專(zhuān)利名稱(chēng)：改進(jìn)的帶寬估算法的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及激光器譜寬度測(cè)定，更多地涉及用干涉儀或衍射儀("光譜儀") 精確地估算光源的帶寬，"光譜儀"的脈沖響應(yīng)函數(shù)具有通常與被測(cè)光源相當(dāng)或更 大的帶寬。
背景技術(shù)：
DUV石印術(shù)的線(xiàn)變窄型受激準(zhǔn)分子激光源的輸出譜一般在時(shí)間上不恒定。雖然 技術(shù)進(jìn)步大大提高了穩(wěn)定性，但是譜的帶寬或者函數(shù)形態(tài)(形狀)都未完全固定。然 而，迄今還未完全表征出譜形變化對(duì)石印術(shù)性能的影響，半極大值全寬度(FWHM) 和95%封閉能量(195%或，有時(shí)稱(chēng)為"譜純度"E95)照射帶寬對(duì)圖像反差、對(duì)數(shù)斜 率、曝光范圍等的影響很大，正如以下文獻(xiàn)討論的那樣，A.Kroyan， I. Lalovic, N. R. Farrar，在Proc. 21st Annual DACUS Symposium on Photomask Technology and Management上發(fā)表，G. T. Dao and B. J". Gre謹(jǐn)(Eds)(編輯)，Monterey Ca，在SPIE Vol. 4562， pp. 1112-1120, 2002上發(fā)表的"Contribution of polychromatic illumination to optical proximity effects in the context of Deep-UV lithography，，， K. Lai， I. Lalovic， R. Fair, A. Kroyan， C. Progler， N. R. Farrar， D. Ames， K. Ahmed在J. Microlithogr即hy， Microfabrication and Microsystems, Vol. 2， Issue 2， pp. 105-111， 2003上發(fā)表的"Understanding chromatic aberration
impacts on lithographic imaging", 這些內(nèi)容通過(guò)弓l用包括在這里。
根據(jù)照射譜的生成，例如因光學(xué)材料局限于DUV波長(zhǎng)，會(huì)不可避免地在KrF 與ArF石印術(shù)投射鏡內(nèi)產(chǎn)生某種色差。盡管色效應(yīng)可用窄譜光源減至最小，但是即 使是照射譜的亞皮米展寬也不能被完全忽略，如A.Krayan、 J.J.Bendik、 0. Semprez、 N. R. Farrar、 G. G. Rowan與C. A. Mack在"Modeling the effects of excimer laser bandwidth on lithographic performance"(SPIE Vol. 4000， Optical Microlithography XIII，pp. 658-664， March 2000)—文中討論的那樣，其內(nèi)容通過(guò) 引用包括在這里。由于該行業(yè)進(jìn)入從未有過(guò)的更高數(shù)值孔徑設(shè)定和更低的Ki值， 這一理念變得更緊迫了。為確保虛像特性維持在指定處理窗內(nèi)，擁有來(lái)自光源以高 的精度和可靠性與穩(wěn)定性報(bào)道這些譜品質(zhì)因數(shù)的可信賴(lài)的計(jì)量學(xué)反饋，變得越益重 要了。另在更高級(jí)的應(yīng)用中，實(shí)際上可用該信息以某種方式控制光源工作，以便穩(wěn) 定光源的光譜或者調(diào)整其帶寬。在這些場(chǎng)合中，獲得的增強(qiáng)的譜性能重現(xiàn)性，意味 著可以設(shè)想出對(duì)系統(tǒng)壽命保持有效和一致的一般光學(xué)近似(OPC)法，例如包括要求
加強(qiáng)把帶寬嚴(yán)格控制在某一范圍內(nèi)即低于某一閾值但又高于某一閾值的能力。
諸如FWHM與E95等常用的帶寬計(jì)量法，并不總是精確地測(cè)量譜形狀，尤其在 單獨(dú)使用時(shí)。例如，譜遠(yuǎn)翼的能量值增大會(huì)顯著提高E95帶寬值，而FWHM帶寬值 實(shí)際上基本不變。其它譜形變化例如會(huì)讓E95不變而改變FW麗，或者讓兩種計(jì)量 法都不變而改變譜的能量中心或譜的其它重要的性能參數(shù)。這些形狀變化常與帶寬 變化有密切聯(lián)系，對(duì)譜計(jì)量工具的設(shè)計(jì)和依賴(lài)于其帶寬精密估算有效性的系統(tǒng)性能 有重大影響，特別在更流行的系統(tǒng)中，要求以等于或超過(guò)4000Hz的重復(fù)頻率按逐 個(gè)脈沖的原則的計(jì)量反饋與伴生的控制功能。
超窄受激準(zhǔn)分子激光源的詳細(xì)形狀與帶寬變化可能源自各種物理機(jī)理，其中 有些變化在技術(shù)上不可避免，以往的克服辦法是設(shè)計(jì)通常優(yōu)化成盡量減小這些變化 影的光源。然而，即使有了工程控制，由于對(duì)準(zhǔn)不當(dāng)、光學(xué)元件故障或者無(wú)法管理 光源(如激光氣體混合物)內(nèi)部的重要處理參數(shù)，有時(shí)仍會(huì)出現(xiàn)大的譜形或帶寬變 化。艙上譜計(jì)量組件的任務(wù)是正確地識(shí)別和精確地報(bào)道光源帶寬，使之用作可信賴(lài) 的石印術(shù)過(guò)程控制的輸入。為示明這些形狀變化，

圖1A-D示出了若干例用高分辨 率雙通中階梯光柵分光儀測(cè)得的在Cymer XLA 100 ArF M0PA(主控振蕩器/功率放 大器)光源里見(jiàn)到的典型譜形變化。這些情況雖不詳盡，但深信是典型的當(dāng)代光源。 為了更好地比較譜能分布，更好地表示200個(gè)激光脈沖曝光的集中譜含量，把數(shù)據(jù) 歸一為同樣的總能量值。

發(fā)明內(nèi)容
揭示了一種用于測(cè)量從激光器發(fā)射輸入帶寬計(jì)的光譜帶寬的帶寬計(jì)量法與裝 置，它包括光學(xué)帶寬監(jiān)視器，用來(lái)提供代表第一參數(shù)的第一輸出和代表第二參數(shù) 的第二輸出，第一參數(shù)指示激光器發(fā)射光的帶寬，第二參數(shù)指示激光器反射光的帶 寬；和實(shí)際帶寬計(jì)算裝置，它把第一與第二輸出用作多變量方程的一部分以計(jì)算實(shí) 際帶寬參數(shù)，該方程運(yùn)用光學(xué)帶寬監(jiān)視器專(zhuān)用的預(yù)定校正變量。實(shí)際帶寬參數(shù)包括
激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)最大值某一百分比的譜全寬度(FWXM)或者在譜上包封激 光器發(fā)射光譜全譜能量某一百分比(EX)的二點(diǎn)間的寬度。帶寬監(jiān)視器包括一標(biāo)準(zhǔn) 具，第一輸出代表至少一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的光學(xué)輸出的干擾帶寬度，或者在譜上 包封某一百分比激光發(fā)射光全譜能量的二點(diǎn)間的寬度(EX)，第二輸出代表第二 FWX "M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中X^X〃， X、X'〃。預(yù)計(jì)算的校正變量用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè) 量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。實(shí)際帶寬參 數(shù)值由公式算出估算的實(shí)際帶寬參數(shù)4XW,LXW2+M，其中Wi二代表FWXM或EX' 的第一測(cè)量輸出，W2是代表FffX"M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。該裝置與方法可在激光 石印術(shù)光源和/或在集成電路石印工具內(nèi)實(shí)施。
附圖簡(jiǎn)介
圖1A-D示出帶寬譜形狀因改變了某些激光工作參數(shù)而得出的各種響應(yīng)特性； 圖2示出雙通光柵光譜儀的實(shí)施例；
圖3示出本發(fā)明一實(shí)施例應(yīng)用單個(gè)平面標(biāo)準(zhǔn)具的角發(fā)散的光譜儀；
圖4以洛倫茲函數(shù)FWHM帶通Y為單位示出佛克脫源與洛倫磁函數(shù)儀表巻繞譜 FWHM帶寬之差的等值線(xiàn)與形狀參數(shù)；
圖5示出對(duì) 5000實(shí)驗(yàn)光源光譜模擬的標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀FWHM干擾帶等值線(xiàn)，圖 示的兩組示出對(duì)標(biāo)準(zhǔn)具FWHM帶通Y不同選擇的效果；
圖6根據(jù)用巻繞了全都具有同樣0. llpm FWHM帶寬的真實(shí)光源譜的0. 12pm FWHM帶能對(duì)洛倫茲函數(shù)光譜儀的模擬，示出能量從近譜翼漏泄而擴(kuò)展標(biāo)準(zhǔn)具干擾 帶的FWHM的情況；
圖7A與7B分別示出用同等0. llpm FW麗與不同E95帶寬測(cè)出的兩個(gè)激光光 譜(I)及其O. 12pm FWHM帶寬的洛倫茲儀器函數(shù)的巻積，說(shuō)明各種閾值的巻繞干擾 帶寬度對(duì)兩個(gè)光譜不同；偏差量在(n)中示出A，該差值是恒定偏差與點(diǎn)斜率FWHM頁(yè)
模型因譜形變化而造成的系統(tǒng)誤差源，如本申請(qǐng)所述；
圖8A-C示出本發(fā)明一實(shí)施例利用總數(shù) 5000樣本譜，例如與圖6使用的同樣 的樣本譜改善點(diǎn)斜率FWMH估算器模型的情況，在增大強(qiáng)度閾值X%=25%、 50%、 75% 時(shí)作干擾帶寬度測(cè)量；
圖9示出實(shí)驗(yàn)結(jié)果，表明E95干擾帶點(diǎn)斜率模型估算對(duì)激光器工作條件變化 引起的譜形變化的系統(tǒng)靈敏度，例如包括某種3130測(cè)量譜，灰色方塊用干擾帶 EW35y。作為輸入，黑圈使用干擾帶FW75%， 二三條不同的斜率與三條不同的截線(xiàn)很 明顯，對(duì)應(yīng)于數(shù)據(jù)不同的譜形分集；
圖10示出用帶寬公式兩個(gè)強(qiáng)度閾值(FW35y。+75y。)模型對(duì)E95。/。的預(yù)測(cè)，按組合 的四次獨(dú)立的實(shí)驗(yàn)示出3250譜組I,帶延遲MOPA時(shí)序的正常F2濃度；組II, 正常的F2與正常的時(shí)序；組III，濃縮的F2，正常F2，縮短的MOPA時(shí)序，與圖9 的點(diǎn)斜率模型相比，奇偶偏差受控更佳，插圖示出譜整體的跟蹤誤差分布，S為 12. lfm，其中的4fra可用源光譜的有限信噪比(SNR)說(shuō)明。
較佳實(shí)施例的詳細(xì)描述
圖1A的實(shí)例I示出在MOPA的主控振蕩器或單一振蕩器增益媒體例如ArF單 腔光源中，明顯濃縮激光氣體的氟濃度的影響。以恒定的總壓力對(duì)氣體混合物添加 額外的氟，寬度就增大。在這些測(cè)量，當(dāng)氟被濃縮到高于初始濃度的13%時(shí)，發(fā)現(xiàn) FW麗在測(cè)量精度內(nèi)保持不變。但E95并不恒定，同樣的濃縮卻增大了 18%，這說(shuō)明 譜的函數(shù)形式有明顯變化，不只是簡(jiǎn)單的重新標(biāo)定波長(zhǎng)軸。激光器氣體混合物的這 樣大的過(guò)多濃縮并不典型，但可以表示光源的內(nèi)部控制的假設(shè)故障模式，至少表示 激光腔內(nèi)氟含量較少增大時(shí)代表性的帶寬譜形變化。
例如圖1B的實(shí)例II示出聲學(xué)擾動(dòng)在激光振蕩期間同步通過(guò)電極間隙的作用。 譜翼保持固定而譜中心峰平展的事實(shí)，顯然可見(jiàn)譜分布形狀響應(yīng)于這種所謂的帶寬 諧振峰現(xiàn)象而變化。這種譜形的形狀變化，效果與圖1A的前一實(shí)例相反。此時(shí)， 比所得的標(biāo)稱(chēng)值增大52%的FWHM帶寬遠(yuǎn)離飛行時(shí)間(TOF)諧振或聲學(xué)諧振，而E95 只超出標(biāo)稱(chēng)值增大8%。精心設(shè)計(jì)放電腔雖能明顯減小TOF諧振作用的大小，但在 所有高重復(fù)頻率系統(tǒng)中仍有一定程度的作用，而且會(huì)以不同的工作激光放電與輸出 脈沖重復(fù)頻率、溫度和其它激光操作參數(shù)隨機(jī)地出現(xiàn)。
圖1C所示的實(shí)例III示明了 MOPA光源兩腔室之間增益媒體內(nèi)放電開(kāi)始相對(duì) 時(shí)序的極大靜態(tài)誤差所引起的變化。出現(xiàn)該現(xiàn)象的原因在于MO輸出的譜形與帶寬
同時(shí)間相關(guān)，因而該特征對(duì)M0PA系統(tǒng)有點(diǎn)獨(dú)特(由于功率振蕩器的注入模式與自由
振蕩模式之間的增益爭(zhēng)用，M0P0結(jié)構(gòu)的光譜更混亂)。正常工作時(shí)，兩腔室點(diǎn)火之 間的延遲被選成使時(shí)間TO對(duì)應(yīng)于M0PA系統(tǒng)電光轉(zhuǎn)換效率的峰值。在這種形狀對(duì)時(shí) 延的測(cè)量中，當(dāng)延遲增大到To+10ns時(shí)，帶寬在FWHM中減小于10%，在E95中減 小了25%。當(dāng)延遲減到TO—10ns時(shí)，發(fā)現(xiàn)帶寬增大同樣的量。雖然可用改變這一延 遲的方法來(lái)控制M0PA結(jié)構(gòu)的帶寬，但是與效率峰值如此大的偏差會(huì)對(duì)控制激光輸 出的其它特性造成損失，此結(jié)果進(jìn)一步表明存在著光源內(nèi)部失控的譜形后果。
