的結(jié)構(gòu)，在于凹痕和裂縫均在TAB區(qū)域中被檢查。
首先，將描述常規(guī)的凹痕檢查設(shè)備。
圖1是說明根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備的示意性透視圖。
參看圖1，根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備1包含面陣相機(jī)(areacamera)10，其對凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相；和臺20，上面安裝有FPD基板5。在FPD基板5中，TAB 7a和7b附接到短邊7a和長邊7b。
面陣相機(jī)10固定到凹痕檢查設(shè)備1中的相機(jī)固定件(camera fixingdie)50，并對附接有TAB 7a和7b的FPD基板5的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相。面陣相機(jī)10具有自動對焦功能，且每當(dāng)臺20在TAB 7a與7b的間隔處移動時，可通過自動對焦對凹痕檢查區(qū)域的凹痕圖像進(jìn)行精密的照相和檢查。出于此目的，面陣相機(jī)19相對于FPD基板5的板表面方向(如由箭頭Z所示)而垂直上升和下降。
在面陣相機(jī)10上方提供臺20，且成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板5穩(wěn)定地安裝在臺20的頂面上。穩(wěn)定地安裝有FPD基板5的臺20借助單獨的驅(qū)動單元(未圖示)而在如箭頭所示的二維方向(X和Y方向)上移動，且將FPD基板5定位在固定面陣相機(jī)10上方。
具有上文所述的結(jié)構(gòu)的凹痕檢查設(shè)備1對成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板5執(zhí)行凹痕檢查。一般來說，凹痕檢查設(shè)備1針對附接到FPD基板5的短邊的TAB 7a的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查，且接著針對附接到長邊的TAB 7b的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查。
首先，為了檢查附接到短邊的TAB 7a的區(qū)域，臺20在由箭頭X所示的方向上線性地移動，使得面陣相機(jī)10循序地對凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相和檢查。在檢查附接到短邊的TAB 7a的區(qū)域之后，凹痕檢查設(shè)備1檢查附接到長邊的TAB 7b的區(qū)域的檢查表面。在此情況下，臺20在由箭頭θ所示的方向上旋轉(zhuǎn)，使得面陣相機(jī)10可對凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相。
同時，當(dāng)面陣相機(jī)10對成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板5的TAB 7a和7b的區(qū)域進(jìn)行照相時，臺20重復(fù)移動和停止。在此過程中，為了獲得凹痕檢查區(qū)域的圖像，面陣相機(jī)10還重復(fù)自動對焦，其連同F(xiàn)PD基板5一起調(diào)節(jié)焦點。
如上文所述，根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備1具有下述結(jié)構(gòu)其中臺20相對于固定面陣相機(jī)10而移動FPD基板5，且執(zhí)行凹痕檢查。臺20不得不移動的原因在于，盡管固定面陣相機(jī)10的自動對焦跟蹤范圍在約0.2mm到0.8mm的范圍內(nèi)，但由于處理和組裝過程中的誤差的緣故而不可能維持自動對焦跟蹤范圍。
將描述根據(jù)相關(guān)技術(shù)的裂縫檢查設(shè)備。
盡管圖中未繪示，但與上文所述的凹痕檢查設(shè)備1相反，根據(jù)相關(guān)技術(shù)的裂縫檢查設(shè)備具有下述結(jié)構(gòu)其中當(dāng)相機(jī)(未圖示)在臺(未圖示)固定的狀態(tài)下移動時，裂縫檢查設(shè)備檢查FPD基板5的對應(yīng)于TAB區(qū)域的部分中是否出現(xiàn)裂縫。
然而，在相關(guān)技術(shù)中，盡管以類似的方式執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查，但臺和相機(jī)以不同類型進(jìn)行移動。出于此原因，不可能將凹痕檢查設(shè)備和裂縫檢查設(shè)備集成為單個檢查設(shè)備，檢查效率降低，且生產(chǎn)時間的量增加，這降低了生產(chǎn)率。另外，由于有必要通過使用兩個檢查設(shè)備來移動基板，所以需要額外提供不必要的外圍裝置以增加工作空間，從而導(dǎo)致各種損失。
在已參考圖1描述的根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備1中，由于臺20移動，所以設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間增加。在TAB 7a與7b的間隔處移動和停止臺20之后，再次執(zhí)行自動對焦，并執(zhí)行檢查，這增加了生產(chǎn)時間的量。當(dāng)FPD基板5的平面度由于FPD基板5的下陷(由于尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時，由于FPD基板5的下陷量超過自動對焦跟蹤范圍，所以需要使用搜索功能，這降低了檢查效率。
在已參考圖1描述的根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備1中，由于面陣相機(jī)10固定到相機(jī)固定件50，且較大尺寸的臺20移動，所以設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間增加。另外，由于需要將面陣相機(jī)10提供成適合臺20的移動，所以同時僅能安裝兩個面陣相機(jī)10。因此，難以減小生產(chǎn)時間的量。
同時，在FPD基板5由對應(yīng)檢查設(shè)備的基板支撐臺支撐之后執(zhí)行檢查。將參考圖2和3描述根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板支撐臺。除上文所述的檢查設(shè)備之外，當(dāng)執(zhí)行上文所述的各種工藝時，可使用圖2和3中所示的基板支撐臺。
圖2和3是說明根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板支撐臺的結(jié)構(gòu)的示意圖。
如圖2中所示，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的實例的基板支撐臺中，固定地提供支撐基板G1和G2的多個襯墊30和30a。當(dāng)然，所述多個襯墊30和30a設(shè)置成以相同間隔H1彼此遠(yuǎn)離。在圖2中所示的基板支撐臺中，具有(例如)30英寸的尺寸的小尺寸基板G1和具有(例如)46英寸的尺寸的大尺寸基板G2共同使用所述臺。
然而，當(dāng)將小尺寸基板G1安裝在圖2中所示的基板支撐臺上，且由基板支撐臺支撐時，基板G1的邊可能與定位在兩邊處的襯墊30a碰撞，且基板G1可能損壞。具體來說，由于襯墊30和30a固定在圖2中所示的基板支撐臺上，所以基板支撐臺難以穩(wěn)定地支撐具有除上文所述的30英寸和46英寸之外的不同尺寸的基板(未圖示)。為了使用具有除30英寸和46英寸之外的不同尺寸的基板(未圖示)，需要單獨地提供對應(yīng)于不同尺寸的基板支撐臺，這導(dǎo)致工藝中的損失。
同時，如圖3中所示，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的另一實例的基板支撐臺中，提供支撐基板G3的多個襯墊40和40a。在襯墊40和40a中，中心襯墊40固定，而定位在兩邊處的襯墊40a在由箭頭所示的方向上移動。在圖3的情況下，由于定位在兩邊處的襯墊40a可移動，所以除圖2中所示的基板G1和G2之外，可有效地支撐比圖2中所示的基板G2大的基板G3。
然而，當(dāng)定位在兩邊處的襯墊40a從由虛線所示的位置移動到由實線所示的位置并支撐基板G3時，襯墊40與40a之間的間隔H1和H2中產(chǎn)生差異。具體來說，由于在定位到兩邊且移動其位置的襯墊40a的附近產(chǎn)生較大間隔H2，所以基板G3可能在對應(yīng)區(qū)域中嚴(yán)重下陷。如果基板G3嚴(yán)重下陷，那么在檢查FPD基板5(參看圖1)的檢查設(shè)備(參看圖1)中所使用的臺的情況下，可能出現(xiàn)檢查誤差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種基板支撐臺和一種具有所述基板支撐臺的基板檢查設(shè)備，其可通過改進(jìn)檢查效率和減小生產(chǎn)時間的量來改進(jìn)生產(chǎn)率，并通過防止需要不必要的外圍裝置，且通過使用單個檢查設(shè)備共同地執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查來減小工作空間和各種損失。
根據(jù)本發(fā)明的另一目的，提供一種基板支撐臺和一種具有所述基板支撐臺的基板檢查設(shè)備，其可減小執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時間的總量，并增加自動對焦跟蹤范圍，甚至在基板的平面度由于基板的下陷(由于尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時也可執(zhí)行有效檢查，且減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間。
根據(jù)本發(fā)明的又一目標(biāo)，提供一種基板支撐臺和一種具有所述基板支撐臺的基板檢查設(shè)備，其可減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間，且相對于基板的個別表面安裝相機(jī)，從而減小了執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時間的總量。
根據(jù)本發(fā)明的又一目標(biāo)，提供一種基板支撐臺和一種具有所述基板支撐臺的基板檢查設(shè)備，其可穩(wěn)定地支撐具有各種尺寸的基板，同時防止基板損壞和被支撐的基板下陷。
本發(fā)明的額外優(yōu)勢、目的和特征將部分地在以下的描述內(nèi)容中陳述，且部分地將對研究過下文后的所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員來說變得明顯，且可通過實踐本發(fā)明而學(xué)習(xí)到。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供一種基板檢查設(shè)備，其包括上面穩(wěn)定地安裝有基板的臺，所述基板成為檢查目標(biāo)，其中對附接到所述基板一邊的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查；至少一個凹痕檢查相機(jī)，其對TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查所述TAB中是否出現(xiàn)凹痕；至少一個裂縫檢查相機(jī)，其對TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查基板的TAB區(qū)域中是否出現(xiàn)裂縫；和光學(xué)系統(tǒng)移動單元，其支撐所述凹痕檢查相機(jī)和所述裂縫檢查相機(jī)，以便相對于所述臺而相對地移動。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種基板檢查設(shè)備，其包括上面穩(wěn)定地安裝有基板的臺，所述基板成為檢查目標(biāo)，其中對附接到所述基板一邊的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查；至少一個相機(jī)，其對基板的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相；光學(xué)系統(tǒng)移動單元，其耦合到所述相機(jī)并相對于所述臺而相對地移動所述相機(jī)；至少一個位移傳感器，其測量基板的位移；和控制單元，其在由位移傳感器獲得的信息的基礎(chǔ)上控制相機(jī)的移動。
