本發(fā)明涉及一種真空吸盤，尤指使用以真空吸引預(yù)設(shè)物件的吸盤，其于座體下方底座的入氣通道設(shè)有往復(fù)位移的加壓閥片，憑借加壓閥片中央穿孔來(lái)縮小面積以增大真空吸力及減少因未能吸附到預(yù)設(shè)物件時(shí)的真空損失。

背景技術(shù)：

按，在現(xiàn)今產(chǎn)業(yè)的加工或運(yùn)送上越來(lái)越頻繁的運(yùn)用真空吸盤，真空吸盤的技術(shù)主要可分為兩種，一種為接觸式真空吸盤，另一種為非接觸式真空吸盤，普遍而言，較為常見(jiàn)且應(yīng)用層面較廣泛的為接觸式真空吸盤技術(shù)。

以接觸式真空吸盤而言，其原理是直接在吸盤進(jìn)氣口處直接施加負(fù)壓，在吸盤出氣口產(chǎn)生吸力以達(dá)到吸附工件的作用，但吸盤的吸附面必須覆蓋在實(shí)體范圍內(nèi)否則將導(dǎo)致真空流失無(wú)法吸取工件。

再者，吸盤的固定方式一般是以吸盤的吸附面大小為基礎(chǔ)而制作一個(gè)固定框架，其吸盤的數(shù)量有限，且無(wú)法隨機(jī)自動(dòng)調(diào)整，須以人工調(diào)整，徒增操作上的不方便性。

以非接觸式吸盤而言，其吸附工件時(shí)吸附面與工件表面仍有一段微小的距離，所以無(wú)法將工件緊密吸住，當(dāng)吸盤高速移動(dòng)或旋轉(zhuǎn)時(shí)會(huì)因加速度而產(chǎn)生的慣性力將工件甩出，且非接觸式吸盤的吸附面一般以硬性的材料制作，如工程塑膠或鋁合金，又因其與吸附工件存在一段距離，為了加強(qiáng)吸力而無(wú)法設(shè)置一個(gè)較柔軟的緩沖墊，倘若吸盤的吸附面與工件接觸時(shí)容易造成工件的刮傷。

上述現(xiàn)有的兩種真空吸盤，仍存在缺失有待改善，所以如何解決上述問(wèn)題讓接觸式真空吸盤應(yīng)用層面較廣泛，此即為本發(fā)明人與從事此行業(yè)者所亟欲改善的目標(biāo)所在。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

故，發(fā)明人有鑒于上述缺失，乃搜集相關(guān)資料，經(jīng)由多方評(píng)估及考量，并 以從事于此行業(yè)累積的多年經(jīng)驗(yàn)，經(jīng)由不斷試作及修改，始設(shè)計(jì)出此種真空吸盤的發(fā)明專利。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：

一種真空吸盤，其特征在于：包括座體、底座及接觸軟墊，其中：

該座體底部凹設(shè)有氣槽，座體頂面設(shè)有連通到氣槽的復(fù)數(shù)穿槽，再在復(fù)數(shù)穿槽處裝設(shè)有真空吸引裝置；

該底座裝設(shè)覆蓋于座體底部，底座的底面凹設(shè)有復(fù)數(shù)入氣通道，入氣通道內(nèi)設(shè)有加壓閥片，加壓閥片中央再設(shè)有穿孔，憑借加壓閥片于入氣通道內(nèi)上下位移，且真空吸盤使用時(shí)，僅有穿孔連通以增大吸力及避免破真空；

該接觸軟墊對(duì)應(yīng)設(shè)置于底座底面，且接觸軟墊下方具有接觸預(yù)設(shè)物件的吸附底面，吸附底面朝上貫穿設(shè)有對(duì)正連通各入氣通道的復(fù)數(shù)吸引孔道。

所述的真空吸盤，其中：該入氣通道內(nèi)設(shè)有升降空間，升降空間頂部設(shè)有內(nèi)縮的止擋面，止擋面內(nèi)側(cè)再朝上凹設(shè)有連通至氣槽的銜接通道，升降空間內(nèi)設(shè)有外徑小于升降空間內(nèi)徑且大于銜接通道內(nèi)徑且能夠上下往復(fù)位移的加壓閥片，加壓閥片中央穿孔的外徑小于銜接通道內(nèi)徑，真空吸盤未使用時(shí)，加壓閥片抵靠于濾網(wǎng)上表面，真空吸盤使用時(shí)，加壓閥片抵持于止擋面，升降空間與銜接通道之間僅有穿孔連通。

所述的真空吸盤，其中：該底座的各入氣通道頂部設(shè)有內(nèi)縮的階部，且入氣通道內(nèi)設(shè)有外徑大于升降空間內(nèi)徑且抵持于階部的濾網(wǎng)，入氣通道內(nèi)再緊配設(shè)有抵持濾網(wǎng)形成定位的定位環(huán)。

所述的真空吸盤，其中：該座體的真空吸引裝置為外接式的真空產(chǎn)生器或真空馬達(dá)。

所述的真空吸盤，其中：該座體的真空吸引裝置具有位于氣槽內(nèi)的至少一個(gè)U型流道，該U型流道具有連通到氣槽的復(fù)數(shù)通孔，且U型流道二端分別連接于座體的穿槽及預(yù)設(shè)空壓機(jī)。

所述的真空吸盤，其中：該U型流道具有水平排列的至少一個(gè)漸擴(kuò)流道，且漸擴(kuò)流道二端分別設(shè)有對(duì)應(yīng)連接各穿槽的進(jìn)氣流道及排氣流道，再在穿槽裝設(shè)有伸出到座體上方外部的對(duì)接組件，進(jìn)氣流道對(duì)應(yīng)的對(duì)接組件連接于預(yù)設(shè)空壓機(jī)。