圖1D的最后實(shí)例IV示出了該激光光譜對(duì)光柵變窄激光振蕩器(M0或單腔振蕩 器)的諧振器內(nèi)擴(kuò)大的波前彎曲部分的響應(yīng)特性。在該實(shí)驗(yàn)中，通過(guò)施加機(jī)械力以 人工方法使線(xiàn)變窄分系統(tǒng)內(nèi)反射光學(xué)元件的表面形態(tài)畸變，模擬激光腔內(nèi)失效元件 的作用。從形態(tài)可見(jiàn)，對(duì)譜形的作用是意味深長(zhǎng)的。這是形狀變化很少改變FWHM 的第二個(gè)實(shí)例，而E95將近改變了三倍。這種干擾也破壞了譜對(duì)稱(chēng)性。對(duì)于設(shè)計(jì)精 良的光源而言，這種變化并不正常，而用由于過(guò)度熱負(fù)載、反射光學(xué)元件與其安裝 架之間不同的熱膨脹造成的失效光學(xué)元件來(lái)證明而已。
這四種情況包羅了申請(qǐng)受讓人在研發(fā)中所見(jiàn)到的主要譜形種類(lèi)。它們僅示出 幾種經(jīng)常出現(xiàn)的會(huì)導(dǎo)致錯(cuò)誤計(jì)量、報(bào)道指標(biāo)內(nèi)帶寬的譜變化，當(dāng)實(shí)際帶寬不在指標(biāo) 內(nèi)時(shí)，無(wú)論什么指標(biāo)都被選用，而當(dāng)實(shí)際帶寬不偏出指標(biāo)時(shí)，就偏出指標(biāo)。在極高 重復(fù)頻率且嚴(yán)格控制的波長(zhǎng)/帶寬、帶寬穩(wěn)定性、劑量穩(wěn)定性和其它嚴(yán)密的工作參
數(shù)測(cè)控要求方面，任一種情況都對(duì)激光器工作有害。問(wèn)題在于要開(kāi)發(fā)出艙上或光源 外接的計(jì)量法，它不會(huì)不考慮能負(fù)面影響受照曝光工具石印性能的譜變化，而且精 密地做到而不管譜的函數(shù)形式或形狀變化。
對(duì)于DUV光源而言，存在多例帶寬測(cè)量與估算技術(shù)。然而，對(duì)于高重復(fù)頻率 的受激準(zhǔn)分子激光源，按每一脈沖原則開(kāi)發(fā)精密而耐用的譜計(jì)量法極具技術(shù)挑戰(zhàn)， 至少比迄今在原有技術(shù)計(jì)量系統(tǒng)中所知道的更富技術(shù)挑戰(zhàn)。對(duì)于未來(lái)的光源，理想 的譜計(jì)量法應(yīng)具有以下五個(gè)特征或其中的大部分特征。該法要求極高的光譜分辨 度，通過(guò)要求光譜儀的脈沖響應(yīng)(儀器函數(shù))具有比光源譜小多倍的帶寬，能更嚴(yán)格
地改寫(xiě)該分辨度。該法還要求在波長(zhǎng)a)空間有寬的檢查范圍。曾經(jīng)提出，在照射
譜遠(yuǎn)翼，即使小的變化也會(huì)明顯影響虛像特性；對(duì)E95的直接計(jì)算，該要求同樣是 必要的，正如A. Kroyan、 I. Lalovic和N. R. Farrar在"Effects of 95% integral vs.FWHM Bandwidth specifications on lithographic imaging" (SPIE Vol. 4346， Optical Mircolithography XIV. pp. 1244-1253， March 2001)—文中討論的那樣,
其內(nèi)容通過(guò)引用包括在這里。該法還要用一種精密而耐用的方法使源譜帶寬擺脫 (消巻積)光譜儀的儀器函數(shù)， 一般對(duì)確保正常測(cè)量不可忽略，而且變得更加嚴(yán)格。 這可能是應(yīng)用儀器函數(shù)獨(dú)立測(cè)量的直接消巻積法，或是某種得到同樣結(jié)果或估算的 數(shù)學(xué)或半經(jīng)驗(yàn)?zāi)Ｐ?。該法?duì)單脈沖測(cè)量還要求高信噪比(SNR)。從理論上說(shuō)，逐一 脈沖估算譜質(zhì)量與石印處理評(píng)定都有這一要求。在石印生產(chǎn)環(huán)境中，該系統(tǒng)評(píng)定都 有這一要求。在石印生產(chǎn)環(huán)境中，該系統(tǒng)還要求光學(xué)與機(jī)械的簡(jiǎn)潔性與耐用性，這 對(duì)校正穩(wěn)定性測(cè)量重現(xiàn)性與長(zhǎng)壽命是必需的。
當(dāng)前的技術(shù)很難(若不是不可能)同時(shí)滿(mǎn)足所有這些要求。圖2的多通光柵光 譜儀能提供良好的光譜分辨率、寬的檢查范圍，可用富利葉或其它方法對(duì)儀器函數(shù)
的影響消巻積。如圖2所示，這種光譜儀20包括入射縫22、光柵24、最大反射率 鏡26和譜強(qiáng)度檢測(cè)器30，但這種儀器體大、易碎，通常要用活動(dòng)部件調(diào)諧，安裝、 對(duì)準(zhǔn)、校正與保養(yǎng)不便。由于不受歡迎，所以高分辨度光柵光譜儀要用長(zhǎng)曝光實(shí)現(xiàn) 合適的SNR，不適合逐一脈沖報(bào)道譜質(zhì)量。它們還很昂貴，可能占了大部分高性能 光源如激光石印工具光源的總費(fèi)用。光柵光譜儀是系統(tǒng)鑒定必需的工具，在研究功 用方面，必須以譜純度、線(xiàn)不對(duì)稱(chēng)性等來(lái)精確地表征極精細(xì)的譜形與帶外能量分布。 但在例如石印生產(chǎn)應(yīng)用中，它們一般不適合艙上實(shí)時(shí)波長(zhǎng)或帶寬計(jì)量學(xué)測(cè)量。
圖3的法布里-珀羅標(biāo)準(zhǔn)光譜儀可提供另一種方法。它們?cè)诠鈱W(xué)上很簡(jiǎn)單，機(jī) 械上耐用，無(wú)活動(dòng)部件。圖4的這種光譜儀40包括束均化器42、準(zhǔn)直鏡44、標(biāo)準(zhǔn) 具465、成像鏡50和強(qiáng)度檢測(cè)器52，強(qiáng)度檢測(cè)器52還包括橫向光電二極管陣列 54。對(duì)指定的輸入不用縫裝置，可在檢測(cè)器平面如在PDA54得到大量輻射，甚至與 差的束質(zhì)量無(wú)關(guān)。因此，利用不同波長(zhǎng)發(fā)射束之間的角度鑒別，平面鏡標(biāo)準(zhǔn)具46 可從單個(gè)照射短脈沖中捕獲有用的譜信息。
單純?cè)诠庾V分辨率與檢查間隔方面與光柵光譜儀作競(jìng)爭(zhēng)，就要求長(zhǎng)的自由譜 范圍(FSR)、高發(fā)射比與高精密度(fineness)3的標(biāo)準(zhǔn)具。 一種用于DOV光源的商 用雙通中階梯光柵光譜儀，在以高階工作時(shí)，可實(shí)現(xiàn)15pm的固定檢査范圍和50fm FWHM帶通的儀器函數(shù)。為使標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀匹配這種性能，就要求FSRal5pm,精密 度3 300。雖然這種性能完全適合較長(zhǎng)的波長(zhǎng)，但不適用于DUV，因?yàn)楸砻嫘螒B(tài)(平 行度、平坦度、精糙度)與鏡膜局限性通常將總精密度限于3<50。可用模退化的 球面共焦標(biāo)準(zhǔn)具減小幾何形狀不完美造成的精密度損失，因?yàn)榍蛎骁R的聚焦作用在 鏡面形成小的模直徑，從而抑制了幾何不完美的影響。但在該結(jié)構(gòu)中，為譜分析必 須掃描鏡內(nèi)光程長(zhǎng)，使分析隔離的短脈沖或甚至脈沖串里的幾個(gè)脈沖成為不可能。
再者，對(duì)一給定的間隔，用此法把FSR—分為二，而模匹配要求還意味著插入損耗 對(duì)劣質(zhì)束顯得過(guò)高。所以為獲得像光柵光譜儀一樣的性能，共焦結(jié)構(gòu)丟棄了許多標(biāo) 準(zhǔn)具光譜儀40特殊的優(yōu)點(diǎn)。用多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)具串接結(jié)構(gòu)獲取髙光譜分辨度與大的檢查 范圍的其它方案，結(jié)果也一樣。
除了這些限制，對(duì)于各種譜測(cè)量任務(wù)而言，空氣間隔的平面標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀通
常是最佳的選擇。雖在DUV方面并不提供最大檢査范圍或分辨能力，但在這些領(lǐng)域 能實(shí)現(xiàn)適當(dāng)?shù)钠胶猓瑫r(shí)對(duì)要求物理耐用性與可靠性的制造應(yīng)用保留了需要的特 征，比如優(yōu)異的單一短脈沖SNR與適應(yīng)性。對(duì)于石印機(jī)照射的光譜監(jiān)視，可以應(yīng)用 FSR為2 40pm以獲得20 50精密度值的平面標(biāo)準(zhǔn)具，這意味著這些設(shè)備被用于 光譜儀儀器函數(shù)的FWHM帶寬與光源譜帶寬之比接近或大于1的范圍。在該范圍內(nèi)， 上述的標(biāo)準(zhǔn)具FWHM干擾帶寬度證明對(duì)源譜形狀細(xì)部而不是其FWHM具有不可忽視的 靈敏度，例如包括譜純度，即譜在最大波長(zhǎng)任一側(cè)某一區(qū)內(nèi)的積分總能量，通常被 測(cè)為E95。/?；駿95，譜純度隨著E95寬度減小而增大。
如上所述，DUV光源譜形可以明顯變化，在元件與控制件失效時(shí)尤其如此。這 些形狀變化可能"隱藏"在光譜儀的儀器函數(shù)下面，影響其輸出，因而申請(qǐng)人斷定 必須特別強(qiáng)調(diào)上述第三個(gè)要求，即用來(lái)根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)具干擾帶測(cè)量估算源譜帶寬的方 法，可以依賴(lài)和不依賴(lài)于源譜形狀變化引起的系統(tǒng)誤差。
必須考慮譜形對(duì)源光帶寬估算的影響。根據(jù)光譜儀測(cè)量，可用若干技術(shù)恢復(fù)
整個(gè)源譜或源帶寬。光譜儀的信號(hào)輸出oa)是源譜sa)與光譜儀儀器函數(shù)ia)
的巻積
<formula>formula see original document page 30</formula> (1)
給出光譜儀信號(hào)oa)，常用三種方法測(cè)定源譜sa)的帶寬。本領(lǐng)域的技術(shù)人
員應(yīng)理解，輸出信號(hào)可以是用光電二極管陣列(PDA)從標(biāo)準(zhǔn)具光學(xué)輸出里檢測(cè)干擾
帶的結(jié)果，該陣列可以檢測(cè)光橫越陣列二極管的強(qiáng)度分布。然后可用這些強(qiáng)度值繪
制強(qiáng)度曲線(xiàn)，數(shù)字處理器可用數(shù)學(xué)上的內(nèi)插技術(shù)強(qiáng)度陣列中占據(jù)FWHM比例即 FW75%M或FW35%M的位置和/或強(qiáng)度陣列中構(gòu)成E95值E75值邊界的位置。因此， 以沿線(xiàn)性排列的光電二極管分布的光強(qiáng)度陣列形式的檢測(cè)器輸出信號(hào)，被轉(zhuǎn)換成另 一種代表從帶寬檢測(cè)器輸出函數(shù)Oa)求出的值的信號(hào)，整個(gè)系統(tǒng)用它來(lái)測(cè)量FW服 或E95等。這是一種帶寬檢測(cè)器輸出形式，它表示的參數(shù)還代表光源的實(shí)際帶寬， 即代表實(shí)際的FW薩或E95。
最全面的常用方法是信號(hào)oa)的全消巻積法。給出oa)與獨(dú)立測(cè)定的ia)， 發(fā)現(xiàn)可用富里葉或其它方法求解公式i。但這是一項(xiàng)富有挑戰(zhàn)的任務(wù)，因?yàn)橥ǔＳ?許多源譜sa)與ia)巻積而得出同一個(gè)實(shí)際輸出信號(hào)oa)，這是完整的oa)，
帶寬檢測(cè)器成像器即pda實(shí)際上只"看見(jiàn)"其各分離的部分，而帶寬檢測(cè)器系統(tǒng)可
以據(jù)其算出代表性參數(shù)值，如fwhm或e95。
通常要專(zhuān)門(mén)處理測(cè)量中的噪聲和ia)里的零，對(duì)細(xì)?；V，這種處理要花大 量時(shí)間，因而該法一般并不適合在高重復(fù)頻率應(yīng)用中按逐一脈沖的原則監(jiān)視光源譜 的帶寬。在對(duì)基礎(chǔ)研究應(yīng)用高分辨度光柵譜儀測(cè)量時(shí)，或在要求詳盡掌握平均譜的 光源制造測(cè)試環(huán)境中，仍?xún)?yōu)選該方法。
第二種技術(shù)要求在源譜與儀器函數(shù)分析近似的基礎(chǔ)上作數(shù)學(xué)論證，如在譜密
度S0O與ia)二者都完全是洛倫茲函數(shù)或高斯分布時(shí)，源譜Sa)的fwhm和e95
就直接與o(人)和ia)的帶寬相關(guān)。例如，研究一種fwhm帶寬分別為rs和n的洛
倫茲源譜和儀器函數(shù)
柳=丄^柳1 r"2
<formula>formula see original document page 31</formula>此時(shí)，s(入)的fwhm帶寬nS只是減一常數(shù)。e95值可以同樣處理，因?yàn)?E
<formula>formula see original document page 31</formula>(3)
式中e(…)指括號(hào)內(nèi)譜分布的e95帶寬。
不用全消巻積而獲得光源帶寬的第三種常用方法，開(kāi)始時(shí)用公式2和3作為 第一次推測(cè)，但要修改其形式或增加其它校正項(xiàng)，以便減小不完整地假設(shè)源譜和/ 或儀器函數(shù)的形狀而造成的系統(tǒng)誤差，因而具有半經(jīng)驗(yàn)的特征，要求對(duì)可信的測(cè)量 作校正。 一般情況下，光源通過(guò)一系列的工作模式或條件操作，使其帶寬發(fā)生變化。 測(cè)試中，用外接的高分辨度光柵光譜儀與富利葉消巻積法(或其它手段)仔細(xì)測(cè)定源 fw麗帶寬n，同時(shí)記錄正在校正的計(jì)量系統(tǒng)的輸出。如上所述，該輸出可能是光 源內(nèi)所含的標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀的fwhm干擾帶寬度w，或是某種代表被檢w的數(shù)字或模
擬信號(hào)。有了這一數(shù)據(jù)。就能根據(jù)關(guān)系式rsaf(w)估算出源帶寬rs。根據(jù)對(duì)數(shù)據(jù)的