根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供一種基板檢查設(shè)備，其包括上面穩(wěn)定地安裝有基板的固定臺，所述基板成為凹痕檢查目標(biāo)，其中對附接到所述基板一邊的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查，所述固定臺固定地安裝在預(yù)定位置；至少一個相機(jī)，其對基板的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相；和光學(xué)系統(tǒng)移動單元，其耦合到所述相機(jī)，并相對于固定臺而相對地移動所述相機(jī)，使得相機(jī)對固定臺上的基板的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相。
根據(jù)本發(fā)明的第四方面，提供一種基板支撐臺，其包括多個襯墊，其支撐基板；和移動支撐部分，其可移動地支撐所述多個襯墊，使得所述多個襯墊彼此接近并以規(guī)則間隔彼此遠(yuǎn)離。


通過結(jié)合附圖閱讀以下詳細(xì)描述內(nèi)容，本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)勢將更明顯，其中
圖1是說明根據(jù)相關(guān)技術(shù)的實例的凹痕檢查設(shè)備的示意性透視圖。
圖2和3是說明根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板支撐臺的結(jié)構(gòu)的示意圖。
圖4是說明根據(jù)本發(fā)明第一示范性實施例的基板檢查設(shè)備的透視圖。
圖5是說明基板穩(wěn)定地安裝在圖4中所示的基板檢查設(shè)備的臺上的狀態(tài)的透視圖。
圖6是圖5的平面圖。
圖7是圖6的部分放大圖。
圖8是圖7的示意性側(cè)面圖。
圖9是圖4中所示的支撐檢查設(shè)備的控制方框圖。
圖10是說明根據(jù)本發(fā)明第二示范性實施例的基板檢查設(shè)備的示意性方框圖。
圖11是說明圖10所示的基板檢查設(shè)備的示意性透視圖。
圖12是說明圖11中所示的基板檢查設(shè)備的主要元件的放大透視圖。
圖13是說明圖10中所示的基板檢查設(shè)備的操作的圖。
圖14是說明根據(jù)本發(fā)明第三示范性實施例的基板檢查設(shè)備的示意性透視圖。
圖15和16是說明根據(jù)本發(fā)明第四示范性實施例的基板檢查設(shè)備的透視圖。
圖17和18是圖15和16中所示的基板檢查設(shè)備的平面圖。
圖19是說明根據(jù)本發(fā)明第五示范性實施例的基板檢查臺的透視圖。
圖20和21是說明根據(jù)本發(fā)明第六示范性實施例的基板支撐臺的透視圖。
圖22和23是根據(jù)本發(fā)明第七示范性實施例的基板支撐臺的平面圖。
具體實施例方式
在下文中，將參考附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的優(yōu)選實施例。通過參照待參看附圖詳細(xì)描述的實施例，本發(fā)明的方面和特征以及用于實現(xiàn)所述方面和特征的方法將變得明顯。然而，本發(fā)明并非限于下文所揭示的實施例，而是可以不同形式來實施。描述內(nèi)容中所界定的內(nèi)容(例如詳細(xì)構(gòu)造和元件)只是被提供以輔助所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員全面理解本發(fā)明的特定細(xì)節(jié)，且本發(fā)明僅界定在所附權(quán)利要求書的范圍內(nèi)。在本發(fā)明的整個描述內(nèi)容中，在各個圖中，相同的附圖參考標(biāo)號始終用于相同的元件。
為參考起見，下文將描述的基板意味著LCD(液晶顯示器)基板、PDP(等離子顯示面板)基板和OLED(有機(jī)發(fā)光二極管)基板。然而，為了便于闡釋，上文所述的基板被稱為FPD(平板顯示器)基板。
另外，為了便于闡釋，TAB和光學(xué)系統(tǒng)移動單元的每一者在每一位置處由不同的參考標(biāo)號表示，且相機(jī)由同一參考標(biāo)號表示。
圖4是說明根據(jù)本發(fā)明第一示范性實施例的基板檢查設(shè)備的透視圖，圖5是說明基板穩(wěn)定地安裝在圖4中所示的基板檢查設(shè)備的臺上的狀態(tài)的透視圖，圖6是圖5的平面圖，圖7是圖5的部分放大圖，圖8是圖7的示意性側(cè)面圖，且圖9是圖4中所示的基板檢查設(shè)備的控制方框圖。
如圖中所示，根據(jù)本發(fā)明第一示范性實施例的基板檢查設(shè)備101包含檢查設(shè)備主體110；臺120，其提供在檢查設(shè)備主體110中且上面穩(wěn)定地安裝有FDP基板105(待檢查)；光學(xué)系統(tǒng)移動單元130，其耦合到檢查設(shè)備主體110的上部，并支撐下文將描述的凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150，使得凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150在水平方向上移動，且上升和下降；凹痕檢查相機(jī)140，其在沿光學(xué)系統(tǒng)移動單元130移動時，檢查提供在FPD基板105中的TAB 107a到107c是否有凹痕；裂縫檢查相機(jī)105，其檢查FPD基板105的對應(yīng)于TAB 107a到107c的區(qū)域的部分中是否出現(xiàn)裂縫；位移傳感器160，其測量凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150與FDP基板105之間的位移；和控制單元170，其在位移傳感器160獲得的信息的基礎(chǔ)上控制凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150的移動。
檢查設(shè)備主體110是形成根據(jù)本發(fā)明第一示范性實施例的基板檢查設(shè)備101的外部的一部分。在一些情況下，檢查設(shè)備主體110可稱為檢查工作臺。參看附圖，僅為了便于闡釋而將檢查設(shè)備主體110繪示成盒狀形狀。
因此，可在檢查設(shè)備主體110下方提供輪子(未圖示)以移動檢查設(shè)備主體110，且可在檢查設(shè)備主體110中提供用于操作光學(xué)系統(tǒng)移動單元130的一連串機(jī)械裝置。然而，將省略對以上裝置的詳細(xì)描述。另外，可在檢查設(shè)備主體110一邊上提供用于顯示一連串檢查過程的監(jiān)視器(未圖示)。
臺120耦合到檢查設(shè)備主體110的上部，并支撐FPD基板105，使得待檢查的FPD基板105穩(wěn)定地安裝在臺120的頂面上。如圖中所示，臺120可形成為具有預(yù)定厚度的矩形板的形狀，且通常被制造成具有比FPD基板105小的面積。
因此，如果FPD基板105穩(wěn)定地安裝在臺120的頂面上，那么待檢查的TAB 107a到107c的區(qū)域可能會暴露在臺120外部。因此，可通過設(shè)置在臺120下方的凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150的照相來執(zhí)行對TAB107a到107c的區(qū)域的凹痕和裂縫檢查。
為參考起見，在附圖中，F(xiàn)PD基板105直接安裝在臺120上，但通常在臺的頂面上提供多個頂升銷(未圖示)。因此，當(dāng)FPD基板105由單獨傳送機(jī)械臂裝載在臺120上時，頂升銷上升并支撐FPD基板105的底面。接著，如果頂升銷下降，那么FPD基板105可裝載在臺120的頂面上。在抽取FPD基板105時，在頂升銷上升的狀態(tài)下抽取FPD基板105。
如果將臺120制造成具有比FPD基板105大的面積，且FPD基板105裝載在臺120的頂面上，那么臺120需要由透明材料形成，以便對臺120的底面上的FPD基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相。然而，當(dāng)臺120由透明材料形成時，可在某種程度上執(zhí)行裂縫檢查，且可能難以準(zhǔn)確地執(zhí)行凹痕檢查。因此，如上文所述，優(yōu)選將臺120制造成具有比FPD基板105小的面積。
然而，當(dāng)將臺120制造成具有比FPD基板105大的面積時，F(xiàn)PD基板105穩(wěn)定地安裝在臺1 20的頂面上，使得TAB 107a到107c的區(qū)域暴露在臺120外部。以此方式，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150可安全地對FPD基板105進(jìn)行照相。
當(dāng)然，臺120可具有柱形形狀、矩形塊形狀和多邊形塊形狀。然而，在此情況下，在昂貴的FPD基板105穩(wěn)定地安裝在臺120的頂面上之后，F(xiàn)PD基板105不應(yīng)在檢查過程期間與臺120分離或從臺120上落下。因此，優(yōu)選臺120以真空吸附方法或類似方法支撐FPD基板105。
在此實施例中，基板檢查設(shè)備101具有下述結(jié)構(gòu)其中當(dāng)凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150相對于固定臺120而移動時，對穩(wěn)定地安裝在臺120上的FPD基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域執(zhí)行凹痕和裂縫檢查。因此，臺120耦合并固定到檢查設(shè)備主體110的上部。
然而，在此情況下，單獨的基板傳送機(jī)械臂(未圖示)需要將待檢查的FPD基板105穩(wěn)定地安裝在臺120的頂面的預(yù)定位置處，否則，沿光學(xué)系統(tǒng)移動單元130移動的凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150不能準(zhǔn)確地對TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相。也就是說，如果FPD基板105不是安裝在臺120的頂面的預(yù)定位置處，那么凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150不能準(zhǔn)確地對TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相。
因此，將臺120制造成實質(zhì)上固定，且臺120需要在預(yù)定角范圍內(nèi)被可旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動，使得穩(wěn)定地安裝在臺120的頂面上的FPD基板105在預(yù)定位置處對準(zhǔn)，這由提供在臺120下方的臺旋轉(zhuǎn)單元122來執(zhí)行。當(dāng)然，在設(shè)計時可省略臺旋轉(zhuǎn)單元122。
