專利名稱：用于介入性磁共振的標(biāo)志物追蹤的制作方法
用于介入性磁共振的標(biāo)志物追蹤
本發(fā)明涉及磁共振技術(shù)。其在定位或追蹤導(dǎo)管、穿刺式探頭以及在使 用介入性磁共振成像的過程中使用的其它介入性器械中具有特殊應(yīng)用，并 且將特別參考其進(jìn)行描述。其更一般地與在磁共振掃描儀體積中定位微線 圈協(xié)同應(yīng)用。
介入性磁共振成像用于導(dǎo)弓I介入性設(shè)備來進(jìn)行活組織檢査、定位用于 近距離治療的輻射源、進(jìn)行藥物的靶向輸送或基因治療等。在采用介入性 磁共振成像的過程中，將基準(zhǔn)標(biāo)志物或者基準(zhǔn)標(biāo)志物組件設(shè)置在導(dǎo)管、穿 刺式探頭或其它介入性器械之上或之中。基準(zhǔn)標(biāo)志物可以包括設(shè)計(jì)為可由 磁共振掃描儀探測到的有源微線圈，或者具有在磁共振圖像中顯示出的磁 化率的無源線圈或其它無源標(biāo)志物。
布置在介入性器械的操作尖端的單一基準(zhǔn)標(biāo)志物提供了尖端位置，但 是通常不提供關(guān)于介入性器械定向的信息。而且，定位在器械尖端的基準(zhǔn) 標(biāo)志物可能發(fā)生扭曲，或者妨礙在介入點(diǎn)處精確地成像。因此，包括兩個(gè) 或更多個(gè)(通常三個(gè)或更多個(gè))的基準(zhǔn)標(biāo)志物的基準(zhǔn)標(biāo)志物組件設(shè)置在器 械上，與器械尖端相隔定義距離。通過定位標(biāo)志物，確定基準(zhǔn)標(biāo)志物組件 的位置和定向。由于介入性器械具有關(guān)于基準(zhǔn)標(biāo)志物組件的固定定向和位 置，這依次確定了器械尖端的位置以及任選地確定了定向。
由于使基準(zhǔn)標(biāo)志物組件定位遠(yuǎn)離磁共振系統(tǒng)的等中心(isocenter) —定 距離，使用這種基準(zhǔn)標(biāo)志物組件是復(fù)雜的。在一些情況下，基準(zhǔn)標(biāo)志物組 件可以定位在視場邊緣附近，例如距離等中心200毫米或更多個(gè)。在這些 距離處，由于Bc)/B,不均勻性、不適當(dāng)校正的梯度非線性等，追蹤精確度降 低。如果基準(zhǔn)標(biāo)志物組件移至視場之外，梯度模糊可能導(dǎo)致完全錯(cuò)誤的追 蹤信息。由于在通過內(nèi)膛的移動(dòng)方面沒有固有限制，用于整個(gè)移出視場之 外的電位在z方向上最大。
醫(yī)務(wù)人員在執(zhí)行介入性過程期間，依賴于對(duì)基準(zhǔn)標(biāo)志物組件提供的介入性器械的追蹤。如果追蹤精確度有問題，那么應(yīng)當(dāng)向醫(yī)務(wù)人員報(bào)警。然 而，現(xiàn)有的追蹤系統(tǒng)不提供用于探測追蹤不精確或者由于這種追蹤不精確 而向醫(yī)務(wù)人員報(bào)警的可靠機(jī)構(gòu)。
在用于確定追蹤精確度的一種方法中，使用追蹤歷史來確定是否以及 何時(shí)基準(zhǔn)標(biāo)志物組件離開視場或其它可靠的追蹤范圍。然而，該方法可以
由低的或可變的追蹤幀頻折衷，并且不可用于單次激發(fā)(single—shot)追 蹤技術(shù)。
下文預(yù)期了克服前述及其它限制的改進(jìn)。
根據(jù)一方面，公開了一種追蹤方法。在基準(zhǔn)標(biāo)志物組件的明顯位置處 測量磁共振掃描儀產(chǎn)生的B。磁場的局部B。磁場不均勻性。如果所測量的局 部B。磁場不均勻性滿足警告標(biāo)準(zhǔn)，則發(fā)出警告。
根據(jù)另一方面，公開了一種追蹤系統(tǒng)。B。均勻性追蹤檢驗(yàn)器測量磁共 振掃描儀產(chǎn)生的Bo磁場在基準(zhǔn)標(biāo)志物組件的明顯位置處的局部B。磁場不均 勻性。如果Bo均勻性追蹤檢驗(yàn)器所測量的局部B。磁場不均勻性滿足警告標(biāo) 準(zhǔn)，則用戶界面發(fā)出警告。