檢驗(yàn)和/或借助于上一段指出的數(shù)學(xué)推理，可對(duì)半徑驗(yàn)?zāi)Ｐ蚮作出最佳選擇。
詳細(xì)察看這些半經(jīng)驗(yàn)?zāi)Ｐ?，?duì)fwhm帶寬估算選用的最簡(jiǎn)模型是減一實(shí)驗(yàn)確定
的常量偏差:
<formula>formula see original document page 32</formula>
(4)
由公式2可見(jiàn)，在光源譜和光譜儀儀器函數(shù)都是純洛倫茲函數(shù)時(shí)，該模型在數(shù)學(xué)上
是準(zhǔn)確的。標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀的儀器函數(shù)ia)極接近洛倫茲函數(shù)，但如上所述，DUV 光源的譜sa)—般不適合用高斯或洛倫茲分布近似，實(shí)際上很難參數(shù)化。對(duì)圖iA
一D所示的譜來(lái)說(shuō)，E95/FWHM之比不恒定的事實(shí)，明白地說(shuō)明高斯或洛倫茲假設(shè)不 適用。對(duì)于由公式3等可見(jiàn)的這些分析形式，該比值保持不變。因此，常量偏差模 型(公式4)將對(duì)源帶寬rs給出不完美的估算,受到取決于譜形細(xì)節(jié)的系統(tǒng)誤差支配。 為說(shuō)明這一點(diǎn)，研究一種假設(shè)的光源，其譜Sva)的形狀極接近佛克脫分布曲線(xiàn)。 佛克脫分布曲線(xiàn)是具有等能量值的洛倫茲與高斯分布的巻積<formula>formula see original document page 32</formula>(5)
這樣，就用兩個(gè)參數(shù)完全表征了源譜形狀，即FWHMR和洛倫茲與高斯分量的
<formula>formula see original document page 32</formula>。受該源照射的標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀的輸出Ov(X)與純洛倫茲儀 器響應(yīng)Iv(X)的巻積近似，其中該洛倫茲的FW函Y由標(biāo)準(zhǔn)具FSR與其精密度3之比 給出<formula>formula see original document page 32</formula>(6)
圖4示出標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀輸出干擾帶0va)的FWHM與源譜Sva)相對(duì)于Y的FWHM
之差與兩個(gè)獨(dú)立形狀參數(shù)rv/Y和rVY的關(guān)系。正如預(yù)期的那樣，若rG—0，則標(biāo)準(zhǔn)
具干擾帶FWHM與源譜FWHM之差S就接近r的極值，這是公式2描述的條件。但當(dāng) 高斯分量寬度增大時(shí)，S變小，公式3的恒定偏差模型將不能在通用和接近精度與 一致性要求范圍內(nèi)準(zhǔn)確估算源帶寬度。這種討論有點(diǎn)人為因素，不過(guò)清楚地示明了 洛倫茲與高斯光源極端狀況之間的變化。
把恒定偏差模型擴(kuò)展到點(diǎn)斜率模型，可改進(jìn)其性能
<formula>formula see original document page 32</formula> (7)
點(diǎn)斜率模型適合研究假設(shè)的佛克脫譜分布，但只有在參數(shù)r與n約束在它們
的誤差內(nèi)；例如，若有一線(xiàn)性關(guān)系rfmn+b，其中m與b為常數(shù)，貝usva)的總帶
寬變化不涉及過(guò)寬的范圍。然而，若譜形約束很差，點(diǎn)斜率模型也會(huì)遭受不精確的
影響，而不精確性增大是不允許的。在FWHM估算時(shí)，值得再次指出，當(dāng)儀器函數(shù)
ia)的FWHM帶通做得極小時(shí)，這些簡(jiǎn)單模型的性能改善很大。但如上所述，對(duì)DUV 中即使FSR適中的平面標(biāo)準(zhǔn)具組件，也難以或無(wú)法實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)。
現(xiàn)在討論一種應(yīng)用標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀估算帶寬的更健全的方法。對(duì)任一光源譜 sa)，似乎有效的帶寬估算僅出自對(duì)用光譜分辨率極高的設(shè)備獲得的譜作精確的消 巻積。再者，似乎E95估算甚至更站不住腳，因?yàn)檫@要求在很寬的波長(zhǎng)范圍內(nèi)對(duì)源 譜積分?？上驳氖?，由于徹底了解了該技術(shù)的局限性，仍得出了用較寬的帶能標(biāo)準(zhǔn) 具對(duì)FWHM與E95 二者作帶寬估算的健全的半徑驗(yàn)方法。申請(qǐng)人和同事研究了多種 把標(biāo)準(zhǔn)具干擾帶用作輸入來(lái)估算例如DUV受激準(zhǔn)分子光源譜帶寬的技術(shù)。通過(guò)結(jié) 構(gòu)，這些技術(shù)被設(shè)計(jì)成抑制或有效校正譜形變化引起的系統(tǒng)誤差。大多數(shù)在研究中 的方法都依賴(lài)于三種簡(jiǎn)單的觀察。首先，標(biāo)準(zhǔn)具的FWHM帶通r-FSR/3越寬，受源 譜分布翼內(nèi)能量影響的干擾帶FWHM w(及其E95)越多。其次，若測(cè)量干擾帶X呢峰 強(qiáng)度的全寬度(FWX。/?；騀WXM)，在X—100%時(shí)，全寬度就主要取決于源譜線(xiàn)中心附近 的能量值；當(dāng)x—oy。時(shí)，全寬度更依賴(lài)于源譜兩翼的能量值。第三，即便在內(nèi)部元 件病態(tài)的操作或故障情況下，接近單一振蕩器或MOPA光源的帶寬與譜形空間仍限 于有限范圍。
根據(jù)這三點(diǎn)，申請(qǐng)人和同事在桌面實(shí)驗(yàn)中發(fā)現(xiàn)，能夠"優(yōu)化"選擇標(biāo)準(zhǔn)具帶 通Y，干擾帶測(cè)量技術(shù)和帶寬估算器模型，以便在最大值某一百分比例如FWHM帶寬 或者某一包封的能量百分比例如E95帶寬，精確地預(yù)測(cè)相對(duì)不受譜形中系統(tǒng)性變化 影響的源。
申請(qǐng)人和同事發(fā)現(xiàn)，fw麗儀器帶通y受石印激光源照射的標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀，其 FWXy。干擾帶寬度w(X%， Y)可以較佳地模擬為
<formula>formula see original document page 33</formula>(8)
其中A、 B、 C都是常量，取決于光譜儀儀器函數(shù)和測(cè)量干擾帶全寬度的強(qiáng)度部分， 而r^與E ^分別是源譜S(r)的FWHM和E95，部分是申請(qǐng)人在上面引用的專(zhuān)利申請(qǐng) 流水號(hào)10/109,223的主題。公式8對(duì)這里討論的模型作了進(jìn)一步歸一化，計(jì)及了 干擾帶寬度對(duì)源譜的相依性。當(dāng)比值E^/r^:^常數(shù)或E源^常數(shù)時(shí)，得到點(diǎn)斜率 模型，在任一種這樣的條件時(shí)，保持Aal，得到恒定偏差模型。公式8的系數(shù)通過(guò) 計(jì)算機(jī)模擬或?qū)尚艠?biāo)準(zhǔn)作校正確定。其實(shí)要得到期望的靈敏度，用模擬法指導(dǎo)選 擇參數(shù)x、 y和估算器模型的函數(shù)形式是有用的。繪制干擾帶寬度與源譜的E95和FW匪的關(guān)系曲線(xiàn)，可判定公式8對(duì)給出的譜形總體的適用性。該模型可用圖5的
曲線(xiàn)驗(yàn)證，其中比值e jr^對(duì)總體不恒定，但數(shù)據(jù)仍位于三維空間(r^、 e雙、w) 的某一平面附近。該模型雖不完美，但對(duì)有用的(r^、 Effi、 Y)值范圍有效。注意，
當(dāng)E */1^ =常數(shù)時(shí)，還得到一平面，因而使用該比值明顯變化的譜樣本驗(yàn)證該特 性很重要。
對(duì)實(shí)驗(yàn)測(cè)定的上述種類(lèi)的譜形，申請(qǐng)人和同事發(fā)現(xiàn)，當(dāng)"^Es而x^50時(shí)，A B。 還發(fā)現(xiàn)，若YsE源/2-r源且X^50yo，則Aa3.5B。這證實(shí)了預(yù)期的情況當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)具儀器 函數(shù)Y的FWHM變窄時(shí)，50%強(qiáng)度的干擾帶寬度w就更好地跟隨源譜FWHM而與形狀變 化無(wú)關(guān)。申請(qǐng)人研究了這一結(jié)論，就是說(shuō)，根據(jù)具有太寬Y選擇的標(biāo)準(zhǔn)具干擾帶的 FW麗，若用點(diǎn)斜率模型估算源譜的FWHM帶寬，某種E95"流過(guò)"(bleeds through) 儀器函數(shù)，由圖6可見(jiàn)。這是因?yàn)榕c儀器函數(shù)的巻積將源譜兩翼的某些能量推入了 標(biāo)準(zhǔn)具干擾帶的芯部。若源譜的FWHM( 芯部)與E95( 翼部)像上述演示的那樣獨(dú) 立地變化，則源FWHM估算會(huì)出現(xiàn)系統(tǒng)誤差，如圖7A與B所示。
設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀時(shí)，Y二FSR/3的有效選擇在很大程度上受限于能否得到優(yōu) 質(zhì)的反射膜、低損耗/高度平坦的基板和楔角極小的腔墊片，因此，通常無(wú)法優(yōu)化 選擇，尤其是配用當(dāng)代與將來(lái)的DUV光源并符合當(dāng)代與未來(lái)的石印機(jī)要求時(shí)。但申 請(qǐng)人發(fā)現(xiàn)，對(duì)用于新模型的規(guī)定譜寬度檢測(cè)，通過(guò)調(diào)整閾參數(shù)X可以糾正這一狀況。 在使用點(diǎn)斜率模型而且^r^時(shí)，圖8繪出的模擬結(jié)果示出了把X從帶寬檢測(cè)器測(cè) 出的且形成帶寬檢測(cè)器輸出的干擾帶峰強(qiáng)度的25%增大到50% 75%對(duì)大多數(shù)有形 狀變化的源譜FWHM帶寬估算誤差的作用。X增大時(shí)，情況有了改善，申請(qǐng)人把它
歸結(jié)于寬度在增大閾值時(shí)減小了對(duì)源譜芯部與翼部間能量平衡變化的靈敏度，這是 由比值A(chǔ)/B隨閾值X增大而增大的事實(shí)引起的，因?yàn)榕c對(duì)FW25。/。相比，與Iva)巻 積的過(guò)程使源譜兩翼有較少的能量對(duì)FW75。/。作出貢獻(xiàn)。
申請(qǐng)人將此直接應(yīng)用到計(jì)量學(xué)比如E95計(jì)量法。在圖6和7A與B所示的FWX% 標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀干擾帶內(nèi)，可清楚地看出源譜E95在恒定FWHM的變化的事實(shí)，說(shuō)明 能以要求的測(cè)量精度與穩(wěn)定度等估算光源譜的E95，不必依靠數(shù)據(jù)的消巻積與全積 處理。在平面標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀用于FWHM估算時(shí)，利用該模型(公式8)通常足以使Y像 實(shí)際的那么小，并將X增大到干擾帶檢測(cè)器比如PDA的角分辨度所允許的最大程度， 而檢測(cè)器的分辨度部分取決于強(qiáng)度測(cè)量的像素粒度(陣列中的二極管)，因而這種數(shù) 學(xué)運(yùn)算作為內(nèi)插。此時(shí)，A/B可以大于5，而對(duì)形狀變化的靈敏度則小得可以接受。
但對(duì)E95估算，狀況仍具挑戰(zhàn)性，因?yàn)殡y以構(gòu)成A/B遠(yuǎn)小于1而且仍然滿(mǎn)足
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光譜儀設(shè)計(jì)其它方面提出的約束(檢測(cè)器分辨度與信噪比等)的情景。
申請(qǐng)人和同事通過(guò)檢測(cè)，Max(E源}實(shí)驗(yàn)光譜儀FW357。與Fff75。/。干擾帶寬度的特 性，考察了標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀應(yīng)用于計(jì)量學(xué)比如E95計(jì)量法的有效性。之所以選擇該Y， 是因?yàn)閷?duì)源譜兩翼能量值具有能接受的靈敏度而不過(guò)多損害其它特性。實(shí)驗(yàn)中， Cynier XLA100原型激光器DUV光源在其正常工作范圍內(nèi)和以外的各種條件下工作， 使其輸出的帶寬與譜形發(fā)生明顯變化(對(duì)應(yīng)于圖1A — C中種類(lèi)I-III的條件與變 化)。該源發(fā)出的光經(jīng)過(guò)勻化，同時(shí)照射高分辨度雙通中階梯光柵光譜儀和實(shí)驗(yàn)的 標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀40。光柵光譜儀輸出用富利葉法消巻積，算出相應(yīng)的E95帶寬，并且 分析光柵光譜儀曝光期間獲得的標(biāo)準(zhǔn)具干擾帶圖案，報(bào)告分離的干擾帶值WJ卩ff2， 比如干擾帶FW35。/。與FW75%。結(jié)果用圖9的曲線(xiàn)表示，即兩強(qiáng)度閾值的干擾帶寬度 與光柵光譜儀記錄的消巻積源譜的E95的關(guān)系。由點(diǎn)斜率來(lái)看
<formula>formula see original document page 35</formula>干擾帶寬度以一個(gè)斜率m跟隨MOPA時(shí)序偏差與氟濃縮引起的源E95寬度變化，不 過(guò)以完全不同的斜度m'^n對(duì)腔聲學(xué)現(xiàn)象引起的源E95變化作出響應(yīng)，結(jié)果是帶寬 和譜形不同種類(lèi)的衍生變化與激光器內(nèi)不同的物理過(guò)程相關(guān)聯(lián)。最佳擬合截線(xiàn)b 也隨工作點(diǎn)變化。因此，申請(qǐng)人根據(jù)該實(shí)驗(yàn)和其它實(shí)驗(yàn)得出結(jié)論存在形狀變化時(shí)， 單一強(qiáng)度閾值X的全寬度測(cè)量不足以作健全的E95估算。