由此，由于臺120實質(zhì)上固定，所以有可能減小在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備中移動所述臺(未圖示)所需的較大設(shè)備比例和較大設(shè)備安裝空間。另外，當(dāng)相對較大的臺移動時發(fā)生的微粒污染或施加到FPD基板105的物理沖擊可預(yù)先防止，這促進(jìn)了產(chǎn)率的改進(jìn)。然而，本發(fā)明并非局限于此，且臺120可移動。當(dāng)使用可移動臺120時，可應(yīng)用稍后將描述的根據(jù)本發(fā)明第四到第七示范性實施例的基板支撐臺(未圖示)。
光學(xué)系統(tǒng)移動單元130是凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150以及位移傳感器160借以支撐和移動的部分。光學(xué)系統(tǒng)移動單元130支撐凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150，使得凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150可相對于臺120而相對地移動。
如上文所述，在根據(jù)此實施例的基板檢查設(shè)備101中，隨著凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150移動而進(jìn)行凹痕和裂縫檢查。光學(xué)系統(tǒng)移動單元130負(fù)責(zé)移動凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150。
光學(xué)系統(tǒng)移動單元130包含多個水平部分131a到131c；第一垂直部分132a到132c，其耦合到所述水平部分131a到131c，且可移動地支撐凹痕檢查相機(jī)140和位移傳感器160；和第二垂直部分133a到133c，其可移動地支撐裂縫檢查相機(jī)150，同時獨立于第一垂直部分132a到132c而移動。
為參考起見，由于由根據(jù)此實施例的基板檢查設(shè)備101檢查的FPD基板105的尺寸較大，所以TAB 107a和107b附接(壓縮并接合)到FPD基板105的兩個短邊，且一連串TAB 107c附接到FPD基板105的一長邊。也就是說，TAB 107a到107c附接到FPD基板105的除另一長邊之外的三個邊。因此，提供光學(xué)系統(tǒng)移動單元130、位移傳感器160以及凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150以對應(yīng)于TAB 107a到107c。
水平部分131a到131c耦合到檢查設(shè)備主體110的上部，且提供在三個部分中，以便對應(yīng)于形成于FPD基板105中的TAB 107a到107c。也就是說，提供兩個水平部分131a和131b以對應(yīng)于FPD基板105的兩個短邊，且提供一個水平部分131c以對應(yīng)于FPD基板105的一個長邊。如圖中所示，水平部分131a到131c可彼此分離，且可彼此集成為“U”形狀。
第一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c分別耦合到水平部分131a到131c。第一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c的一邊可沿水平部分131a到131c移動，且其另邊支撐對應(yīng)的凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150以及對應(yīng)的位移傳感器160。
在第一垂直部分132a到132c與第二垂直部分133a到133c之間，支撐凹痕檢查相機(jī)140和位移傳感器160的第一垂直部分132a到132c可在對應(yīng)位置處上升和下降。即，第一垂直部分132a到132c上升和下降，使得凹痕檢查相機(jī)140可接近和遠(yuǎn)離FPD基板105。當(dāng)然，上升和下降操作由控制單元170控制。參看圖4和5，由參考標(biāo)號132a表示的第一垂直部分處于上升狀態(tài)，且由參考標(biāo)號132b和132c表示的第一垂直部分處于下降狀態(tài)。第一垂直部分132a到132c可以共同線性運動或伸縮套管結(jié)構(gòu)上升和下降。
與第一垂直部分132a到132c不同，第二垂直部分133a到133c并不上升和下降。如下文所述，由于凹痕檢查相機(jī)140僅需要對TAB 107a到107c的局部區(qū)域進(jìn)行照相，以便精密地檢查是否存在凹痕，所以由于自動對焦或類似情況的緣故，凹痕檢查相機(jī)140需要相對于FPD基板105而上升和下降。然而，由于裂縫檢查相機(jī)150需要對TAB 107a到107c的較大區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查是否存在裂縫，所以裂縫檢查相機(jī)150不需要相對于FPD基板105而上升和下降。
另外，在水平部分131a到131c上，上面安裝有裂縫檢查相機(jī)150的第二垂直部分133a到133c的移動速度V1(見圖7)相對快于上面安裝有凹痕檢查相機(jī)140和位移傳感器160的第一垂直部分132a到132c的移動速度V2(見圖7)。因此，第二垂直部分133a到133c設(shè)置在第一垂直部分132a到132c的前面，并比第一垂直部分132a到132c更快地移動。
因此，在一個FPD基板105中，在TAB 107a到107c所有區(qū)域中執(zhí)行裂縫檢查。也就是說，借助安裝于設(shè)置在第一垂直部分132a到132c前面并比第一垂直部分132a到132c更快地移動的第二垂直部分133a到133c上的裂縫檢查相機(jī)150，在TAB 107a到107c的所有區(qū)域中執(zhí)行裂縫檢查。
然而，與裂縫檢查不同，需精密且緩慢地執(zhí)行凹痕檢查。出于此原因，考慮到執(zhí)行凹痕檢查所需的時間的量，不在TAB 107a到107c的所有區(qū)域中執(zhí)行凹痕檢查。也就是說，借助安裝于設(shè)置在第二垂直部分133a到133c后面且比第二垂直部分133a到133c相對較慢地移動的第一垂直部分132a到132c上的凹痕檢查相機(jī)140，在從TAB 107a到107c的區(qū)域中選擇的部分區(qū)域中執(zhí)行凹痕檢查。
在第一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c不是彼此分離而是彼此集成之后，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150以及位移傳感器160可一起移動。然而，在此情況下，檢查時間的量增加，這減小了產(chǎn)率。
凹痕檢查相機(jī)140耦合到第一垂直部分132a到132c的上部的一邊。凹痕檢查相機(jī)140對FPD基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相，以便執(zhí)行凹痕檢查，所述凹痕檢查檢查TAB 107a到107c的電極圖案是否準(zhǔn)確地附接到FPD基板105的電極圖案，以及導(dǎo)電球的形狀和位置是否準(zhǔn)確。如上文所述，凹痕檢查相機(jī)140僅對TAB 107a到107c的局部區(qū)域進(jìn)行照相，以便精密地檢查是否出現(xiàn)凹痕。參看圖7，由凹痕檢查相機(jī)140進(jìn)行照相的照相范圍較窄。
裂縫檢查相機(jī)150耦合到第二垂直部分133a到133c的上部的一邊，且當(dāng)沿對應(yīng)的水平部分131a到133c移動時，檢查FPD基板105的對應(yīng)于TAB107a到107c的區(qū)域的部分中是否出現(xiàn)裂縫。
此時，與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的相機(jī)不同，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150可用作線掃描相機(jī)。
如上文所述，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕和裂縫檢查設(shè)備中，當(dāng)臺(未圖示)重復(fù)地移動和停止時，出于自動對焦的目的而需要使用面陣相機(jī)。然而，在此實施例中，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150可由光學(xué)系統(tǒng)移動單元130移動，且凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150的移動速度可由控制單元170個別地控制。在凹痕檢查相機(jī)140的情況下，由于可執(zhí)行用于自動對焦的上升和下降操作，所以可使用線掃描相機(jī)。
由此，在使用線掃描相機(jī)的根據(jù)此實施例的基板檢查設(shè)備101中，由于凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150在移動時可獲得移動區(qū)域中存在的圖像，所以可執(zhí)行連續(xù)和實時檢查。也就是說，如果使用線掃描相機(jī)，那么可獲得相對較高分辨率的圖像。因此，與使用根據(jù)相關(guān)技術(shù)的面陣相機(jī)的凹痕和裂縫檢查設(shè)備相比，檢查精度可改進(jìn)且檢查面積可增加，其執(zhí)行連續(xù)和實時的檢查。
為參考起見，為了使凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150執(zhí)行各自的功能，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150需要具備一種結(jié)構(gòu)，例如照明或反射板。然而，由于此結(jié)構(gòu)是一般的相機(jī)結(jié)構(gòu)，所以將省略對其的詳細(xì)描述。
同時，由臺120支撐的FPD基板105的幾乎整個區(qū)域是平面的，但FPD基板105的平面度可能是不規(guī)則的，如由圖8中的實線所示。
如圖8中所示，在FPD基板105的平面度不是規(guī)則的而是不規(guī)則的情況下，如果凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150對TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相，那么難以獲得清楚的圖像。在裂縫檢查相機(jī)150的情況下，即使在FPD基板的平面度不規(guī)則時，獲得清楚的圖像并執(zhí)行裂縫檢查也不是很難。然而，在凹痕檢查相機(jī)140的情況下，需要執(zhí)行自動對焦，以便獲得對應(yīng)區(qū)域上的清楚圖像。此時，當(dāng)FPD基板105的平面度不是規(guī)則的而是不規(guī)則的時，需花費較大量的時間來執(zhí)行自動對焦，且因此難以減少生產(chǎn)時間。
因此，在此實施例中，在凹痕檢查相機(jī)140的前面提供位移傳感器160，以便預(yù)先測量凹痕檢查相機(jī)140與FPD基板105之間的位移。接著，位移傳感器160將關(guān)于測量到的位移的信息傳輸?shù)娇刂茊卧?70，且控制單元170在關(guān)于測量到的位移的信息的基礎(chǔ)上，驅(qū)動沿光學(xué)系統(tǒng)移動單元130移動的凹痕檢查相機(jī)140上升和下降(圖8中的距離H)，使得凹痕檢查相機(jī)140可接近和遠(yuǎn)離FPD基板105，這會顯著減少執(zhí)行自動對焦所需的時間的量。
對生產(chǎn)類型給出詳細(xì)描述。在凹痕檢查相機(jī)140移動之前或當(dāng)凹痕檢查相機(jī)140移動時，位移傳感器160將通過預(yù)先測量對應(yīng)的TAB 107a到107c與凹痕檢查相機(jī)140之間的間隔而獲得的信息傳輸?shù)娇刂茊卧?70。在達(dá)到實質(zhì)檢查點之前，凹痕檢查相機(jī)140可根據(jù)控制單元170的控制操作而預(yù)先上升和下降。因此，執(zhí)行自動對焦所需的時間的量減少，這減少了生產(chǎn)時間的總量。另外，有可能增加自動對焦跟蹤范圍，且即使在FPD基板105的平面度由于FPD基板105的下陷(由于尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時，也有可能有效地執(zhí)行凹痕檢查。