根據(jù)另一方面，公開了一種介入性磁共振系統(tǒng)，包括磁共振掃描儀、 基準(zhǔn)標(biāo)志物組件，使用磁共振掃描儀執(zhí)行追蹤處理以至少追蹤基準(zhǔn)標(biāo)志物 組件的明顯位置的追蹤處理器，以及在前一段中所述的Bo均勻性追蹤檢驗(yàn) 器和用戶界面。
一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于更可靠的介入性磁共振追蹤。 另一優(yōu)點(diǎn)在于減少了由不精確追蹤引起的醫(yī)療事故的可能性。 另一優(yōu)點(diǎn)在于以直接的形式向醫(yī)務(wù)人員提供關(guān)于追蹤精確度的信息。 在閱讀優(yōu)選實(shí)施例的下列詳細(xì)描述之后，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而 言，許多附加優(yōu)點(diǎn)和益處將變得顯而易見。
本發(fā)明可以成形為各種部件和部件的布置，以及各種處理操作和處理 操作的布置。附圖的目的僅在于示出優(yōu)選實(shí)施例，而不應(yīng)理解為限制本發(fā) 明。


圖1概略地示出了包括對(duì)精確度進(jìn)行監(jiān)視追蹤的介入性磁共振系統(tǒng)。圖2概略地示出了用于追蹤的電子器件，其包括基于SNR和Bo磁場均 勻性來監(jiān)視追蹤精確度。
圖3概略地示出了適當(dāng)?shù)奶幚砥?，其用于測量局部dBo/dx磁場不均勻性。
參考圖1，磁共振成像掃描儀IO在感興趣區(qū)域12中執(zhí)行磁共振成像。 在所示實(shí)施例中，磁共振成像掃描儀10是可獲自Nederland B.V.的Philips Medical Systems的Philips Panorama 0.23T掃描儀。該掃描儀具有開放的內(nèi) 膛，其有助于介入性醫(yī)療過程。將意識(shí)到，掃描儀10僅是實(shí)例，并且在此 描述的包括監(jiān)視追蹤精確度的器械追蹤方法和裝置通?？膳c基本上任何類 型的磁共振成像掃描儀協(xié)同應(yīng)用，所述磁共振成像掃描儀包括但不局限于 開放內(nèi)膛掃描儀(open bore scanner)、閉合內(nèi)膛掃描儀(closed bore scanner)、 垂直內(nèi)膛掃描儀(vertical bore scanner)等。諸如人類醫(yī)學(xué)患者的成像對(duì)象 (未示出)，放置在對(duì)象支架14上，并且位于掃描儀10的感興趣區(qū)域12 中。
在介入性醫(yī)療過程中，采用諸如活檢針、導(dǎo)管、指示器等的介入性器 械20來執(zhí)行活組織檢查、熱消融治療、近距離治療、切片選擇、靶向藥物 輸送等。磁共振成像掃描儀IO在介入性醫(yī)療過程期間對(duì)該過程中的區(qū)域成 像，以向外科醫(yī)生或其它臨床醫(yī)學(xué)家提供可視導(dǎo)引。在一些介入過程中， 由外科醫(yī)生或其它臨床醫(yī)學(xué)家直接操作未受限制的介入性器械。然而，對(duì) 于要求高精確度操作介入性器械20的精密或靈敏過程，機(jī)械器械操縱器22 在外科醫(yī)生或其它臨床醫(yī)學(xué)家的引導(dǎo)下，支撐和操縱介入性器械20，或者 幫助定位介入性器械20。在所示實(shí)施例中，機(jī)械器械操縱器22是多節(jié)機(jī)械 組件，其提供了多個(gè)自由度用于操縱介入性器械20，并且其被安裝到對(duì)象 支架14上。在其它所預(yù)期的實(shí)施例中，臂可以支撐或安裝在掃描儀10上 或者安裝在其它相關(guān)結(jié)構(gòu)上。