明白了單閾值法不合適后，申請(qǐng)人和同事研究了某些根據(jù)干擾帶寬度模型(公 式8)得出的其它技術(shù)。在一種技術(shù)中，將兩臺(tái)標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀設(shè)計(jì)成為各自得到完 全不同的系數(shù)A、 B、 C，這也是上面引用的以申請(qǐng)人姓名提出的專(zhuān)利申請(qǐng)流水號(hào) 10/615,321的主題。這些光譜儀可同時(shí)操作而同時(shí)獲得兩個(gè)不同的干擾帶寬度； 準(zhǔn)備了這些干擾帶寬度和一組六個(gè)系數(shù)后，可對(duì)未知的源FWHM或E95求出兩個(gè)多 變量線(xiàn)性方程系統(tǒng)。然而，雖然該法憑其自身的質(zhì)量可能極其成功，但是要用兩臺(tái) 獨(dú)立的標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀，缺點(diǎn)是成本高而且復(fù)雜。不過(guò)模擬表明，若合理選擇系數(shù)并 滿(mǎn)足一定的檢測(cè)約束，可對(duì)源的FWHM與E95二者都報(bào)出極佳的估值，如同上面引 用的專(zhuān)利申請(qǐng)主題一樣。
本發(fā)明一實(shí)施例的另一種方法能過(guò)硬地對(duì)源譜作E95估算，同時(shí)只用單個(gè)標(biāo) 準(zhǔn)具，以不同的方式應(yīng)用公式8。在該法中，根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例，通過(guò)精密度和 FSR選用來(lái)固定標(biāo)準(zhǔn)具帶通y，但系數(shù)A、 C、 C值仍可明顯變化，通過(guò)改變進(jìn)行寬 度測(cè)量的強(qiáng)度閾值X。例如，對(duì)兩種完全不同的X選擇，可以再次得出平面方程。
為測(cè)試本發(fā)明該實(shí)施例，申請(qǐng)人和同事用改用兩個(gè)強(qiáng)度閾值的E95估算器模 型重復(fù)了實(shí)驗(yàn)。在該組測(cè)量中，選用的模型為
五源《〖.w(350/0,y) + Z:.w(750/0,;K) + M, (10)
式中K、 L、 M是校正系數(shù)，通過(guò)光柵光譜儀測(cè)量的源譜E95與該模型的最佳擬合決 定。經(jīng)過(guò)如此變化，由圖IO繪制的實(shí)驗(yàn)結(jié)果可見(jiàn)，在很寬的譜形變化范圍內(nèi)，明 顯提高了源E95估算精度。根據(jù)公式8的模型，申請(qǐng)人和同事認(rèn)為，兩個(gè)FWX呢項(xiàng) 的組合，部分"檢測(cè)出"譜線(xiàn)芯部和兩翼附近內(nèi)的源譜能量分布的獨(dú)立變化。因此， 該模型校正了簡(jiǎn)單的一維(點(diǎn)斜率)模型對(duì)其不敏感的獨(dú)立的FWHM與E95變化。雖 然仍有一些系統(tǒng)偏差，但在應(yīng)用本發(fā)明一實(shí)施例改進(jìn)的技術(shù)時(shí)，對(duì)給出的譜總體而
言，可將誤差分布的總和減少一半。申請(qǐng)人和同事同樣認(rèn)為，把兩種充分分開(kāi)的 Exy。測(cè)量當(dāng)作帶寬檢測(cè)器輸出，則寬度測(cè)量具有同樣的效果。在測(cè)定期望的實(shí)際帶 寬參數(shù)方面，對(duì)帶寬檢測(cè)器中FW測(cè)量或者E測(cè)量使用兩個(gè)獨(dú)立和分離的X。/。值是有 效的，對(duì)一給定的儀器例如上述的特定標(biāo)準(zhǔn)具而言，不管是FW還是E，例如FWHM 或E95，都只取決于生成的有關(guān)常數(shù)K、 L與M。同樣地，用于校正和后來(lái)實(shí)際檢測(cè) 的標(biāo)準(zhǔn)具的兩次測(cè)量，每次都是FW與E變化，結(jié)果一樣。
而本領(lǐng)域的技術(shù)人員將明白，運(yùn)用單臺(tái)寬度檢測(cè)裝置如PDA，可得到處理W1 的值例如FWXM或EX'和W2的值例如FWX"M或EX"'所需的數(shù)據(jù)，若二者都是FW或E, 則X^T， X'-X'〃。然后根據(jù)檢測(cè)器及其關(guān)聯(lián)處理器的操作，可用PDA得出的強(qiáng)度值 方便而迅速地同時(shí)算出W,與W2兩個(gè)值。
盡管把標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀干擾帶的能量寬度(EX。/。)計(jì)算結(jié)果用作點(diǎn)斜率或其它模 型輸入可能有更多的運(yùn)算需求，因?yàn)橐蠓e分，但是仍可實(shí)現(xiàn)，而提高的運(yùn)算速度 和/或?qū)Ψe分任務(wù)優(yōu)化的專(zhuān)用DSP電路，使這種情況成了一種可行的解法。當(dāng)該法 進(jìn)入標(biāo)準(zhǔn)具選擇范圍及其它光譜儀設(shè)計(jì)方面時(shí)，甚至具有一定優(yōu)點(diǎn)。
還應(yīng)理解，該實(shí)際帶寬參數(shù)例如FWHM或E95，即這里揭示的本發(fā)明該實(shí)施例 的裝置與方法的最終輸出，最好只是其估值。不過(guò)就激光源及其測(cè)控系統(tǒng)和/或石 印系統(tǒng)來(lái)說(shuō)，關(guān)心的是實(shí)際值。如在本申請(qǐng)包括權(quán)利要求書(shū)中所使用的，帶寬測(cè)量 參數(shù)的"實(shí)際"值或"估算的實(shí)際"值可以互換使用，表示本發(fā)明諸揭示實(shí)施例得 到的因而依賴(lài)于系統(tǒng)其余部分的這一最后確定的值，作為該系統(tǒng)能在這里討論的極 限內(nèi)能產(chǎn)生的期望帶寬測(cè)量參數(shù)比如FWHM或E95的最佳與最接近的測(cè)定。
如上所述，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)明白，除了各種缺點(diǎn)外，標(biāo)準(zhǔn)具光譜使用于
DUV石印術(shù)使用的帶寬計(jì)量艙上線(xiàn)變窄型受激準(zhǔn)分子光源也有獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn)。這些光 源呈現(xiàn)出對(duì)其輸出譜因某些特定工作條件引起的細(xì)部形狀或函數(shù)形式的相依性。由 于這些光譜儀實(shí)際實(shí)施例儀器函數(shù)帶通不可忽略的影響，這類(lèi)形狀變化會(huì)對(duì)常用于 估算帶寬的方法引入大的系統(tǒng)誤差。幸好，通過(guò)應(yīng)用簡(jiǎn)單的標(biāo)準(zhǔn)具干擾帶寬度模型， 根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例，提出了一些對(duì)這些變化不很敏感的特殊方法。通過(guò)對(duì)譜的芯 部與兩翼附近之間的相對(duì)能量分布引入測(cè)量靈敏度，使用這些技術(shù)就能抑制與譜形 變化相關(guān)的誤差。由于石印處理對(duì)照射帶寬的靈敏度，所以管理這一系統(tǒng)誤差源對(duì) 當(dāng)前和將來(lái)的應(yīng)用尤其是涉及源譜主動(dòng)控制或穩(wěn)定化的應(yīng)用很重要。
本領(lǐng)域的技術(shù)人員還應(yīng)理解，在更理論化的層面上，本發(fā)明一實(shí)施例涉及一 種可能包括光學(xué)色散儀器的帶寬計(jì)方法與裝置，例如包括分散光源光輸出的內(nèi)所含 能量的標(biāo)準(zhǔn)具，光源可能是激光器DUV源，或者也許是應(yīng)用激光產(chǎn)生的等離子體
(LPP)或放電產(chǎn)生的等離體(DPP)的EUV光源。根據(jù)光源輸出光能的波長(zhǎng)分布，色散 將其自然波長(zhǎng)域的輸出光轉(zhuǎn)換成空間或時(shí)間域。本發(fā)明利用沿陣列范圍記錄光強(qiáng)的
橫向光電二極管陣列，還試用檢測(cè)器和光電二極管陣列分別記錄能量波長(zhǎng)分布的空 間或時(shí)間變化，而且還可根據(jù)記錄的空間或時(shí)間變化提供輸出信號(hào)。該輸出信號(hào)包 括陣列上像素之間測(cè)得的多個(gè)寬度，代表在光源(FWXM)和(FWX'M)發(fā)射光譜全寬度 內(nèi)最大值某一百分比的譜全寬度或者譜上兩點(diǎn)間的寬度，這兩點(diǎn)限定的譜含量包封 了 一定百分比的光源(EX")和(EX'〃)發(fā)射光譜全譜的能量。
本發(fā)明一實(shí)施例還試用了至少兩個(gè)這種值的任意組合，例如在組合為FWXM與 FWX'M時(shí)，X^X'，而在組合為EX〃與EX'〃時(shí)，X'VX'〃。本領(lǐng)域的技術(shù)人員還應(yīng)理解， 使用的特定組合和X與X'或X"與X'〃之差可按經(jīng)驗(yàn)選擇，例如根據(jù)色散元件的類(lèi)型、 記錄儀和光源的類(lèi)型與精度(由SNR測(cè)得)，包括對(duì)光源發(fā)射光譜出現(xiàn)畸變的種類(lèi)與
概率，每一個(gè)對(duì)被測(cè)譜內(nèi)能量分布不同方面，例如對(duì)最大值xy。的寬度或包封能量
Y。/。的寬度更敏感，即通常對(duì)譜的中心部分或外緣部分(翼部)等不同譜部分的能量更 敏感。
本發(fā)明一實(shí)施例還試圖分別根據(jù)檢測(cè)器記錄的能量波長(zhǎng)分布，即如用橫向PDA 陣列中各光電二極管(像素)檢出的光強(qiáng)分布所示的空間或時(shí)間變化，用第一計(jì)算裝 置分別在空間或時(shí)間域內(nèi)計(jì)算能量波長(zhǎng)分布寬度。根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例，該第一計(jì) 算設(shè)備根據(jù)色散儀器的光學(xué)特性，分別將空間或時(shí)間分布(如PDA中檢出的光強(qiáng)) 轉(zhuǎn)換成波長(zhǎng)域，即測(cè)定上述的寬度值并輸出這些寬度值。
根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例，第二計(jì)算裝置應(yīng)用至少一個(gè)這類(lèi)寬度值代表第一計(jì)算
裝置計(jì)算的波長(zhǎng)域內(nèi)能量的波長(zhǎng)分布，并把它們用作對(duì)光源、色散儀器、檢測(cè)器具 有特定的預(yù)定校正變量的多變量方程的自變量，還把至少一個(gè)寬度取作自變量。即 如上所述，根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例，通過(guò)用一可信的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量與特定標(biāo)準(zhǔn)具光譜儀等 特定儀器輸出的至少一個(gè)寬度相關(guān)的譜的實(shí)際波長(zhǎng)，來(lái)測(cè)定該預(yù)定的校正值，因而 當(dāng)將同一寬度輸出被輸入第二計(jì)算裝置時(shí)，多變量方程與預(yù)計(jì)算校正變量的聯(lián)用將 在校正過(guò)程中返回該可信標(biāo)準(zhǔn)測(cè)出的同一個(gè)或基本上一樣的期望波長(zhǎng)參數(shù)(FWXM 或EX)。上述的本發(fā)明實(shí)施例涉及到應(yīng)用第一計(jì)算裝置的兩次這樣的寬度測(cè)量，但 如這里指出，它只要求至少一次，也可以超過(guò)兩次。而根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，第 一與第二計(jì)算裝置可以是同一個(gè)計(jì)算裝置。求解該多變量方程，計(jì)算描繪光源輸出
的能量譜分布的實(shí)際帶寬參數(shù)，光源選自FWX*M、 EXW。
本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)明白，上述本發(fā)明諸實(shí)施例并不將發(fā)明限于揭示的諸 特定實(shí)施例。應(yīng)該理解，有許多變化與修正并不違背所附權(quán)利要求書(shū)的范圍與 精神，例如除了標(biāo)準(zhǔn)具，還可應(yīng)用產(chǎn)生所需干擾帶圖案或其它帶寬檢測(cè)測(cè)量參 數(shù)的衍射光學(xué)元件。同樣地，可用各種方式獲得先作校正再用于運(yùn)算的寬度測(cè) 量值，即用于本發(fā)明一實(shí)施例方程的W,(與某一 FWXM或EX和儀器帶通函數(shù)有 關(guān))和WJ與另一 FWXM或EX和儀器帶通函數(shù)有關(guān))，而不是PDA的處理輸出。 此外，PDA本身可求出最終輸出，這與通過(guò)處理PSA強(qiáng)度值輸出而得出最終輸 出的方法相對(duì)立，它在PDA中配用了專(zhuān)門(mén)編程而且具有特種算法或代數(shù)、三角 的電路的數(shù)字信號(hào)處理器(DSP)。用來(lái)以FWXM或EX形式把PDA強(qiáng)度值轉(zhuǎn)換的 某些狀況處理成Wi與W2，作為帶寬檢測(cè)器裝置和有關(guān)電路的實(shí)時(shí)輸出。然后在 獨(dú)立的處理器中或在DSP自身，接著處理該相應(yīng)的方程，用以測(cè)定期望的實(shí)際 參數(shù)。通過(guò)增加陣列中的像素(二極管)數(shù)以加快處理和增大SNR，可對(duì)帶寬檢 測(cè)器輸出增加更多的粒度?？稍谒綑?quán)利要求書(shū)的范圍內(nèi)作其它變化和修正， 本發(fā)明應(yīng)以該權(quán)利要求書(shū)范圍作解釋。