另外，在基板下陷的量超過使用面陣相機(jī)的相關(guān)技術(shù)中的自動對焦跟蹤范圍的情況下，需要使用搜索功能，這增加了生產(chǎn)時間的量。然而，在此實施例中，如果在由位移傳感器160獲得的信息的基礎(chǔ)上預(yù)先控制凹痕檢查相機(jī)140的移動，那么與相關(guān)技術(shù)相比，有可能增加自動對焦跟蹤范圍。因此，即使在FPD基板105的下陷由于FPD基板105的尺寸增加的緣故而較嚴(yán)重時，也可在執(zhí)行自動對焦的同時實時地執(zhí)行檢查，而在預(yù)定范圍內(nèi)無需單獨的搜索功能，這減少了生產(chǎn)時間的量。
當(dāng)然，不可能僅通過使用光學(xué)系統(tǒng)移動單元130來相對于凹痕檢查相機(jī)140安全地實現(xiàn)自動對焦。然而，在可進(jìn)行自動對焦的自動對焦跟蹤范圍內(nèi)預(yù)先上升和下降凹痕檢查相機(jī)140之后，凹痕檢查相機(jī)140對對應(yīng)區(qū)域進(jìn)行照相。以此方式，有可能獲得清楚的圖像，且顯著減少生產(chǎn)時間的量。為參考起見，當(dāng)在根據(jù)此實施例的結(jié)構(gòu)中操作時，已從實驗證實，即使自動對焦跟蹤范圍可能變成4mm或更大，也不會存在任何問題。
如上文重復(fù)描述的，位移傳感器160測量凹痕檢查相機(jī)140與FPD基板105之間的位移，并將測量到的結(jié)果傳輸?shù)娇刂茊卧?70。因此，位移傳感器160優(yōu)選定位在凹痕檢查相機(jī)140前面。因此，在此實施例中，在位移傳感器160和凹痕檢查相機(jī)140安裝在第一垂直部分132a到132c中的每一者上的狀態(tài)下，位移傳感器160和凹痕檢查相機(jī)140一起移動。然而，位移傳感器160不一定與凹痕檢查相機(jī)140一起移動，且可個別地移動和操作。激光傳感器可用作位移傳感器160。
在凹痕檢查相機(jī)140到達(dá)待照相的TAB 107a到107c的區(qū)域之前，控制單元170事先從位移傳感器160獲得關(guān)于FPD基板1 05的平面度的信息，且通過水平部分131a到131c和第一垂直部分132a到132c來控制凹痕檢查相機(jī)140的移動。
具體地說，為了使凹痕檢查相機(jī)140可對TAB 107a到107c的區(qū)域?qū)崟r執(zhí)行自動對焦，控制單元170控制凹痕檢查相機(jī)140，使得凹痕檢查相機(jī)140可在光學(xué)系統(tǒng)移動單元130上接近和遠(yuǎn)離FPD基板105。另外，為了在凹痕檢查相機(jī)140的照相操作期間，獲得來自凹痕檢查相機(jī)140的移動路徑的整個區(qū)域的圖像，控制單元170控制凹痕檢查相機(jī)140連續(xù)移動。當(dāng)然，控制單元170獨立地移動裂縫檢查相機(jī)150。
下文將描述具有上述結(jié)構(gòu)的基板檢查設(shè)備101的操作和功能。
首先，待檢查的FPD基板105由單獨機(jī)械臂穩(wěn)定地安裝在臺上。也就是說，當(dāng)單獨的機(jī)械臂將FPD基板105裝載在臺120上時，頂升銷上升并支撐FPD基板105的底面。接著，當(dāng)頂升銷下降時，F(xiàn)PD基板105可裝載并穩(wěn)定地安裝在臺120的頂面上。接著，F(xiàn)PD基板105可由臺旋轉(zhuǎn)單元122對準(zhǔn)。
接著，控制單元170控制光學(xué)系統(tǒng)移動單元130，使得凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150以及位移傳感器160可移動。也就是說，耦合到第一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c的凹痕檢查相機(jī)140和位移傳感器160以及裂縫檢查相機(jī)150分別沿對應(yīng)的水平部分131a到131c在由圖4中的箭頭A、B和C所示的方向上移動。如上文所述，在上面安裝有裂縫檢查相機(jī)150的第二垂直部分133a到133c首先以較高速度移動之后，上面安裝有凹痕檢查相機(jī)140和位移傳感器160的第一垂直部分132a到132c移動。
由于裂縫檢查相機(jī)150不需要執(zhí)行單獨的自動對焦操作，所以裂縫檢查相機(jī)150可在以較高速度移動時對TAB 107a到107c的整個區(qū)域執(zhí)行裂縫檢查。然而，在凹痕檢查相機(jī)140的情況下，首先，定位在凹痕檢查相機(jī)140前面的位移傳感器160測量凹痕檢查相機(jī)140與FPD基板105之間的位移，并將測量結(jié)果傳輸?shù)娇刂茊卧?70。在所傳輸?shù)奈灰菩畔⒌幕A(chǔ)上，控制單元170控制第一垂直部分132a到132c上升和下降。因此，在凹痕檢查相機(jī)140可執(zhí)行自動對焦的情況下，凹痕檢查相機(jī)140在光學(xué)系統(tǒng)移動單元130上對FPD基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相，以便執(zhí)行凹痕檢查。
具體來說，根據(jù)控制單元170的控制操作，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150在連續(xù)地執(zhí)行水平移動以及上升和下降運動的同時，對FPD基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相，而無需停止其移動，這樣便可實現(xiàn)實時的凹痕和裂縫檢查。
另外，由于凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150僅對FPD基板105的每一側(cè)的對應(yīng)位置進(jìn)行照相，所以有可能顯著減少執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查所需的時間的量。為參考起見，由于需花費約5秒鐘來對32英寸的FPD基板105執(zhí)行凹痕和裂縫檢查，所以與相關(guān)技術(shù)相比，檢查時間顯著減少。因此，可減少生產(chǎn)時間的量，且可對所有產(chǎn)品執(zhí)行凹痕和裂縫檢查。另外，有可能對下陷嚴(yán)重且平面度不規(guī)則的FPD基板執(zhí)行檢查。
由此，根據(jù)本發(fā)明，由于可通過使用單個檢查設(shè)備共同地執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查兩者，所以可改進(jìn)檢查效率。另外，可減少生產(chǎn)時間的量，這增加了生產(chǎn)率。
另外，由于可防止需要不必要的外圍裝置，所以可減小工作空間。因此，與相關(guān)技術(shù)相比，可減少各種損失。
為參考起見，在此實施例中，由于單個基板檢查設(shè)備共同地執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查，所以有可能達(dá)到將基板檢查設(shè)備的體積減小50％或更多的效果。以此方式，不僅可減小基板檢查設(shè)備的體積，而且可減小安裝基板檢查設(shè)備的空間或工作空間。因此，還可顯著減小清洗制造成本。
圖10是說明根據(jù)本發(fā)明第二示范性實施例的基板檢查設(shè)備的示意性方框圖，圖11是說明圖10中所示的基板檢查設(shè)備的示意性透視圖，圖12是說明圖11中所示的基板檢查設(shè)備的主要元件的放大透視圖，且圖13是說明圖10中所示的基板檢查設(shè)備的操作的圖。參看圖1和圖10到13來作出描述。
如圖中所示，根據(jù)本發(fā)明第二示范性實施例的基板檢查設(shè)備201包含臺220，F(xiàn)PD基板205穩(wěn)定地安裝且支撐在臺220上；線掃描相機(jī)210，其對TAB 207a附接到的FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相；位移傳感器230，其提供在線掃描相機(jī)210的前面；光學(xué)系統(tǒng)移動單元250，其將線掃描相機(jī)210移動到臺220一側(cè)；和控制單元260，其控制線掃描相機(jī)210的移動，以便實時執(zhí)行自動對焦。
如圖10中所示，在根據(jù)本發(fā)明第二示范性實施例的基板檢查設(shè)備201中，位移傳感器230事先獲得關(guān)于穩(wěn)定地安裝在固定在預(yù)定區(qū)域中的臺220上的FPD基板205(待檢查)的平面度的信息。在由位移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上，控制單元260控制線掃描相機(jī)210的移動，使得線掃描相機(jī)210可實時執(zhí)行自動對焦。
具有上述結(jié)構(gòu)且安裝在光學(xué)系統(tǒng)移動單元250上的線掃描相機(jī)210可在在凹痕檢查區(qū)域中連續(xù)移動的同時執(zhí)行凹痕檢查。因此，根據(jù)此實施例，與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的臺20移動的基板檢查設(shè)備1(參看圖1)相比，可減少生產(chǎn)時間的量。另外，可減少設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間。
對生產(chǎn)類型進(jìn)行詳細(xì)描述。提供在線掃描相機(jī)210的前表面部分前面的位移傳感器230傳輸通過預(yù)先測量TAB 207a與線掃描相機(jī)210之間的間隔而獲得的信息，并在線掃描相機(jī)210移動之前或在線掃描相機(jī)210移動時，將所述信息傳輸?shù)娇刂茊卧?60。線掃描相機(jī)210可在到達(dá)檢查點之前上升和下降。因此，減少了執(zhí)行自動對焦所需的時間的量，這減少了生產(chǎn)時間的總量。
另外，由于線掃描相機(jī)210在到達(dá)檢查點之前可預(yù)先上升和下降，所以有可能增加自動對焦跟蹤范圍。即使在FPD基板235的平面度由于FPD基板235的下陷(由于FPD基板235的尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時，也可執(zhí)行有效檢查。
同時，F(xiàn)PD基板205的TAB 207a可以各種類型附接到FPD基板205的各邊。然而，在此實施例中，首先，對TAB 207a僅附接到一邊(短邊)的FPD基板205進(jìn)行描述。
在將TAB 207a附接到FPD基板205的過程中，基板檢查設(shè)備201檢查各向異性導(dǎo)電膜(未圖示)中出現(xiàn)的凹痕。因此，基板檢查設(shè)備201提取TAB 207a附接到的凹痕檢查區(qū)域上的圖像，并檢查所提取的凹痕圖像。基板檢查設(shè)備201重復(fù)這些過程。
基板檢查設(shè)備201的臺220穩(wěn)定地安裝FPD基板205，其中TAB 207a附接到FPD基板205的一邊且成為凹痕檢查目標(biāo)。在此實施例中，如圖中所示，將臺220形成為具有比FPD基板205小的尺寸，且FPD基板的底面穩(wěn)定地安裝在臺220的頂面上。此時，F(xiàn)PD基板205在TAB 207a的區(qū)域暴露在臺220外部的狀態(tài)下，穩(wěn)定地安裝在臺220的頂面上。具體地說，在提供在臺220中的頂升銷(未圖示)上升的狀態(tài)下，傳送機(jī)械臂(未圖示)將FPD基板205從外部引導(dǎo)到臺220。此時，如果支撐所引導(dǎo)的FPD基板205的頂升銷下降，那么FPD基板205便在TAB 207a的區(qū)域暴露在臺220外部的狀態(tài)下，穩(wěn)定地安裝在臺220上。