為了在介入過程期間定位或追蹤器械20，將基準(zhǔn)標(biāo)志物組件30設(shè)置在 介入性器械20上的一位置處，預(yù)期該位置至少當(dāng)器械的尖端或其它操作元 件位于耙位置時(shí)，位于磁共振成像掃描儀10的視場中?；鶞?zhǔn)組件包括一個(gè) 或更多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)志物，以提供與介入性器械20相關(guān)的明顯位置信息。更典型的，基準(zhǔn)標(biāo)志物組件30包括三個(gè)或更多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)志物，以提供關(guān)于介入 性器械20的位置和定向信息。相對(duì)于彼此以及相對(duì)于介入性器械20位于 固定位置并且具有充足三維空間分布的三個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)志物，通常足以精確地 確定介入性器械20的空間位置和定向。任選地包括附加標(biāo)志物以提供冗余 度和改進(jìn)的追蹤魯棒性。
在一些實(shí)施例中，預(yù)期在基準(zhǔn)標(biāo)志物組f牛30中僅采用兩個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)志物， 如果例如介入性器械20的旋轉(zhuǎn)位置不重要，這足以提供明顯位置和定向信 息這兩者。在所示實(shí)施例中，基準(zhǔn)標(biāo)志物組件30與介入性器械20的操作 尖端32間隔開。該布置有利地減少了基準(zhǔn)標(biāo)志物組件30可能引起的圖像 失真將相反地影響操作尖端32附近處成像的可能性。然而，在一些所預(yù)期 的實(shí)施例中，基準(zhǔn)標(biāo)志物組件可以位于介入性器械尖端。在這種實(shí)施例中， 對(duì)于基準(zhǔn)標(biāo)志物組件可以預(yù)期的是，僅包括單一基準(zhǔn)標(biāo)志物，其指示尖端 的明顯位置，而不提供定向信息。
基準(zhǔn)標(biāo)志物組件30的基準(zhǔn)標(biāo)志物或多個(gè)標(biāo)志物可以采取各種形式。在 一些實(shí)施例中，有源微線圈作為標(biāo)志物。在追蹤部分磁共振序列期間，選 擇性地激勵(lì)這些有源微線圈，以發(fā)射掃描儀10追蹤的信號(hào)。在一些實(shí)施例 中，使用無源基準(zhǔn)標(biāo)志物，諸如無源線圈、磁材料的小瓶、磁敏感元件等。 無源標(biāo)志物具有磁化率，這使得無源標(biāo)志物在磁共振成像期間被探測到。 還將預(yù)期的是在基準(zhǔn)標(biāo)志物組件30中采用有源和無源標(biāo)志物的組合。
在介入過程期間，掃描儀電子器件40控制磁共振成像掃描儀10以采 集成像數(shù)據(jù)，重建成像數(shù)據(jù)以產(chǎn)生重建的圖像，并顯示重建的圖像，并且 還控制掃描儀10經(jīng)由基準(zhǔn)標(biāo)志物組件30來執(zhí)行對(duì)介入性器械20的追蹤。 在所示的實(shí)施例中，掃描儀電子器件40包括具有圖形顯示器44以及諸如 鍵盤46、鼠標(biāo)、軌跡球等的至少一個(gè)輸入設(shè)備的用戶界面計(jì)算機(jī)42;經(jīng)由 基準(zhǔn)標(biāo)志物組件30執(zhí)行追蹤處理以追蹤介入性器械20的追蹤模塊50;根 據(jù)對(duì)局部B。磁場不均勻性的測量來核實(shí)追蹤精確度的B。磁場均勻性追蹤檢 驗(yàn)器54，以及根據(jù)信噪比(SNR)或追蹤的另一噪聲數(shù)值來核實(shí)追蹤的精 確度的追蹤噪聲檢驗(yàn)器56。