另外，上述諸實(shí)施例涉及到多變量線(xiàn)性方程，但本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)明白， 有時(shí)會(huì)在含校正系數(shù)的轉(zhuǎn)換函數(shù)中出現(xiàn)非線(xiàn)性項(xiàng)。而且，諸實(shí)施例相對(duì)于石印 術(shù)應(yīng)用的較窄帶寬的激光輸出光帶寬描述。然而，對(duì)于其它光源，例如EUV光 源要作窄帶寬測(cè)定而且使用同類(lèi)或其它形式單色譜而在測(cè)量中因儀器特性而 引入同樣不準(zhǔn)確性，也可應(yīng)用本發(fā)明。再者，給出的某些細(xì)節(jié)用來(lái)測(cè)定校正系 數(shù)，但本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解，利用眾所周知的普通誤差傳播技術(shù)，可對(duì) 實(shí)際帶寬作某種測(cè)量，如同用對(duì)第一與第二帶寬監(jiān)視器輸出的兩個(gè)值的出現(xiàn)相
關(guān)的所謂"可信標(biāo)準(zhǔn)，，測(cè)定的一樣。如Berington在Data Reduction and Error Analysis for the Physical Sciences中提出的那樣，"可信標(biāo)準(zhǔn)"的性能(精 度)要求用誤差傳播技術(shù)測(cè)定的該可信標(biāo)準(zhǔn)的隨機(jī)誤差，必須與來(lái)自帶寬監(jiān)視 器的通過(guò)多變量變換方程傳播的標(biāo)準(zhǔn)具測(cè)量的隨機(jī)誤差為同一量級(jí)或者更小。
權(quán)利要求
1.一種測(cè)量從激光器發(fā)射輸入到帶寬計(jì)的光譜帶寬的帶寬計(jì)，其特征在于，包括光學(xué)帶寬監(jiān)視器，用于提供第一和第二輸出，第一輸出代表指示激光器發(fā)射光的帶寬的第一參數(shù)，第二輸出代表指示激光器發(fā)射光的帶寬的第二參數(shù)；和實(shí)際帶寬計(jì)算裝置，利用把第一和第二輸出用作多變量方程的組成部分以計(jì)算實(shí)際帶寬參數(shù)，所述方程使用光學(xué)帶寬監(jiān)視器專(zhuān)用的預(yù)定校正變量。
2. 如權(quán)利要求l所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)是激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度(FWXM)。
3. 如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)是譜上兩點(diǎn)間的寬度，限定了包封激光器發(fā)射光譜全譜某一百分比能量的譜范圍(EX)。
4. 如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸 出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中X-X〃， X、X"'。
5. 如權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，還包括帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸 出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中X-X〃， X、X'〃。
6. 如權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，還包括帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸 出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二 FWX"M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中X-X"， X'-X'〃。
7. 如權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
8. 如權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
9. 如權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
10. 如權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出 估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW,+LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX〃'的第二測(cè)量輸出。
11. 如權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出-估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXWJLXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX〃'的第二
12. 如權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)=K X W,L X W2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
13. —種測(cè)量從激光器發(fā)射輸入到帶寬計(jì)的光譜寬度的帶寬計(jì)，其特征在于，包括光學(xué)帶寬監(jiān)視器，提供第一輸出，代表光學(xué)帶寬監(jiān)視器測(cè)量的第一譜寬度測(cè)量和光學(xué)帶寬監(jiān)視器測(cè)量的第二譜寬度測(cè)量；和 -實(shí)際帶寬計(jì)算裝置，利用把第一和第二輸出作為多變量方程的組成部分以 計(jì)算實(shí)際帶寬參數(shù)，所述方程使用光學(xué)帶寬監(jiān)視器專(zhuān)用的預(yù)定校正變量。
14. 如權(quán)利要求13所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)是激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度(FWXM)。
15. 如權(quán)利要求13所述的裝置，其特征在于，還包括-實(shí)際帶寬參數(shù)是譜上包封激光器發(fā)射光譜全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間 的寬度(EX)。
16. 如權(quán)利要求13所述的裝置，其特征在于，還包括帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸 出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二FWX〃M或EX"'中的至少一個(gè)，其中X4〃， X、X'〃。
17. 如權(quán)利要求14所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中X^X〃， X'W'。
18. 如權(quán)利要求15所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX"'中的至少一個(gè)，其中X^X〃， X、X"'。
19. 如權(quán)利要求16所述的裝置，其特征在于，還包括.-用可信標(biāo)從準(zhǔn)測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
20. 如權(quán)利要求17所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
21. 如權(quán)利要求18所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
22. 如權(quán)利要求19所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出 估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW一LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
23. 如權(quán)利要求20所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出 估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW+LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二 測(cè)量輸出。
24. 如權(quán)利要求21所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW+LXW2+M式中Wf代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
25. —種光刻法光源，其特征在于，包括帶寬計(jì)，用于測(cè)量從激光器發(fā)射輸入到帶寬計(jì)的光譜帶寬，包括光學(xué)帶寬監(jiān)視器，用于提供第一和第二輸出，第一輸出代表指示激光器發(fā)射光的帶寬的第一參數(shù)，第二輸出代表指示激光器發(fā)射光的帶寬的第二參數(shù)； 和實(shí)際帶寬計(jì)算裝置，利用把第一和第二輸出用作多變量方程的組成部分以 計(jì)算實(shí)際帶寬參數(shù)，所述方程使用光學(xué)帶寬監(jiān)視器專(zhuān)用的預(yù)定校正變量。
26. 如權(quán)利要求25所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)是激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度 (FWXM)。
27. 如權(quán)利要求25所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)是譜上包封激光器發(fā)射光譜全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬度(EX)。
28. 如權(quán)利要求25所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二FWX〃M或EX"'中的至少一個(gè)，其中X^X〃， X、X'〃。
29. 如權(quán)利要求26所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX"'中的至少一個(gè)，其中XW, X、X"'。
30. 如權(quán)利要求27所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX"'中的至少一個(gè)，其中X4〃， X、X'〃。
31. 如權(quán)利要求28所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
32. 如權(quán)利要求29所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二的出現(xiàn)輸出相關(guān)。
33. 如權(quán)利要求30所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)的。
34. 如權(quán)利要求31所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出 估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW,+LXW2+M式中Wf代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
35. 如權(quán)利要求32所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出 估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXWJLXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
36. 如權(quán)利要求33所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二 K X W,+L X W2+M式中Wp代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX"'的第二測(cè)量輸出。
37. —種光刻法光源，其特征在于，包括測(cè)量從激光器發(fā)射輸入到帶寬計(jì)的光譜帶寬的帶寬計(jì)，所述帶寬計(jì)包括 光學(xué)帶寬監(jiān)視器，提供第一輸出，代表光學(xué)帶寬監(jiān)視器測(cè)量的第一譜寬度測(cè)量和光學(xué)帶寬監(jiān)視器測(cè)量的第二譜寬度測(cè)量；和實(shí)際帶寬計(jì)算裝置，利用把第一和第二輸出作為多變量方程的組成部分以 計(jì)算實(shí)際帶寬參數(shù)，所述方程使用光學(xué)帶寬監(jiān)視器專(zhuān)用的預(yù)定校正變量。
38. 如權(quán)利要求37所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)是激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度(FWXM)。
39. 如權(quán)利要求37所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)是譜 上包封激光器發(fā)射光譜全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬度(EX)。