因此，穩(wěn)定地安裝在臺220上使得TAB 207a的區(qū)域暴露在臺220外部的FPD基板205設(shè)置在線掃描相機(jī)210可容易地執(zhí)行檢查的位置處。
由于臺220是支撐待檢查的FPD基板205的部分，所以臺220不一定具有上述類型。因此，將臺220制造成具有柱形形狀、正方柱形形狀或矩形板形狀，且在FPD基板205的TAB 207a的區(qū)域暴露在臺220外部的狀態(tài)下穩(wěn)定地安裝FPD基板205。這樣，臺220可具有各種結(jié)構(gòu)，只要線掃描相機(jī)210可檢查FPD基板205即可。
另外，臺220可經(jīng)構(gòu)造以移動，但在此實施例中，將臺220提供為固定到基板檢查設(shè)備201的預(yù)定位置。
由此，固定臺220可解決根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板檢查設(shè)備1(參看圖1)包含可在二維方向(X和Y方向)上移動并旋轉(zhuǎn)(θ)的臺20時發(fā)生的各種問題。
也就是說，由于根據(jù)相關(guān)技術(shù)的臺20在基板檢查設(shè)備1中在二維方向(X和Y方向)上移動并旋轉(zhuǎn)(θ)，所以由于臺20的移動的緣故，設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間增加。同時，在此實施例中，由于臺220相對地固定，所以有可能減小相關(guān)技術(shù)中由于臺20移動而導(dǎo)致的較大設(shè)備比例和較大設(shè)備安裝空間。
另外，由于FPD基板205穩(wěn)定地安裝在臺220上并以此種方式固定，所以有可能減少相關(guān)技術(shù)中移動臺20所需的輔助設(shè)施和功率消耗。另外，有可能事先防止相對較大的FPD基板205移動時發(fā)生的微粒污染或施加到FPD基板205的物理沖擊，這促進(jìn)產(chǎn)率的改進(jìn)。
同時，根據(jù)本發(fā)明，線掃描相機(jī)210和面陣相機(jī)(未圖示)兩者均可用作相機(jī)。在此實施例中，將線掃描相機(jī)210用作相機(jī)。
一般來說，線掃描相機(jī)210主要用于對局部區(qū)域進(jìn)行照相和掃描。在此實施例中，將線掃描相機(jī)210提供為定位在上面穩(wěn)定地安裝有FPD基板205(TAB 207a附接到FPD基板205)的臺220下方，且線掃描相機(jī)210對凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相。
如上文所述，根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板檢查設(shè)備1不得不使用面陣相機(jī)10來在臺20重復(fù)移動和停止時執(zhí)行自動對焦操作。然而，在此實施例中，線掃描相機(jī)210可由稍后將描述的光學(xué)系統(tǒng)移動單元250移動，且可由位移傳感器230實時執(zhí)行自動對焦操作。因此，有可能使用線掃描相機(jī)210。
因此，在根據(jù)此實施例的使用線掃描相機(jī)210的基板檢查設(shè)備201中，由于線掃描相機(jī)210可在移動時獲得整個凹痕檢查區(qū)域上的圖像，所以有可能選擇性地對所獲得圖像的所需區(qū)域執(zhí)行檢查過程。
由此，如果使用線掃描相機(jī)210，那么可獲得相對較高分辨率的照相圖像，這與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的使用面陣相機(jī)10的基板檢查設(shè)備1相比，改進(jìn)了檢查精度且增加了檢查區(qū)域的寬度。
如上文所述，位移傳感器230耦合到線掃描相機(jī)210的前表面的一側(cè)。
位移傳感器230測量FPD基板205的位移或線掃描相機(jī)210與成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板205之間的位移。在此實施例中，盡管未詳細(xì)繪示位移傳感器230，但位移傳感器230耦合到線掃描相機(jī)210的前表面部分的一側(cè)，使得位移傳感器230實質(zhì)上在線掃描相機(jī)210的移動方向上與線掃描相機(jī)210集成。
如圖12和13中所示，位移傳感器230事先測量FPD基板205與線掃描相機(jī)210之間的距離或FPD基板205的位移，使得線掃描相機(jī)210在前進(jìn)了Δt的位置處連續(xù)移動的同時，實時執(zhí)行自動對焦。
根據(jù)相關(guān)技術(shù)的面陣相機(jī)10在臺20到達(dá)凹痕檢查區(qū)域之后執(zhí)行自動對焦，而根據(jù)此實施例的線掃描相機(jī)210可在連續(xù)移動時實時執(zhí)行自動對焦。
此原因如下。由于位移傳感器230耦合到線掃描相機(jī)210的前表面部分的一側(cè)，所以位移傳感器230預(yù)先測量FPD基板205的平面度，并將關(guān)于平面度的信息傳輸?shù)娇刂茊卧?60，且控制單元260控制線掃描相機(jī)210的移動，使得線掃描相機(jī)210可實時執(zhí)行自動對焦。
另外，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的FPD基板5(參看圖1)的下陷量超過面陣相機(jī)10的自動對焦跟蹤范圍的情況下，需要使用搜索功能，且因此增加生產(chǎn)時間的量。然而，在此實施例中，控制單元260在由位移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上，預(yù)先控制線掃描相機(jī)10的移動，這與相關(guān)技術(shù)相比，增加了自動對焦跟蹤范圍。
因此，即使在下陷由于FPD基板205的尺寸增加的緣故而嚴(yán)重時，也可在實時執(zhí)行自動對焦時執(zhí)行檢查，而在預(yù)定范圍內(nèi)無需單獨的搜索功能，這減少了生產(chǎn)時間的量。
也就是說，由于線掃描相機(jī)210可通過使用位移傳感器230實時執(zhí)行自動對焦，所以與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的重復(fù)執(zhí)行移動和停止且在自動對焦之后執(zhí)行檢查的基板檢查設(shè)備1相比，有可能以較高速度連續(xù)執(zhí)行凹痕檢查。因此，與相關(guān)技術(shù)相比，可減少生產(chǎn)時間的量，可防止產(chǎn)品中由于產(chǎn)品尺寸增加而出現(xiàn)下陷，且可改進(jìn)凹痕檢查效率。
位移傳感器230耦合到的線掃描相機(jī)210安裝在光學(xué)系統(tǒng)移動單元250上，以便實質(zhì)上移動。
盡管未詳細(xì)繪示，但在此實施例中，光學(xué)系統(tǒng)移動單元250提供在臺220下方且與TAB 207a附接到的FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域平行設(shè)置，以便允許線性運動。因此，使用光學(xué)系統(tǒng)移動單元250，線掃描相機(jī)210可在連續(xù)移動時對TAB 207a附接到FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查。
另外，光學(xué)系統(tǒng)移動單元250允許線掃描相機(jī)210根據(jù)圖11到13中的箭頭Z所示的方向垂直地上升和下降。因此，在由位移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上，線掃描相機(jī)210可移動到一位置，所述位置可事先在垂直上升和下降時預(yù)先執(zhí)行自動對焦。
提供控制單元260，其控制線掃描相機(jī)210的移動，使得線掃描相機(jī)210可通過光學(xué)系統(tǒng)移動單元250而移動。
控制單元260在由位移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上控制線掃描相機(jī)210的移動。也就是說，在線掃描相機(jī)210到達(dá)FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域之前，控制單元260事先從位移傳感器230獲得關(guān)于FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域的平面度的信息，并控制線掃描相機(jī)210的移動。
因此，控制單元260可控制線掃描相機(jī)210的移動，使得線掃描相機(jī)210可實時對FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域執(zhí)行自動對焦。另外，控制單元260連續(xù)地移動線掃描相機(jī)210，以便在由線掃描相機(jī)210進(jìn)行照相時，獲得線掃描相機(jī)210的移動路徑的整個區(qū)域上的圖像。
由此，根據(jù)控制單元260的控制操作，線掃描相機(jī)210在圖11和12中的箭頭X所示的方向上線性地移動，且連續(xù)地移動到成為凹痕檢查目標(biāo)的TAB 207a的區(qū)域。此時，根據(jù)控制單元260的控制操作，線掃描相機(jī)210在由位移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上，在由箭頭Z所示的方向上上升和下降，并預(yù)先移動到檢查位置，從而實時執(zhí)行自動對焦。
因此，線掃描相機(jī)210在連續(xù)移動時實時執(zhí)行自動對焦，并執(zhí)行凹痕檢查。因此，與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的重復(fù)停止和移動且執(zhí)行檢查的方法相比，可減少生產(chǎn)時間的量，且可改進(jìn)檢查效率。
現(xiàn)將描述具有上述結(jié)構(gòu)的基板檢查設(shè)備的操作。
在下文中，將參看圖10到13，尤其是圖13，來描述基板檢查設(shè)備的操作。
首先，成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板205穩(wěn)定地安裝在基板檢查設(shè)備201的臺220上。此時，附接有TAB 207a的FPD基板的區(qū)域向上設(shè)置。因此，當(dāng)線掃描相機(jī)210定位在臺220下方時，有可能對具有凹痕的TAB 207a進(jìn)行照相并提取其凹痕圖像。
在本發(fā)明中，如果FPD基板205穩(wěn)定地安裝在臺220上并以此種方式固定在其上，那么與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的包含移動臺20(參看圖1)的基板檢查設(shè)備1(參看圖1)相比，可減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間。另外，如上文所述，有可能預(yù)先防止微粒污染或施加到FPD基板205的物理沖擊，這改進(jìn)了產(chǎn)率。
由此，如果FPD基板205穩(wěn)定地安裝在臺220上，那么線掃描相機(jī)210移動，以便對成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板205的TAB 207a的區(qū)域進(jìn)行照相。也就是說，線掃描相機(jī)210通過光學(xué)系統(tǒng)移動單元250而移動，使得線掃描相機(jī)210定位在臺220下方，其中臺220安裝FPD基板205，且凹痕檢查區(qū)域的TAB 207a附接到FPD基板205。