在所示實(shí)施例中，用戶界面計(jì)算機(jī)42包括硬件和/或軟件部件(未示 出)，其用于控制掃描儀來采集磁共振數(shù)據(jù)、根據(jù)空間編碼的磁共振數(shù)據(jù)產(chǎn)生重建的圖像以及產(chǎn)生顯示在圖形顯示器44上的重建圖像的圖形再現(xiàn)。將 意識(shí)到的是，所示的掃描儀電子器件40是一個(gè)實(shí)例；在其它實(shí)施例中，追 蹤和/或追蹤監(jiān)視可以作為硬件和/或軟件部件集成在計(jì)算機(jī)中，或者相反 地，數(shù)據(jù)采集、重建和/或圖像描繪功能可以實(shí)施為不同于計(jì)算機(jī)的電子器
件。在一些所預(yù)期的實(shí)施例中，掃描儀電子器件不包括計(jì)算機(jī)；相反地， 所有數(shù)據(jù)采集、重建、圖像描繪和追蹤功能都由不同于計(jì)算機(jī)的電子器件 所執(zhí)行。
追蹤處理器50基本上采用任何適當(dāng)?shù)淖粉櫦夹g(shù)。在一些實(shí)施例中，追 蹤處理器50采用單次激發(fā)追蹤方法，其中響應(yīng)于醫(yī)務(wù)人員初始化追蹤幀而 指示介入性器械20的已追蹤位置和定向。在一些實(shí)施例中，追蹤處理器50 采用低幀頻迭代追蹤方法，其中以低更新率自動(dòng)更新介入性器械20的己追 蹤位置和定向。在一些實(shí)施例中，追蹤處理器50采用較高幀頻迭代追蹤方 法，其中以較高的更新率自動(dòng)更新介入性器械20的已追蹤位置和定向。在 一些實(shí)施例中，追蹤處理器50采用可變幀頻迭代追蹤方法，其中以可變更 新率自動(dòng)更新介入性器械20的已追蹤位置和定向，所述可變更新率例如取 決于基準(zhǔn)標(biāo)志物組件39的最后追蹤位置，或者取決于當(dāng)前正執(zhí)行的部分介 入過程等。
追蹤處理器50提供了用于基準(zhǔn)標(biāo)志物組件30并且因此用于介入性器 械20的明顯位置信息，并且任選地明顯的定向信息。修飾語"明顯"認(rèn)識(shí) 到，由于磁場不均勻性、不適當(dāng)校正的梯度非線性等，由追蹤處理器50執(zhí) 行的追蹤不如所需的精確。Bo磁場均勻性追蹤檢驗(yàn)器54根據(jù)對(duì)局部Bo磁 場不均勻性的測量來核實(shí)追蹤精確度，并且追蹤噪聲檢驗(yàn)器56根據(jù)SNR 或追蹤的另一噪聲數(shù)值來核實(shí)追蹤精確度。由于磁場不均勻性、不適當(dāng)校 正的梯度非線性等，Bo磁場均勻性追蹤檢驗(yàn)器54提供了對(duì)追蹤中不精確性 的指示。另一方面，如果基準(zhǔn)標(biāo)志物組件30移至視場之外，梯度模糊可能 導(dǎo)致完全錯(cuò)誤的追蹤信息，其中由追蹤處理器50指示的明顯位置完全不同 于介入性器械20的實(shí)際物理位置。該錯(cuò)誤的追蹤情況由追蹤噪聲檢驗(yàn)器56
、繼續(xù)參考圖1且進(jìn)一步參考圖2， Bo磁場均勻性追蹤檢驗(yàn)器54適當(dāng)?shù)?確定對(duì)局部Bo磁場不均勻性(ABo)的模數(shù)(modulus)測量值60。另夕卜，如果多個(gè)微線圈可用，任選地，確定局部dBQ/dx測量值62、局部dBo/dy 測量值64和局部dB。/dz測量值66或其它空間導(dǎo)數(shù)或這些空間導(dǎo)數(shù)的組合。 更一般地，沿著三個(gè)互相不平行的方向適當(dāng)?shù)販y量Bo磁場不均勻性導(dǎo)數(shù)。 局部Bo磁場均勻性測量值對(duì)于基準(zhǔn)標(biāo)志物組件30的已追蹤位置是局部的。 在所示實(shí)施例中，閾值器(thresholder) 70、 72、 74、 76將所測量的ABo 不均勻性60、所測量的dBQ/dx導(dǎo)數(shù)62、所測量的dB。/dy導(dǎo)數(shù)64和所測量 的dB。/dz導(dǎo)數(shù)66分別與適當(dāng)?shù)木骈撝颠M(jìn)行比較。如果所測量的AB。不均 勻性60、所測量的dB。/dx導(dǎo)數(shù)62、所測量的dBQ/dy導(dǎo)數(shù)64或所測量的dB(/dz 導(dǎo)數(shù)66中任一超出警告閾值，那么例如通過在用戶界面計(jì)算機(jī)42的顯示 器44上顯示諸如"警告探測到的追蹤不精確！??！"的文本，而發(fā)布警告。 簡單地再參考圖1，在一些實(shí)施例中，用于發(fā)布警告的用戶界面包括可聽警 報(bào)器77、安裝在掃描儀10上的閃光燈78或者其它警告指示器或警告指示 器的組合，所述警告指示器可以是執(zhí)行介入過程的醫(yī)務(wù)人員可察覺的。