40. 如權(quán)利要求37所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX〃'中的至少一個(gè)，其中XW， X、X'〃。
41. 如權(quán)利要求38所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二FWX〃M或EX"'中的至少一個(gè)，其中X^X〃， X、X"'。
42. 如權(quán)利要求39所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二FWX〃M或EX"'中的至少一個(gè)，其中X-X〃， X、X〃'。
43. 如權(quán)利要求40所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
44. 如權(quán)利要求41所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
45. 如權(quán)利要求42所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
46. 如權(quán)利要求43所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW,+LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX"M或EX"'的第二測(cè)量輸出。
47. 如權(quán)利要求44所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)=K X W,+L X W2+M式中Wi二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出D
48. 如權(quán)利要求45所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)=K X W,L X W2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，Wz是代表FWX〃M或EX"'的第二測(cè)量輸出。
49. 一種光刻機(jī)，其特征在于，包括 激光源，包括一種測(cè)量從激光器發(fā)射輸入到帶寬計(jì)的光譜帶寬的帶寬計(jì)，所述帶寬計(jì)包括光學(xué)帶寬監(jiān)視器，用于提供第一和第二輸出，第一輸出代表指示激光器發(fā) 射光的帶寬的第一參數(shù)，第二輸出代表指示激光器發(fā)射光的帶寬的第二參數(shù)； 和實(shí)際帶寬計(jì)算裝置，利用把第一和第二輸出用作多變量方程的組成部分計(jì) 算實(shí)際帶寬參數(shù)，所述方程使用光學(xué)帶寬監(jiān)視器專(zhuān)用的預(yù)定校正變量。
50. 如權(quán)利要求49所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)是激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度(FWXM)。
51. 如權(quán)利要求49所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)是譜上包封激光器發(fā)射光譜全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬度(EX)。
52. 如權(quán)利要求49所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX〃'中的至少一個(gè)，其中XtOT， X'^X'〃。
53. 如權(quán)利要求50所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬度(EX')，第二輸出代表第二FWX〃M或EX"'中的至少一個(gè)，其中X-X〃， X、X〃'。
54. 如權(quán)利要求51所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二FWX〃M或EX〃'中的至少一個(gè)，其中X-X〃， X、X'〃。
55. 如權(quán)利要求52所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
56. 如權(quán)利要求53所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
57. 如權(quán)利要求54所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
58. 如權(quán)利要求55所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW,+LXW2+M式中Wf代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX"'的第二測(cè)量輸出。
59. 如權(quán)利要求56所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW,+LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
60. 如權(quán)利要求57所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出 估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW,LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX"'的第二 測(cè)量輸出。
61. —種光刻光源，其特征在于，包括測(cè)量從激光器發(fā)射輸入到帶寬計(jì)的光譜帶寬的帶寬計(jì)，所述帶寬計(jì)包括提供第一輸出的光學(xué)帶寬監(jiān)視器，第一輸出代表光學(xué)帶寬檢測(cè)器測(cè)出的第 一和第二譜寬度測(cè)量；和把第一和第二輸出用作多變量方程的組成部分計(jì)算實(shí)際帶寬參數(shù)的實(shí)際 帶寬計(jì)算裝置，所述方程用光學(xué)帶寬監(jiān)視器專(zhuān)用的預(yù)定校正變量。
62. 如權(quán)利要求61所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)是激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度 (FWXM)。
63. 如權(quán)利要求61所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)是譜上包封激光器發(fā)射光譜全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬度(EX)。
64. 如權(quán)利要求61所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二FWX〃M或EX"'中的至少一個(gè)，其中XA〃， X、X"'。
65. 如權(quán)利要求62所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二FWX〃M或EX"'中的至少一個(gè)，其中X4〃， X、X"'。
66. 如權(quán)利要求63所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二FWX〃M或EX〃'中的至少一個(gè)，其中X-X〃， X'W〃。
67. 如權(quán)利要求64所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
68. 如權(quán)利要求65所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
69. 如權(quán)利要求66所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
70. 如權(quán)利要求67所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二 K X W,+L X W2+M式中Wf代表FWXM或EX，的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
71. 如權(quán)利要求68所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出 估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXWJLXW2+M式中Wf代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX〃'的第二測(cè)量輸出。
72. 如權(quán)利要求69所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出 估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW'+LXW2+M式中Wp代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX"'的第二測(cè)量輸出。
73. —種測(cè)量從激光器發(fā)射輸入到帶寬計(jì)的光譜帶寬的帶寬計(jì)，其特征在 于，包括光學(xué)帶寬監(jiān)視裝置，用于提供第一和第二輸出，第一輸出代表指示激光器 發(fā)射光帶寬的第一參數(shù)，第二輸出代表指示激光器發(fā)射光帶寬的第二參數(shù)；和實(shí)際帶寬計(jì)算裝置，利用把第一和第二輸出用作多變量方程的組成部分計(jì) 算實(shí)際帶寬參數(shù)，所述方程使用光學(xué)帶寬監(jiān)視裝置專(zhuān)用的預(yù)定校正變量。
74. 如權(quán)利要求73所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)是激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度 (FWXM)。.
75.如權(quán)利要求73所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)是譜上包封激光器發(fā)射光譜全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間 的寬度(EX)。
76.如權(quán)利要求73所述的裝置，其特征在于，還包括帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué) 輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的 寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中X^X〃， X'^X〃'。
77. 如權(quán)利要求74所述的裝置，其特征在于，還包括帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中X-X〃， X'-X'〃。
78. 如權(quán)利要求77所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的 寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中XW ， X' rf〃'。
79. 如權(quán)利要求76所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
80. 如權(quán)利要求77所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第 一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
81. 如權(quán)利要求78所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
82. 如權(quán)利要求79所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)=K X W,L X W2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX"'的第二測(cè)量輸出。
83. 如權(quán)利要求80所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出 估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW'+LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX"'的第二測(cè)量輸出。
84. 如權(quán)利要求81所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXWt+LXW2+M式中Wp代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二 測(cè)量輸出。
85. —種測(cè)量從激光器發(fā)射輸入到帶寬計(jì)的光譜帶寬的帶寬計(jì)，其特征在于，包括提供第一輸出的光學(xué)帶寬監(jiān)視裝置，第一輸出代表帶寬檢測(cè)器測(cè)量的第一譜寬度測(cè)量和光學(xué)帶寬檢測(cè)裝置測(cè)量的第二譜寬度測(cè)量；和實(shí)際帶寬計(jì)算裝置，利用把第一和第二輸出用作多變量線(xiàn)性方程的組成部 分計(jì)算實(shí)際帶寬參數(shù)，所述方程使用光學(xué)帶寬監(jiān)視裝置專(zhuān)用的預(yù)定校正變量。