設(shè)置在待首先檢查的TAB 207a的區(qū)域中的線掃描相機(jī)210在預(yù)先由位移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上移動到凹痕檢查區(qū)域，且在實時執(zhí)行自動對焦時對第一凹痕圖像進(jìn)行照相和掃描。此時，位移傳感器230耦合到線掃描相機(jī)210的前表面部分的一側(cè)，以在前進(jìn)了Δt的位置處測量線掃描相機(jī)210與待檢查的FPD基板205之間的位移。也就是說，位移傳感器230事先測量成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板205的平面度，使得在線掃描相機(jī)210到達(dá)凹痕檢查區(qū)域之前，線掃描相機(jī)210可準(zhǔn)確地執(zhí)行自動對焦。
一般來說，尺寸較小的FPD基板205是平面的，如由圖13中的虛線所示。然而，在尺寸較大的FPD基板205的情況下，即使在FPD基板205穩(wěn)定地安裝在臺220上時，F(xiàn)PD基板205的一部分還是會下陷，如在由實線所示的FPD基板205S中。
由此，當(dāng)FPD基板205的平面度由于FPD基板205的下陷(由于尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板檢查設(shè)備(參看圖1)中，F(xiàn)PD基板205的下陷量可能超過自動對焦跟蹤范圍，且因此可能需要執(zhí)行搜索功能。因此，可能增加生產(chǎn)時間的量。
因此，為了解決根據(jù)相關(guān)技術(shù)的上述問題，在本發(fā)明中，即使在FPD基板205S由于基板檢查設(shè)備201的尺寸增加的緣故而下陷時，位移傳感器230也預(yù)先測量關(guān)于FPD基板205S的平面度的信息，并將其傳輸?shù)娇刂茊卧?60。接著，控制單元260可預(yù)先移動線掃描相機(jī)210，以便增加自動對焦跟蹤范圍。當(dāng)線掃描相機(jī)210移動時，線掃描相機(jī)210可在實時執(zhí)行自動對焦的同時對凹痕圖像進(jìn)行照相和檢查。
具體地說，圖13的(A)中所示的線掃描相機(jī)210接收關(guān)于從位移傳感器230前進(jìn)了Δt的位置處的FPD基板的平面度的信息，并在光學(xué)系統(tǒng)移動單元250的參考位置處執(zhí)行自動對焦。圖13的(B)中所示的線掃描相機(jī)210接收指示從位移傳感器230前進(jìn)了Δt的位置處的FPD基板205S向上彎曲的狀態(tài)的信息，并在光學(xué)系統(tǒng)移動單元250上升之后執(zhí)行自動對焦。圖13的(C)中所示的線掃描相機(jī)210接收指示從位移傳感器230前進(jìn)了Δt的位置處的FPD基板205S向下彎曲的狀態(tài)的信息，并在光學(xué)系統(tǒng)移動單元250下降之后執(zhí)行自動對焦。
由此，耦合到線掃描相機(jī)210的前表面部分的一側(cè)的位移傳感器230定位在移動的線掃描相機(jī)210前面，并預(yù)先獲得關(guān)于FPD基板205和205S的平面度的信息，并將其傳輸?shù)娇刂茊卧?60。線掃描相機(jī)210可在移動的同時實時執(zhí)行自動對焦。
由此，使用根據(jù)本發(fā)明的基板檢查設(shè)備201，有可能在線掃描相機(jī)210移動時，對FPD基板205的TAB 207a的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查，且因此臺220不需要執(zhí)行復(fù)雜的操作，例如移動和旋轉(zhuǎn)。因此，與相關(guān)技術(shù)相比，可減少設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間，這減少了制造成本。
另外，線掃描相機(jī)210可在連續(xù)移動時執(zhí)行照相操作，使得線掃描相機(jī)210可通過預(yù)先從位移傳感器230獲得關(guān)于FPD基板205的平面度的信息來實時執(zhí)行自動對焦。因此，有可能減少執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時間的總量，并增加自動對焦跟蹤范圍。即使在FPD基板205的平面度由于FPD基板205的下陷(由于尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時，也可通過實時執(zhí)行自動對焦來進(jìn)行檢查，而無需在預(yù)定范圍內(nèi)使用搜索功能，這總體上改進(jìn)了檢查效率。
圖14是說明根據(jù)本發(fā)明第三示范性實施例的基板檢查設(shè)備的示意性透視圖。
將在關(guān)注與第二示范性實施例的部分不同的部分的同時，描述第三示范性實施例。在第三示范性實施例中，與第二示范性實施例相同的組成元件由相同的參考標(biāo)號表示，且不同的組成元件由添加了字符“a”的參考標(biāo)號表示。
如圖14中所示，根據(jù)本發(fā)明第三示范性實施例的基板檢查設(shè)備201a包含光學(xué)系統(tǒng)移動單元(未圖示)，其構(gòu)造成允許交叉方向上的線性運動；兩個線掃描相機(jī)210和210a，其沿光學(xué)系統(tǒng)移動單元移動，即在X和Y方向上移動；和兩個位移傳感器230和230a。
因此，與根據(jù)第二示范性實施例的可檢查具有一個檢查表面(短邊)的FPD基板205的基板檢查設(shè)備201不同，根據(jù)第三示范性實施例的基板檢查設(shè)備201a將FPD基板205a(待檢查)穩(wěn)定地安裝在臺220上，其中TAB 207a和207b附接到FPD基板205a的待檢查的兩個邊(短邊和長邊)；并檢查FPD基板205a。
在此結(jié)構(gòu)中，基板檢查設(shè)備201a可將FPD基板205a(待檢查)穩(wěn)定地安裝在臺220上，其中TAB 207a和207b附接到FPD基板205a的待檢查的兩個邊(短邊和長邊)，且可檢查FPD基板205a。
另外，基板檢查設(shè)備201a包含兩個線掃描相機(jī)210和210a以及兩個位移傳感器230和230a，且可同時檢查附接到短邊的TAB 207a的區(qū)域和附接到長邊的TAB 207b的區(qū)域兩者。
因此，除根據(jù)上文所述的第二示范性實施例的效果之外，可同時檢查兩個檢查表面，從而提高檢查速度。因此，與相關(guān)技術(shù)相比，可減少生產(chǎn)時間的量，且可改進(jìn)檢查效率。
圖15和16是說明根據(jù)本發(fā)明第四示范性實施例的基板支撐臺的透視圖，且圖17和18是圖15和16中所示的基板支撐臺的平面圖。
圖15到18中所示的基板支撐臺可在上述基板檢查設(shè)備中使用，或可在除所述基板檢查設(shè)備之外的各種設(shè)備中使用，以便支撐基板G。
如圖15到18中所示，根據(jù)此實施例的基板支撐臺包含設(shè)備主體301；多個襯墊310，其支撐基板G；移動支撐單元320，其可移動地支撐所述多個襯墊310，使得所述多個襯墊310彼此接近(參看圖16和18)或以規(guī)則間隔彼此遠(yuǎn)離(參看圖15和17)；以及第一和第二導(dǎo)軌331和332。
設(shè)備主體301是形成根據(jù)本實施例的基板支撐臺的外部的部分。在本實施例中，由于圖中僅繪示多個襯墊310、移動支撐單元320以及第一和第二導(dǎo)軌331和332，所以設(shè)備主體301是局部繪示的。
然而，實際上，除圖中所示的組件之外，設(shè)備主體301還系統(tǒng)地耦合到外圍裝置。舉例來說，當(dāng)根據(jù)本發(fā)明的基板支撐臺在檢查系統(tǒng)中使用時，可進(jìn)一步將上/下單元或左/右移動單元耦合到設(shè)備主體301。
多個襯墊310通過支撐基板G的底面而支撐基板G。因此，實質(zhì)上接觸基板G的襯墊310的每一者均優(yōu)選由不會對由玻璃制成的基板G施加損壞(例如劃痕)的材料形成。舉例來說，可通過在后處理期間對鋁材料進(jìn)行陽極氧化來制造襯墊310。這樣，當(dāng)通過陽極氧化工藝來制造襯墊310時，襯墊不會對由玻璃制成的基板G施加例如劃痕的損壞。
為參考起見，也稱為陽極氧化涂覆工藝的陽極氧化方法是指在金屬表面上形成氧化物膜以便通過氧化膜來防止在空氣中不斷進(jìn)行氧化的工藝。陽極氧化方法在各種領(lǐng)域中使用，但在鋁材料中廣泛使用，因為鋁材料具有在氧化時因脆弱材料的緣故而容易破裂的特性。且在此實施例中，在襯墊310的材料中使用陽極氧化方法。
圖中所示的襯墊310以“U”形狀或階梯狀形成，但本發(fā)明并非局限于此。也就是說，襯墊310不一定具有圖中所示的結(jié)構(gòu)。襯墊310中并非每一者均由參考標(biāo)號來表示。當(dāng)襯墊310形成為具有圖中所示的形狀時，有可能防止襯墊310在支撐相對較重的基板G的過程中變形。
在此實施例中，襯墊310的數(shù)目為12。然而，本發(fā)明并非局限于此，且襯墊310的數(shù)目可大于或小于12。為了便于闡釋，假設(shè)如圖中所示提供12個襯墊310來進(jìn)行描述。
可將12個襯墊310分成一對固定襯墊310a(即兩個襯墊)、兩對驅(qū)動襯墊310b(四個驅(qū)動襯墊)和多對從動襯墊310c(即，六個從動襯墊)。在此情況下，將所述對固定襯墊310a提供成定位并固定在中心區(qū)域中，且將所述兩對驅(qū)動襯墊310b兩個接兩個地提供在12個襯墊310的兩端。將所述多對從動襯墊310c提供在所述對固定襯墊310a與所述兩對驅(qū)動襯墊310b之間。
出于以下原因，可以上述方法來劃分12個襯墊310。固定襯墊310a固定在對應(yīng)位置處，且從動襯墊310c在從動襯墊310c與驅(qū)動襯墊310b互鎖的狀態(tài)下移動。
為參考起見，在圖中，將固定襯墊310a繪示為面積大于驅(qū)動襯墊310b和從動襯墊310c。另外，將固定襯墊310a中的每一者設(shè)置在從連接驅(qū)動襯墊310b與從動襯墊310c的虛擬線向一側(cè)偏離的位置處。然而，由于此結(jié)構(gòu)僅為一個示范性實施例，所以本發(fā)明并非局限于此。也就是說，固定襯墊310a設(shè)置在連接驅(qū)動襯墊310b與從動襯墊310c的虛擬線上，且與驅(qū)動襯墊310b和從動襯墊310c具有相同面積。
所述對固定襯墊310a通過固定襯墊連接部分312a彼此連接，所述兩對驅(qū)動襯墊310b通過對應(yīng)的驅(qū)動襯墊連接部分312b彼此連接，且所述多對從動襯墊310c通過對應(yīng)的從動襯墊連接部分312c彼此連接。因此，驅(qū)動襯墊連接部分312b和從動襯墊連接部分312c(固定襯墊連接部分312a除外)與兩對驅(qū)動襯墊310b和多對從動襯墊310c一起移動。
同時，12個襯墊310在彼此接近(參看圖16和18)和彼此以規(guī)則間隔遠(yuǎn)離(參看圖15和17)時支撐具有不同尺寸的基板(未圖示)。由此，提供移動支撐部分320以及第一和第二導(dǎo)軌331和332，使得12個襯墊310彼此接近和以規(guī)則間隔彼此遠(yuǎn)離。
移動支撐部分320與上述襯墊連接部分312a到312c部分地鏈接。移動支撐部分320包含多個鏈接部分323a和323b，所述多個鏈接部分經(jīng)設(shè)置以彼此交叉并彼此接近和彼此遠(yuǎn)離；和多個鉸接銷部分325a和325b，其在多個鏈接部分323a和323b的相交點處，整體地鉸接耦合到多個鏈接部分323a和323b以及襯墊連接部分312a到312c。
在此實施例中，將形成移動支撐部分320的多個鏈接部分323a和323b分成多個單元鏈接群組320a和320b，其以固定襯墊連接部分312a為基礎(chǔ)，在左側(cè)和右側(cè)處彼此獨立。如圖15到18中所示，兩個單元鏈接群組320a和320b具有相同結(jié)構(gòu)，且對稱設(shè)置(主要參看圖16)。
形成兩個單元鏈接群組320a和320b的鏈接部分323a和323b具有相同單元長度。因此，當(dāng)兩個單元鏈接群組320a和320b操作時，多個襯墊310可彼此接近(參看圖16和18)和以相同間隔H(參看圖17)彼此遠(yuǎn)離(參看圖15和17)。