追蹤噪聲檢驗(yàn)器56包括追蹤峰值SNR處理器80，其確定追蹤峰值的 信噪比。閾值器82將所確定的SNR與噪聲閾值進(jìn)行比較。如果SNR小于 噪聲閾值(較小的SNR指示相對(duì)于信號(hào)的更多噪聲)，那么發(fā)布追蹤不精 確的警告。更一般地，追蹤噪聲檢驗(yàn)器56確定追蹤指標(biāo)的噪聲數(shù)值，并且 如果指標(biāo)的噪聲數(shù)值滿足警告標(biāo)準(zhǔn)，那么發(fā)布警告。
參考圖3，描述了局部ABo測量值60的適當(dāng)實(shí)施例。在正梯度測量90 中，對(duì)在例如x方向上正施加的磁場梯度(Gx+)采集磁共振信號(hào)。在負(fù)梯 度測量92中，對(duì)在例如x方向上負(fù)施加的磁場梯度(Gx—)采集磁共振信 號(hào)。根據(jù)具有相反磁場梯度的兩種測量90、 92估計(jì)的ABO的適當(dāng)值，由 計(jì)算94給出
<formula>formula see original document page 11</formula>
其中x+是根據(jù)采用x方向上正施加磁場梯度(Gx+)測量的磁共振信號(hào)90 計(jì)算的明顯位置，而x"是根據(jù)采用x方向上負(fù)施加磁場梯度(Gx—)測量 的磁共振信號(hào)92計(jì)算的明顯位置。等式(1)的計(jì)算94輸出估計(jì)的ABo 值96，其輸入至圖2的閾值器70。任選地，ABo值可以相似地使用y和/ 或z方向的梯度估計(jì)。通常進(jìn)行這種測量以確定微線圈陣列的三維位置，并且例如通過對(duì)使用x、 y和z方向的梯度估計(jì)的ABO值求平均，這種測量
可以用于增加ABO估計(jì)的精確度。通過對(duì)多個(gè)標(biāo)志物(例如，適當(dāng)結(jié)構(gòu)中
的四個(gè)或更多個(gè)標(biāo)志物，諸如沿著空間中三個(gè)成對(duì)的垂直線)進(jìn)行計(jì)算94，
且使用數(shù)字微分，可以導(dǎo)出局部dBo/dx62、 dBo/dy64和局部dBo/dz測量值
66。代替測量x、 y和z磁場不均勻性導(dǎo)數(shù)或除此之外，可以測量其它非平
行磁場不均勻性導(dǎo)數(shù)。在一些實(shí)施例中，僅測量一個(gè)磁場不均勻性導(dǎo)數(shù)，
諸如在平行于患者的軸或z方向上的不均勻性導(dǎo)數(shù)。
已經(jīng)參考優(yōu)選實(shí)施例描述了本發(fā)明。顯然，在閱讀和理解前述詳細(xì)說
明的基礎(chǔ)上，將可產(chǎn)生修改和改變。本發(fā)明旨在構(gòu)建為包括落入隨附權(quán)利 要求及其等效范圍中的所有這種修改和改變。
權(quán)利要求
1、一種追蹤方法，包括測量由磁共振掃描儀(10)產(chǎn)生的B0磁場在基準(zhǔn)標(biāo)志物組件(30)的明顯位置處的局部B0磁場不均勻性；以及如果所測量的局部B0磁場不均勻性滿足警告標(biāo)準(zhǔn)，則發(fā)布警告。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的追蹤方法，還包括使用所述磁共振掃描儀(10)確定所述基準(zhǔn)標(biāo)志物組件(30)的明顯位置。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的追蹤方法，還包括根據(jù)所述基準(zhǔn)標(biāo)志物組件(30)的明顯位置，定位介入性器械(20) 的操作尖端(32)，所述基準(zhǔn)標(biāo)志物組件包括與所述介入性器械連接的一個(gè) 或多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)志物。