86. 如權(quán)利要求85所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)是激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度(FWXM)。
87. 如權(quán)利要求85所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)是譜上包封激光器發(fā)射光譜全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬度(EX)。
88. 如權(quán)利要求85所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的 寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX〃'中的至少一個(gè)，其中X^X〃， X' ^X"'。
89. 如權(quán)利要求86所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的 寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX〃'中的至少一個(gè)，其中X^X〃， X' ^X〃'。
90. 如權(quán)利要求87所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的 寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX"'中的至少一個(gè)，其中X-X〃， X、X'〃。
91. 如權(quán)利要求88所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
92. 如權(quán)利要求89所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第 一 和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
93. 如權(quán)利要求90所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
94. 如權(quán)利要求91所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出 估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW—LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
95. 如權(quán)利要求92所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW,LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
96. 如權(quán)利要求93所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出 估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW,+LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二觀!j量輸出。
97. -種光刻光源，其特征在于，包括測(cè)量從激光器發(fā)射輸入到帶度計(jì)的光譜寬度的帶寬計(jì)裝置，所述帶寬計(jì)裝 置包括光學(xué)帶寬監(jiān)視裝置，用于提供第一和第二輸出，第一輸出代表指示激光器 發(fā)射光帶寬的第一參數(shù)，第二輸出代表指示激光器發(fā)射光帶寬的第二參數(shù)；和實(shí)際帶寬計(jì)算裝置，利用把第一和第二輸出用作多變量方程的組成部分計(jì) 算實(shí)際帶寬參數(shù)，所述方程使用光學(xué)帶寬監(jiān)視裝置專(zhuān)用的預(yù)定校正變量。
98. 如權(quán)利要求97所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)是激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度(FWXM)。
99. 如權(quán)利要求97所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)是譜上包封激光器發(fā)射光譜全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬度(EX)。
100. 如權(quán)利要求97所述的裝置，其特征在于，還包括帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中XtOT， X' ^X'〃。
101. 如權(quán)利要求98所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的 寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中XtOT， X' ^X'〃。
102. 如權(quán)利要求99所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的 寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中X-X〃， X' ^X'〃。
103. 如權(quán)利要求100所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
104. 如權(quán)利要求101所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
105. 如權(quán)利要求102所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
106. 如權(quán)利要求103所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)=K X W,+L X W2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
107. 如權(quán)利要求104所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXWJLXW2+M式中W,.^代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
108. 如權(quán)利要求105所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW,+LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX"M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
109. —種光刻光源，其特征在于，包括測(cè)量從激光器發(fā)射輸入到帶寬計(jì)的光譜帶寬的帶寬計(jì)裝置，所述帶寬計(jì)裝置包括提供第一輸出的光學(xué)帶寬監(jiān)視裝置，第一輸出代表帶寬檢測(cè)器測(cè)量的第一譜寬度測(cè)量和光學(xué)帶寬檢測(cè)裝置測(cè)量的第二譜寬度測(cè)量；和利用把第一和第二輸出用作多變量方程組成部分計(jì)算實(shí)際帶寬參數(shù)的實(shí) 際帶寬計(jì)算裝置，所述方程使用光學(xué)帶寬監(jiān)視裝置專(zhuān)用的預(yù)定校正變量。
110. 如權(quán)利要求109所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)是激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度(FWXM)。
111. 如權(quán)利要求109所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)是譜上包封激光器發(fā)射光譜全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬度(EX)。
112. 如權(quán)利要求109所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的 寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX"'中的至少一個(gè)，其中XtOT， X' ^X'〃。
113. 如權(quán)利要求110所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的 寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中X^X〃， X' ^X'〃。
114. 如權(quán)利要求111所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的 寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX"M或EX"'中的至少一個(gè)，其中X#X"， X' ^X'〃。
115. 如權(quán)利要求112所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)的預(yù)算的校正變量。
116. 如權(quán)利要求113所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
117. 如權(quán)利要求114所述的裝置，其特征在于，還包括-用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
118. 如權(quán)利要求115所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出 估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW,LXW2+M式中Wf代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX"'的第二測(cè)量輸出。
119. 如權(quán)利要求116所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出 估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXWJLXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX"M或EX"'的第二測(cè)量輸出。
120. 如權(quán)利要求117所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXWi+LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二 測(cè)量輸出。
121. —種光刻機(jī)，其特征在于，包括激光源，包括測(cè)量從激光器發(fā)射輸入到帶寬計(jì)的光譜帶寬的帶寬計(jì)裝置，包括提供第一和第二輸出的光學(xué)帶寬監(jiān)視裝置，第一輸出代表指示激光器發(fā)射光帶寬的第一參數(shù)，第二輸出代表指示激光器發(fā)射光帶寬的第二參數(shù)；和利用把第一和第二輸出用作多變量線(xiàn)性的方程的組成部分計(jì)算實(shí)際帶寬 參數(shù)的實(shí)際帶寬計(jì)算裝置，所述方程使用光學(xué)帶寬監(jiān)視裝置專(zhuān)用的預(yù)定校正變
122. 如權(quán)利要求121所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)是激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度 (FWXM)。
123. 如權(quán)利要求121所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)是譜上包封激光器發(fā)射光譜全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬度(EX)。
124. 如權(quán)利要求121所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的 寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中X^X〃， X' ^X'〃。
125. 如權(quán)利要求122所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的 寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX"M或EX"'中的至少一個(gè)，其中X^X〃， X' ^X〃'。
126. 如權(quán)利要求123所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視裝置是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的 寬度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中X^X〃， X、X〃'。
127. 如權(quán)利要求124所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量。與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
128. 如權(quán)利要求125所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
129. 如權(quán)利要求126所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