在固定到固定襯墊連接部分312a的多個鉸接銷部分325a和325b之間的鉸接銷部分325a′和325b′形成參考點，兩個獨立單元鏈接群組320a和320b在所述參考點處移動。在此實施例中，形成兩個獨立單元鏈接群組320a和320b移動的參考點的鉸接銷部分325a′和325b′在固定襯墊連接部分312a上彼此遠(yuǎn)離的位置處形成(參看圖16)。
同時，在多個襯墊310根據(jù)移動支撐部分320的操作而彼此接近和以相同間隔H(參看圖17)彼此遠(yuǎn)離的情況下，提供第一和第二導(dǎo)軌331和332以穩(wěn)定地引導(dǎo)襯墊310的移動。
第一導(dǎo)軌331耦合到兩對驅(qū)動襯墊310b，并引導(dǎo)所述兩對驅(qū)動襯墊310b的移動，使得兩對驅(qū)動襯墊310b可在多個襯墊310彼此接近和彼此遠(yuǎn)離的方向上移動。也就是說，如圖15和16中所示，兩對驅(qū)動襯墊310b可沿第一導(dǎo)軌331的縱向方向移動。此時，第一導(dǎo)軌331可進(jìn)一步耦合到驅(qū)動單元(未圖示)，所述驅(qū)動單元獨立地驅(qū)動兩對驅(qū)動襯墊310b，即驅(qū)動兩對驅(qū)動襯墊310b，使得鏈接部分323a和323b彼此接近(參看圖16和18)和彼此遠(yuǎn)離預(yù)定長度(圖15和17)。
另外，第二導(dǎo)軌332耦合到多對從動襯墊310c，并引導(dǎo)所述多對從動襯墊310c的移動。第一和第二導(dǎo)軌331和332可由線性運動或類似運動來實施。
為了防止第一與第二導(dǎo)軌331與332之間發(fā)生相對干擾，在此實施例中，在相對低于第二導(dǎo)軌332的位置處提供第一導(dǎo)軌331。由此，為了使第一導(dǎo)軌331提供在相對低于第二導(dǎo)軌332的位置處，可將兩對驅(qū)動襯墊310b形成為長度大于多對從動襯墊310c的長度，如圖中所示。
現(xiàn)將描述具有上述結(jié)構(gòu)的基板支撐臺的操作。
在鏈接部分323a和323b彼此接近且多個襯墊310彼此接近(如圖16和18中所示)的初始位置處，包含在第一導(dǎo)軌331中的驅(qū)動單元操作，以便使鏈接部分323a和323b彼此遠(yuǎn)離，且使襯墊310以相同間隔H(參看圖17)彼此遠(yuǎn)離，如圖15和17中所示。
此時，根據(jù)單獨控制信號，驅(qū)動單元獨立地驅(qū)動兩對驅(qū)動襯墊310b，使得鏈接部分323a和323b變成彼此遠(yuǎn)離預(yù)定長度(參看圖16和18)。
由此，如果兩對驅(qū)動襯墊310b沿第一導(dǎo)軌331在相反方向上移動，那么多對從動襯墊310c根據(jù)鏈接部分323a和323b的操作也彼此遠(yuǎn)離與兩對驅(qū)動襯墊310b的移動距離相同的距離。
因此，最終，如圖15和17中所示，襯墊310可以相同間隔H(參看圖17)彼此遠(yuǎn)離。在此狀態(tài)下，基板G穩(wěn)定地安裝在襯墊310上并以此種方式被支撐。此時，由于基板G不會損壞或由襯墊310支撐的基板中不會出現(xiàn)下陷，所以有可能執(zhí)行穩(wěn)定的過程，例如檢查工作。
為參看起見，如果不提供驅(qū)動單元，那么操作者可在相反方向上拉動兩對驅(qū)動襯墊310b，以便將兩對驅(qū)動襯墊310b設(shè)置在所需位置處。
如上文所述，根據(jù)此實施例，可穩(wěn)定地支撐具有不同尺寸的基板，同時可防止基板G損壞或下陷。
圖19是說明根據(jù)本發(fā)明第五示范性實施例的基板支撐臺的透視圖。
在上述示范性實施例中，基板G直接安裝在多個襯墊310的頂面上并以此種方式被支撐。然而，如圖19中所示，可進(jìn)一步在多個襯墊310的頂面上提供支撐基板G的輔助支撐襯墊340。
在此情況下，輔助支撐襯墊340中的每一者可具有寬條形狀，且可耦合到一對襯墊310，即一對固定襯墊310a、兩對驅(qū)動襯墊310b中的每一對和多對從動襯墊310c中的每一對。如圖19中所示，如果進(jìn)一步提供單獨的輔助支撐襯墊340，那么有可能在較寬面積上支撐基板G，這穩(wěn)定地支撐了基板G。
圖20和21是說明根據(jù)本發(fā)明第六示范性實施例的基板支撐臺的透視圖。
在上述第一和第二示范性實施例中，形成兩個獨立單元鏈接群組320a和320b移動的參考點的鉸接銷部分325a′和325b′被提供在固定襯墊連接部分312a上彼此遠(yuǎn)離的位置處(參看圖16)。因此，在兩個單元鏈接群組320a和320b不是彼此連接而是實質(zhì)上彼此遠(yuǎn)離的狀態(tài)下，在設(shè)備主體301中提供兩個單元鏈接群組320a和320b。
然而，與第一和第二示范性實施例不同，形成兩個獨立單元鏈接群組320a和320b移動的參考點的鉸接銷部分325a′和325b′可提供在固定襯墊連接部分312a上的同一位置處，如圖20和21中所示。
在此情況下，形成兩個單元鏈接群組320a和320b的鏈接部分323a和323b可繪示為仿佛其彼此連接。此結(jié)構(gòu)可達(dá)到本發(fā)明的效果。
圖22和23是根據(jù)本發(fā)明第七示范性實施例的基板支撐臺的平面圖。
在上述示范性實施例中，多個襯墊310彼此接近和以相同間隔H(參看圖17)彼此遠(yuǎn)離。然而，如圖22和23中所示，當(dāng)鏈接部分323c和323d構(gòu)造成具有不同單元長度時，多個襯墊310可彼此接近且以規(guī)則間隔H3和H4(不是相同的間隔)彼此遠(yuǎn)離。在一些情況下，多個襯墊310可經(jīng)構(gòu)造以使其彼此接近和以相同的間隔彼此遠(yuǎn)離。
在上述第一示范性實施例中，省略了描述，但在FPD基板中，TAB可附接到一邊、兩個選定邊或所有的四個邊。在此情況下，光學(xué)系統(tǒng)移動單元、位移傳感器和相機(jī)被設(shè)計成根據(jù)所提供的TAB而提供在對應(yīng)位置處。
在上述第一示范性實施例中，凹痕檢查相機(jī)和裂縫檢查相機(jī)沿對應(yīng)的光學(xué)系統(tǒng)移動單元一起移動。然而，凹痕檢查相機(jī)和裂縫檢查相機(jī)可獨立于對應(yīng)的光學(xué)系統(tǒng)移動單元而移動。這可應(yīng)用于位移傳感器。在此情況下，具有可個別地執(zhí)行在凹痕檢查與裂縫檢查之間選擇的一種檢查的優(yōu)勢。
一般來說，在裂縫檢查的情況下，在整個間隔上以較高速度執(zhí)行裂縫檢查，但在凹痕檢查的情況下，由于凹痕檢查的特性，所以可執(zhí)行部分檢查且同時對對應(yīng)區(qū)域進(jìn)行緩慢的檢查。因此，凹痕檢查相機(jī)、裂縫檢查相機(jī)和位移傳感器中的每一者的移動速度可被控制為不同速度。具體來說，當(dāng)凹痕檢查相機(jī)與位移傳感器之間的組合相對較緩慢地被驅(qū)動且裂縫檢查相機(jī)以較高速度獨立地被驅(qū)動時，可執(zhí)行檢查。
在上述第一示范性實施例中，可將線掃描相機(jī)用作相機(jī)。然而，由于相機(jī)可如上文所述由位移傳感器和控制單元來控制，所以在一些情況下可將面陣相機(jī)用作相機(jī)。
在上述第二和第三示范性實施例中，關(guān)于線掃描相機(jī)的移動方向，在位移傳感器耦合到線掃描相機(jī)的前表面部分的一側(cè)的狀態(tài)下，位移傳感器與線掃描相機(jī)一起移動。然而，可實施以下結(jié)構(gòu)。位移傳感器可遠(yuǎn)離線掃描相機(jī)預(yù)定距離，而不與線掃描相機(jī)集成，且可以不同速度個別地移動。
在上述第四到第七示范性實施例中，多個襯墊中的固定襯墊提供在中心區(qū)域中，且驅(qū)動襯墊設(shè)置在兩側(cè)。然而，固定襯墊可設(shè)置在多個襯墊的一端上，驅(qū)動襯墊可設(shè)置在多個襯墊的另一端上，且從動襯墊可設(shè)置在固定襯墊與驅(qū)動襯墊之間。即使在此情況下，也可獲得相同效果。
如上文所述，根據(jù)本發(fā)明的基板檢查設(shè)備和基板支撐臺會產(chǎn)生以下效果。
第一，由于單個檢查設(shè)備共同地執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查，所以可改進(jìn)檢查效率且可減少生產(chǎn)時間的量，從而改進(jìn)生產(chǎn)率。另外，由于可防止需要不必要的外圍裝置，所以可減小工作空間，從而與相關(guān)技術(shù)相比，減少各種損失。
第二，有可能減少執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時間的總量，并增加自動對焦跟蹤范圍。即使在基板的平面度由于基板的下陷(由于尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時，也可執(zhí)行有效檢查，且可減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間。
第三，與相關(guān)技術(shù)相比，可減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間，且相機(jī)可安裝在基板的每一表面上，從而減少執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時間的總量。
所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)了解，可在不脫離如由所附權(quán)利要求書所界定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，對其作出形式和細(xì)節(jié)上的各種替換、修改和改變。因此，應(yīng)了解，上文所述的實施例僅是出于說明的目的，且不應(yīng)被解釋為對本發(fā)明的限制。
權(quán)利要求
1.一種基板檢查設(shè)備，其包括臺，其上面穩(wěn)定地安裝有基板，所述基板成為檢查目標(biāo)，其中對附接到所述基板的一邊的卷帶式自動接合(TAB)的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查；至少一個凹痕檢查相機(jī)，其對所述TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查所述TAB中是否出現(xiàn)凹痕；至少一個裂縫檢查相機(jī)，其對所述TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查所述基板的所述TAB區(qū)域中是否出現(xiàn)裂縫；以及光學(xué)系統(tǒng)移動單元，其支撐所述凹痕檢查相機(jī)和所述裂縫檢查相機(jī)，以便相對于所述臺而相對地移動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查設(shè)備，其進(jìn)一步包括至少一個位移傳感器，其在由所述光學(xué)系統(tǒng)移動單元移動時測量所述基板的位移；以及控制單元，其在由所述位移傳感器獲得的信息的基礎(chǔ)上，控制所述凹痕檢查相機(jī)的移動。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板檢查設(shè)備，其中所述位移傳感器設(shè)置在所述凹痕檢查相機(jī)前面，且在所述凹痕檢查相機(jī)到達(dá)照相目標(biāo)的所述TAB區(qū)域之前，所述控制單元事先從所述位移傳感器獲得關(guān)于所述基板的平面度的信息，并控制所述凹痕檢查相機(jī)的移動。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板檢查設(shè)備，其中所述控制單元控制所述凹痕檢查相機(jī)接近和遠(yuǎn)離所述基板，使得所述凹痕檢查相機(jī)實時地對所述TAB區(qū)域執(zhí)行自動對焦。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板檢查設(shè)備，其中所述控制單元獨立于所述凹痕檢查相機(jī)而控制所述裂縫檢查相機(jī)的移動。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板檢查設(shè)備，其中所述控制單元允許所述凹痕檢查相機(jī)和裂縫檢查相機(jī)連續(xù)移動，以便在所述凹痕檢查相機(jī)和裂縫檢查相機(jī)的照相操作時，獲得所述凹痕檢查相機(jī)和裂縫檢查相機(jī)的移動路徑上的圖像。