4、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的追蹤方法，其中，所述基準(zhǔn)標(biāo)志物組件包括 多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)志物，并且所述追蹤方法還包括使用所述磁共振掃描儀(10)確定所述基準(zhǔn)標(biāo)志物組件(30)的明顯 定向；重復(fù)確定所述明顯位置和所述明顯定向以追蹤所述基準(zhǔn)標(biāo)志物組件；以及根據(jù)對(duì)所述基準(zhǔn)標(biāo)志物組件的追蹤來追蹤與所述基準(zhǔn)標(biāo)志物組件連接 的介入性器械(20)。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的追蹤方法，其中，所述基準(zhǔn)標(biāo)志物組件(30) 中的多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)志物包括至少三個(gè)有源微線圈基準(zhǔn)標(biāo)志物。
6、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的追蹤方法，還包括計(jì)算在所述確定明顯位置的步驟期間接收的磁共振信號(hào)的信噪比(SNR);以及如果所述SNR小于基于噪聲的警告閾值，則發(fā)布警告。
7、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的追蹤方法，還包括計(jì)算確定所述明顯位置的指標(biāo)的噪聲數(shù)值；以及如果所述指標(biāo)的噪聲數(shù)值滿足基于噪聲的警告標(biāo)準(zhǔn)，則發(fā)布警告。
8、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的追蹤方法，其中，所述發(fā)布警告的步驟包括:如果所測量的局部Bc磁場不均勻性大于警告閾值，則發(fā)布警告。
9、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的追蹤方法，其中，所述測量局部Bo磁場不均勻性的步驟包括對(duì)符號(hào)相反的磁場梯度測量磁共振信號(hào)；以及基于對(duì)所施加的符號(hào)相反的磁場梯度所測量的磁共振信號(hào)，來確定所 述局部B。磁場不均勻性。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的追蹤方法，其中，所述基于對(duì)于符號(hào)相反 的磁場梯度所測量的磁共振信號(hào)，來確定所述局部B。磁場不均勻性的步驟 包括計(jì)算所測量的明顯位置之間的差值，所述明顯位置是從對(duì)于符號(hào)相反 的磁場梯度的磁共振信號(hào)獲得的，并且根據(jù)所施加的梯度導(dǎo)出局部ABo。
11、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的追蹤方法，其中，所述測量局部B。磁場不 均勻性的步驟包括基于沿著三個(gè)互相不平行方向中的每一個(gè)對(duì)施加的符號(hào)相反的磁場梯 度所測量的磁共振信號(hào)，確定在所述三個(gè)互相不平行的方向上的局部Bo磁 場不均勻性分量。