130. 如權(quán)利要求127所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)=K X Wi+L X W2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
131. 如權(quán)利要求128所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXWt+LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
132. 如權(quán)利要求129所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW,+LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，Wa是代表FWX"M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
133. —種光刻光源，其特征在于，包括測(cè)量從激光器發(fā)射輸入到帶寬計(jì)的光譜帶寬的帶寬計(jì)裝置，所述帶寬計(jì)裝置包括提供第一輸出的光學(xué)帶寬監(jiān)視裝置，第一輸出代表光學(xué)帶寬監(jiān)視裝置測(cè)量的第一與第二譜寬度測(cè)量；和利用把第一與第二輸出用作多變量線(xiàn)性方程組成部分計(jì)算實(shí)際帶寬參數(shù) 的實(shí)際帶寬計(jì)算裝置，所述方程使用光學(xué)帶寬監(jiān)視裝置專(zhuān)用的預(yù)定校正變量。
134. 如權(quán)利要求133所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)是激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度(FWXM)。
135. 如權(quán)利要求133所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)是譜上包封激光器發(fā)射光譜全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬度(EX)。
136. 如權(quán)利要求133所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中X^X〃， X'tO('〃。
137. 如權(quán)利要求134所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中XW， X、X〃'。
138. 如權(quán)利要求135所述的裝置，其特征在于，還包括帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中XW， X、X'〃。
139. 如權(quán)利要求136所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
140. 如權(quán)利要求137所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
141. 如權(quán)利要求138所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
142. 如權(quán)利要求139所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXWJLXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
143. 如權(quán)利要求140所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出 估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW,LXW2+M式中Wf代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX"'的第二測(cè)量輸出。
144. 如權(quán)利要求141所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)=K X W,+L X W2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
145. —種測(cè)量從激光器發(fā)射輸入到帶寬計(jì)的光譜寬度的方法，其特征在于，包括 用光學(xué)帶寬監(jiān)視器提供第一和第二輸出，第一輸出代表指示激光器發(fā)射光 帶寬的第一參數(shù)，第二輸出代表指示激光器發(fā)射光帶寬的第二參數(shù)；和在一實(shí)際帶寬計(jì)算裝置中，利用把第一和第二輸出用作多變量線(xiàn)性方程的 組成部分計(jì)算實(shí)際帶寬參數(shù)，所述方程使用光學(xué)帶寬監(jiān)視器專(zhuān)用的預(yù)定校正變里。
146. —種從窄帶光源發(fā)射輸入到帶寬計(jì)的光譜帶寬的帶寬計(jì)，其特征在于，所述帶寬計(jì)包括提供第一和第二輸出的光學(xué)帶寬監(jiān)視器，第一輸出代表指示光源發(fā)射光帶寬的第一參數(shù)，第二輸出代表指示光源發(fā)射光帶寬的第二參數(shù)；和利用把第一和第二輸出用作多變量方程的組成部分計(jì)算實(shí)際帶寬參數(shù)的 實(shí)際帶寬計(jì)算裝置，所述方程使用光學(xué)帶寬監(jiān)視器專(zhuān)用的預(yù)定校正變量。
147. 如權(quán)利要求146所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)是激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度(FWXM)。
148. 如權(quán)利要求146所述的裝置，其特征在于，還包括 實(shí)際帶寬參數(shù)是譜上兩點(diǎn)間的寬度，限定了包封激光器發(fā)射光譜全譜某一百分比能量的譜范圍(EX)。
149. 如權(quán)利要求146所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX"'中的至少一個(gè)，其中X-X〃， X、X"'。
150. 如權(quán)利要求147所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二 FWX〃M或EX'〃中的至少一個(gè)，其中X-X〃， X'rf"'。
151. 如權(quán)利要求148所述的裝置，其特征在于，還包括 帶寬監(jiān)視器是一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的至少一個(gè)光學(xué)輸出干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬 度(EX')，第二輸出代表第二FWX〃M或EX"'中的至少一個(gè)，其中Xrf〃， X'^X"'。
152. 如權(quán)利要求149所述的裝置，其特征在于，還包括 用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
153. 如權(quán)利要求150所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
154. 如權(quán)利要求151所述的裝置，其特征在于，還包括用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出預(yù)計(jì)算的校正變量，與校正譜 的第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。
155. 如權(quán)利要求152所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)=K X W一L X W2+M式中Wp代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX"'的第二 觀'J量輸出°
156. 如權(quán)利要求153所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW'+LXW2+M式中Wp代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
157. 如權(quán)利要求154所述的裝置，其特征在于，還包括實(shí)際帶寬參數(shù)值由下式算出估計(jì)的實(shí)際帶寬參數(shù)二KXW,+LXW2+M式中W,二代表FWXM或EX'的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX〃M或EX'〃的第二測(cè)量輸出。
158. —種帶寬計(jì)，其特征在于，包括光學(xué)色散計(jì)，用于按光源能量波長(zhǎng)分布將包含光源輸出的能量分成空間域或時(shí)間域；檢測(cè)器，分別用于記錄能量波長(zhǎng)分布的空間或時(shí)間變化，并根據(jù)記錄的空 間或時(shí)間變化提供輸出信號(hào)；第一計(jì)算裝置，用于分別根據(jù)檢測(cè)器記錄的能量波長(zhǎng)分布的空間或時(shí)間變化，分別計(jì)算能量波長(zhǎng)分布寬度，并按色散儀光學(xué)特性分別把空間或時(shí)間分布 轉(zhuǎn)換成波長(zhǎng)域；和第二計(jì)算裝置，用于通過(guò)把至少一個(gè)寬度用作多變量方程的自變量并把至少一個(gè)取得的寬度用作自變量，利用至少一個(gè)第一計(jì)算裝置算出的能量在波長(zhǎng) 域中波長(zhǎng)分布的寬度，所述方程具有光源、色散儀、檢測(cè)器專(zhuān)用的預(yù)定校正變
159. 如權(quán)利要求158所述的裝置，其特征在于，還包括 第一與第二計(jì)算裝置為同一計(jì)算裝置。
160. 如權(quán)利要求158所述的裝置，其特征在于，還包括至少一個(gè)寬度是選自下述組的至少兩個(gè)寬度，所述組包括光源發(fā)射光譜 全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度(FWXM)與(FWX'M)和譜上限定包封 光源發(fā)射光譜全譜某一百分比能量譜范圍的兩點(diǎn)間的寬度(EX")或(EX'〃)， 其中X^X' ， X'VX"'。
161. 如權(quán)利要求159所述的裝置，其特征在于，還包括至少一個(gè)寬度是選自下述組的至少兩個(gè)寬度，所述組包括光源發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度(FWXM)與(FWX'M)和譜上限定包封 光源發(fā)射光譜全譜某一百分比能量譜范圍的兩點(diǎn)間的寬度(EX〃)或(EX'〃)， 其中X-X' ， X〃-X"'。
162. 如權(quán)利要求158所述的裝置，其特征在于，還包括 評(píng)估多變量方程，計(jì)算描述由選自組FWX、、 EX"的光源輸出的能量譜分布的實(shí)際帶寬參數(shù)。
163. 如權(quán)利要求159所述的裝置，其特征在于，還包括 其中評(píng)估多變量方程，計(jì)算描述由選自組FWX'M、 EX"的光源輸出的能量譜分布的實(shí)際帶寬參數(shù)。
164. 如權(quán)利要求160所述的裝置，其特征在于，還包括-評(píng)估多變量方程，計(jì)算描述由選自組FWX'M、 EX"的光源輸出的能量譜分布的實(shí)際帶寬參數(shù)，其中X'等于X或X'， X"等于X"或X'〃。
165.如權(quán)利要求158所述的裝置，其特征在于，還包括 評(píng)估多變量方程，計(jì)算描述由選自組FWX'M、 EX"的光源輸出的能量譜分布的實(shí)際帶寬參數(shù)，其中X'等于X或X'， X"等于X〃或X'〃。
全文摘要
揭示了一種測(cè)量激光器發(fā)射輸入到帶寬計(jì)的光譜帶寬的帶寬計(jì)量方法與裝置，包括提供第一和第二輸出的光學(xué)帶寬監(jiān)視器，第一輸出代表指示激光器發(fā)射光帶寬的第一參數(shù)，第二輸出代表指示激光器發(fā)射光帶寬的第二參數(shù)；和利用把第一和第二輸出用作多變量方程組成部分以計(jì)算實(shí)際帶寬參數(shù)的實(shí)際帶寬計(jì)算裝置，所述方程用光學(xué)帶寬監(jiān)視器專(zhuān)用的預(yù)定校正變量。該實(shí)際帶寬參數(shù)包括激光器發(fā)射光譜全寬度內(nèi)某一百分比最大值的譜全寬度(FWXM)或譜上包封激光器發(fā)射光譜全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬度(EX)。帶寬監(jiān)視器包括一標(biāo)準(zhǔn)具，第一輸出代表該標(biāo)準(zhǔn)具在FWXM的光學(xué)輸出的至少一個(gè)干擾帶寬度或者譜上包封激光器發(fā)射光全譜某一百分比能量的兩點(diǎn)間的寬度(EX’)，第二輸出代表第二FWX″M或EX″′中的至少一個(gè)，其中X≠X″，X’≠X″′。預(yù)算的校正變量用可信標(biāo)準(zhǔn)從測(cè)量的實(shí)際帶寬參數(shù)值中求出，與校正譜第一和第二輸出的出現(xiàn)相關(guān)。實(shí)際帶寬參數(shù)值從以下式算出估算的實(shí)際帶寬參數(shù)＝K×W1+L×W2+M，其中W1＝代表FWXM或EX’的第一測(cè)量輸出，W2是代表FWX″M或EX″′的第二測(cè)量輸出。該裝置與方法可在激光面印術(shù)光源和/或集成電路石印機(jī)中實(shí)施。
文檔編號(hào)G01B9/02GK101111738SQ200480017992
公開(kāi)日2008年1月23日 申請(qǐng)日期2004年6月14日 優(yōu)先權(quán)日2003年6月26日
發(fā)明者R·J·拉法克 申請(qǐng)人:西默股份有限公司