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板檢查設(shè)備，其中所述凹痕檢查相機(jī)、所述裂縫檢查相機(jī)和所述位移傳感器中的至少一者獨立地移動。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板檢查設(shè)備，其中所述凹痕檢查相機(jī)和所述位移傳感器一起移動，所述裂縫檢查相機(jī)獨立于所述凹痕檢查相機(jī)和所述位移傳感器而移動，且所述裂縫檢查相機(jī)在所述凹痕檢查相機(jī)和所述位移傳感器前面首先移動。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板檢查設(shè)備，其中所述光學(xué)系統(tǒng)移動單元包含多個水平部分，其分別平行于穩(wěn)定地安裝在所述臺上的所述基板的兩個短邊和一個長邊而設(shè)置；多個第一垂直部分，其耦合到所述水平部分，以便沿所述水平部分移動，并支撐所述凹痕檢查相機(jī)和所述位移傳感器；以及多個第二垂直部分，其支撐所述裂縫檢查相機(jī)，并獨立于所述多個第一垂直部分而移動。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板檢查設(shè)備，其中所述第一垂直部分沿所述水平部分的縱向方向移動。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板檢查設(shè)備，其中在對應(yīng)的水平部分上，安裝有所述裂縫檢查相機(jī)的所述第二垂直部分的移動速度相對快于安裝有所述凹痕檢查相機(jī)和所述位移傳感器的所述第一垂直部分的移動速度。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板檢查設(shè)備，其中所述裂縫檢查相機(jī)對所述TAB的所有區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查所述基板中是否出現(xiàn)裂縫，且所述凹痕檢查相機(jī)對從所述TAB的區(qū)域中選擇的至少一部分進(jìn)行照相，以便檢查所述TAB中是否出現(xiàn)凹痕。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查設(shè)備，其進(jìn)一步包括檢查設(shè)備主體，其支撐所述臺，使得所述臺固定地耦合到所述檢查設(shè)備主體的頂面。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查設(shè)備，其中所述凹痕檢查相機(jī)和所述裂縫檢查相機(jī)的類型為線掃描相機(jī)或面陣相機(jī)。
15.一種基板檢查設(shè)備，其包括臺，其上面穩(wěn)定地安裝有基板，所述基板成為檢查目標(biāo)，其中對附接到所述基板的一邊的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查；至少一個相機(jī)，其對所述基板的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相；光學(xué)系統(tǒng)移動單元，其耦合到所述相機(jī)，并相對于所述臺而相對地移動所述相機(jī)；至少一個位移傳感器，其測量所述基板的位移；以及控制單元，其在由所述位移傳感器獲得的信息的基礎(chǔ)上控制所述相機(jī)的移動。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的基板檢查設(shè)備，其中所述位移傳感器在所述相機(jī)的移動方向上提供在所述相機(jī)前面，且在所述相機(jī)到達(dá)所述基板的凹痕檢查區(qū)域之前，所述控制單元事先從所述位移傳感器獲得關(guān)于所述基板的所述凹痕檢查區(qū)域的平面度的信息，并控制所述相機(jī)的移動。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的基板檢查設(shè)備，其中所述控制單元控制所述相機(jī)的移動，使得所述相機(jī)實時地對所述基板的所述凹痕檢查區(qū)域執(zhí)行自動對焦。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的基板檢查設(shè)備，其中所述相機(jī)的類型為線掃描相機(jī)或面陣相機(jī)。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的基板檢查設(shè)備，其中所述控制單元允許所述相機(jī)連續(xù)移動，以便在所述相機(jī)的照相操作時，獲得所述相機(jī)的移動路徑的整個區(qū)域上的圖像。
20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的基板檢查設(shè)備，其中所述位移傳感器在所述凹痕檢查區(qū)域上關(guān)于所述相機(jī)的移動方向在所述相機(jī)前面耦合到所述相機(jī)，并實質(zhì)上與所述相機(jī)整體移動。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的基板檢查設(shè)備，其中所述臺固定地安裝在預(yù)定位置處。
22.一種基板檢查設(shè)備，其包括固定臺，其上面穩(wěn)定地安裝有基板，所述基板成為凹痕檢查目標(biāo)，其中對附接到所述基板的一邊的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查，所述固定臺固定地安裝在預(yù)定位置處；至少一個相機(jī)，其對所述基板的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相；以及光學(xué)系統(tǒng)移動單元，其耦合到所述相機(jī)，并相對于所述固定臺而相對地移動所述相機(jī)，使得所述相機(jī)對所述固定臺上的所述基板的所述凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的基板檢查設(shè)備，其中所述相機(jī)的類型為線掃描相機(jī)或面陣相機(jī)，且提供多個相機(jī)。
24.根據(jù)權(quán)利要求1、15和22中任一權(quán)利要求所述的基板檢查設(shè)備，其中所述基板為作為平板顯示器(FPD)的液晶顯示器(LCD)基板、等離子顯示面板(PDP)基板和有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)基板中的任一者。
25.一種基板支撐臺，其包括多個襯墊，其支撐基板；以及移動支撐部分，其可移動地支撐所述多個襯墊，使得所述多個襯墊彼此接近和以規(guī)則間隔彼此遠(yuǎn)離。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的基板支撐臺，其中所述多個襯墊包含一對固定襯墊，其從所述多個襯墊中選出；至少一對驅(qū)動襯墊，其從所述多個襯墊中選出，并遠(yuǎn)離所述對固定襯墊而定位；以及多對從動襯墊，其設(shè)置在所述對固定襯墊與所述對驅(qū)動襯墊之間。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的基板支撐臺，其中所述對固定襯墊定位并固定在所述多個襯墊的中心處，且至少所述對驅(qū)動襯墊設(shè)置在所述多個襯墊的兩側(cè)。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的基板支撐臺，其進(jìn)一步包括固定襯墊連接部分，其使所述對固定襯墊彼此連接；驅(qū)動襯墊連接部分，其使至少所述對驅(qū)動襯墊彼此連接；以及從動襯墊連接部分，其中的每一者均使所述多對從動襯墊中的每一對對應(yīng)的從動襯墊彼此連接，其中所述移動支撐部分部分地鏈接到所述襯墊連接部分。
29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的基板支撐臺，其中所述移動支撐部分包含多個鏈接部分，其設(shè)置成彼此交叉，且彼此接近和彼此遠(yuǎn)離；以及多個鉸接銷部分，其在所述多個鏈接部分的相交點處，整體地鉸接耦合到所述多個鏈接部分和所述多個襯墊連接部分。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的基板支撐臺，其中所述多個鏈接部分分成兩個獨立的單元鏈接群組，且所述兩個單元鏈接群組中的每一者均從所述固定襯墊連接部分朝向每一驅(qū)動襯墊連接部分一側(cè)形成。
31.根據(jù)權(quán)利要求30所述的基板支撐臺，其中在所述兩個單元鏈接群組中所提供的所述多個鉸接銷部分中，將鉸接耦合到所述固定襯墊連接部分的鉸接銷部分提供為在所述固定襯墊連接部分上彼此遠(yuǎn)離。
32.根據(jù)權(quán)利要求30所述的基板支撐臺，其中在所述兩個單元鏈接群組中所提供的所述多個鉸接銷部分中，將鉸接耦合到所述固定襯墊連接部分的鉸接銷部分提供在所述固定襯墊連接部分上的同一位置處。
33.根據(jù)權(quán)利要求26所述的基板支撐臺，其進(jìn)一步包括第一導(dǎo)軌，其耦合到所述至少一對驅(qū)動襯墊，并引導(dǎo)所述至少一對驅(qū)動襯墊的移動，使得所述至少一對驅(qū)動襯墊在所述多個襯墊彼此接近和彼此遠(yuǎn)離的方向上移動；以及第二導(dǎo)軌，其耦合到所述多對從動襯墊，并引導(dǎo)所述多對從動襯墊的移動。
34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的基板支撐臺，其進(jìn)一步包括設(shè)備主體，其支撐所述第一和第二導(dǎo)軌，其中，在所述設(shè)備主體中，將所述第一導(dǎo)軌提供在比所述第二導(dǎo)軌相對較低的位置處。
35.根據(jù)權(quán)利要求33所述的基板支撐臺，其中獨立地驅(qū)動所述至少一對驅(qū)動襯墊的驅(qū)動單元進(jìn)一步耦合到所述第一導(dǎo)軌。
36.根據(jù)權(quán)利要求25所述的基板支撐臺，其中所述多個襯墊借助所述移動支撐部分而彼此接近和以相等間隔彼此遠(yuǎn)離。
37.根據(jù)權(quán)利要求25所述的基板支撐臺，其進(jìn)一步包括輔助支撐襯墊，其耦合到所述多個襯墊的頂面，并支撐所述基板。
38.根據(jù)權(quán)利要求37所述的基板支撐臺，其中提供多個輔助支撐襯墊，且所述多個輔助襯墊各自耦合到所述多對襯墊中的每一對。
全文摘要
本發(fā)明揭示一種基板支撐臺和一種具有所述基板支撐臺的基板檢查設(shè)備。一種基板檢查設(shè)備包括臺，其上面穩(wěn)定地安裝有基板，所述基板成為檢查目標(biāo)，其中對附接到所述基板的一邊的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查；至少一個凹痕檢查相機(jī)，其對所述TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查所述TAB中是否出現(xiàn)凹痕；至少一個裂縫檢查相機(jī)，其對所述TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查所述基板的TAB區(qū)域中是否出現(xiàn)裂縫；以及光學(xué)系統(tǒng)移動單元，其支撐所述凹痕檢查相機(jī)和所述裂縫檢查相機(jī)，以便相對于所述臺而相對地移動。
文檔編號G01R31/308GK101089616SQ200710110868
公開日2007年12月19日 申請日期2007年6月12日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月13日
發(fā)明者崔裕燦, 洪旋珠, 樸珉鎬 申請人:Sfa工程股份有限公司