12、 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的追蹤方法，其中，所述發(fā)布警告的步驟包括如果所述三個(gè)所確定的局部Bo磁場不均勻性分量中的任意一個(gè)超出警 告閾值，則發(fā)布警告。
13、 一種追蹤系統(tǒng)，包括Bo均勻性追蹤檢驗(yàn)器(54)，其測量由磁共振掃描儀(10)產(chǎn)生的Bo 磁場在基準(zhǔn)標(biāo)志物組件(30)的明顯位置處的局部Bo磁場不均勻性；以及用戶界面(42， 77， 78)，如果由所述BQ均勻性追蹤檢驗(yàn)器測量的所 述局部Bo磁場不均勻性滿足警告標(biāo)準(zhǔn)，所述用戶界面發(fā)布警告。
14、 根據(jù)權(quán)利要求13所述的追蹤系統(tǒng)，還包括追蹤處理器(50)，其使用所述磁共振掃描儀(10)執(zhí)行追蹤處理，以 至少追蹤所述基準(zhǔn)標(biāo)志物組件(30)的明顯位置。
15、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的追蹤系統(tǒng)，還包括噪聲檢驗(yàn)器(56)，其測量由所述追蹤處理器(50)執(zhí)行的所述追蹤的 指標(biāo)的噪聲數(shù)值，如果所述指標(biāo)的噪聲數(shù)值滿足基于噪聲的警告標(biāo)準(zhǔn)，則 所述用戶界面(42， 77， 78)也發(fā)布警告。
16、 根據(jù)權(quán)利要求15所述的追蹤系統(tǒng)，其中，所述噪聲檢驗(yàn)器(56) 包括峰值信噪比(SNR)處理器(80)，其確定在追蹤期間測量的磁共振峰 值的SNR;以及閾值器(82)，其對(duì)所確定的SNR進(jìn)行閾值比較，以確定所述SNR是 否滿足所述基于噪聲的警告標(biāo)準(zhǔn)。
17、 根據(jù)權(quán)利要求13所述的追蹤系統(tǒng)，其中，所述B。均勻性追蹤檢 驗(yàn)器(54)包括測量處理器(60、 62、 64、 66)，用于確定磁場不均勻性的測量值；以及閾值器(70、 72、 74、 76)，其與所述測量處理器對(duì)應(yīng)，用于對(duì)磁場不均勻性的所述測量值進(jìn)行閾值比較，以確定磁場不均勻性的所述測量值是 否滿足警告標(biāo)準(zhǔn)。
18、 一種介入性磁共振系統(tǒng)，包括 磁共振掃描儀(10);基準(zhǔn)標(biāo)志物組件(30);追蹤處理器(50)，其使用所述磁共振掃描儀(10)執(zhí)行追蹤處理，以 至少追蹤所述基準(zhǔn)標(biāo)志物組件(30)的明顯位置；以及 如權(quán)利要求13所述的追蹤系統(tǒng)。
19、 根據(jù)權(quán)利要求18所述的介入性磁共振系統(tǒng)，還包括介入性器械(20)，其與所述基準(zhǔn)標(biāo)志物組件(30)相連接，所述追蹤 處理器(50)基于對(duì)所連接的基準(zhǔn)標(biāo)志物組件的追蹤，來追蹤所述介入性 器械的位置和定向。
全文摘要
使用磁共振掃描儀(10)追蹤一種基準(zhǔn)標(biāo)志物組件(30)。在基準(zhǔn)標(biāo)志物組件的已追蹤位置，測量局部B₀磁場不均勻性。如果所測量的局部B₀磁場不均勻性滿足警告標(biāo)準(zhǔn)，則發(fā)布警告。還確定追蹤指標(biāo)的噪聲數(shù)值，并且如果該指標(biāo)的噪聲數(shù)值滿足基于噪聲的警告標(biāo)準(zhǔn)，也發(fā)布警告。
文檔編號(hào)G01R33/28GK101292172SQ200680038513
公開日2008年10月22日 申請(qǐng)日期2006年9月15日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月17日
發(fā)明者S·克呂格爾, T·舍夫特 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司