所述的真空吸盤，其中：該座體頂面設(shè)有連通到氣槽的清潔槽口，清潔槽口鎖設(shè)有清潔螺絲。

所述的真空吸盤，其中：該座體頂面中央設(shè)有固定部，固定部周圍設(shè)有至少四個(gè)固定孔。

所述的真空吸盤，其中：該接觸軟墊是利用橡膠或硅膠的軟性發(fā)泡材質(zhì)所制成。

本發(fā)明的主要優(yōu)點(diǎn)乃在于該真空吸盤使用時(shí)，加壓閥片便會(huì)受到空氣推動(dòng)而位移，則入氣通道連通處便會(huì)縮小到僅剩加壓閥片中央穿孔的面積，如此讓氣流穿透處的面積縮小，以增大真空吸力，便可讓預(yù)設(shè)物件被真空吸盤穩(wěn)固吸引，高速移動(dòng)時(shí)預(yù)設(shè)物件也不會(huì)甩落。

本發(fā)明的次要優(yōu)點(diǎn)乃在于，利用加壓閥片抵持于升降空間與銜接通道之間的止擋面，讓升降空間與銜接通道之間的連通處縮小到僅剩加壓閥片的穿孔，便可減少進(jìn)入氣槽的空氣，當(dāng)真空吸盤吸引具多個(gè)鏤空處或呈不規(guī)則狀的預(yù)設(shè)物件時(shí)，真空吸引裝置排除空氣的速度為大于空氣經(jīng)過(guò)穿孔進(jìn)入氣槽的速度，所以氣槽的真空度就可減少損失，進(jìn)而可讓真空吸盤增大使用范疇，及提升真空吸引的穩(wěn)定性。

本發(fā)明的另一優(yōu)點(diǎn)乃在于該底座底面設(shè)置接觸軟墊，接觸軟墊為利用橡膠或硅膠等軟性發(fā)泡材質(zhì)所制成，作為底座及預(yù)設(shè)物件之間的隔離，以防止兩者之間因摩擦而造成刮傷，且其各吸引孔道之間均不連通，使得各吸引孔道形成獨(dú)立吸盤的效果，又可避免產(chǎn)生破真空的情況，進(jìn)而可提升加工或運(yùn)輸?shù)姆€(wěn)定性。

本發(fā)明的又一優(yōu)點(diǎn)乃在于該，底座的入氣通道內(nèi)裝設(shè)有濾網(wǎng)來(lái)濾除微小異物，以避免異物進(jìn)入升降空間、銜接通道或氣槽產(chǎn)生阻塞，且座體頂面具有清潔槽口及其鎖固的清潔螺絲，可拆除清潔螺絲并由清潔槽口施以正壓吹氣，便可將阻塞的異物吹出真空吸盤，進(jìn)而達(dá)到提升使用的穩(wěn)定性、減少維修次數(shù)及快速排除阻塞的效果。

本發(fā)明的再一優(yōu)點(diǎn)乃在于該座體頂面具有固定部及其周圍設(shè)有至少四個(gè)固定孔，讓預(yù)設(shè)載具可對(duì)正真空吸盤的中心并形成穩(wěn)固定位，進(jìn)而達(dá)到精準(zhǔn)定位的目的。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明的立體外觀圖；

圖2是本發(fā)明的另一立體外觀圖；

圖3是本發(fā)明未使用時(shí)的側(cè)視剖面圖；

圖4是本發(fā)明圖3的A部分的局部放大圖；

圖5是本發(fā)明使用時(shí)的側(cè)視剖面圖；

圖6是本發(fā)明圖5的B部分的局部放大圖；

圖7是本發(fā)明的另一剖面圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明：1-座體；10-氣槽；11-穿槽；12-真空吸引裝置；121-流道；1210-通孔；1211-漸擴(kuò)流道；1212-進(jìn)氣流道；1213-排氣流道；122-對(duì)接組件；13-清潔槽口；131-清潔螺絲；14-固定部；15-固定孔；2-底座；21-入氣通道；211-階部；212-升降空間；213-止擋面；214-銜接通道；22-濾網(wǎng)；23-加壓閥片；231-穿孔；24-定位環(huán)；25-固定元件；26-密封墊圈；3-接觸軟墊；31-吸附底面；32-吸引孔道；4-預(yù)設(shè)物件。

具體實(shí)施方式

為達(dá)成上述目的及功效，本發(fā)明所采用的技術(shù)手段及其構(gòu)造，茲繪圖就本發(fā)明的較佳實(shí)施例詳加說(shuō)明其特征與功能如下，俾利完全了解。

請(qǐng)參閱圖1、圖2、圖3、圖4、圖7所示，由圖中可以清楚看出，其包括座體1、底座2及接觸軟墊3，其中：

該座體1底部凹設(shè)有氣槽10，座體1頂面設(shè)有連通到氣槽10的復(fù)數(shù)穿槽11，再在復(fù)數(shù)穿槽11處裝設(shè)有真空吸引裝置12，且座體1頂面又設(shè)有連通到氣槽10的清潔槽口13，并于清潔槽口13鎖設(shè)有清潔螺絲131，座體1頂面中央再設(shè)有固定部14，固定部14周圍設(shè)有至少四個(gè)固定孔15。

該底座2裝設(shè)覆蓋于座體1底部，底座2的底面凹設(shè)有連通氣槽10的復(fù)數(shù)入氣通道21，各入氣通道21內(nèi)頂部設(shè)有內(nèi)縮的階部211，再以階部211內(nèi)側(cè)朝上凹設(shè)有升降空間212，升降空間212頂部設(shè)有內(nèi)縮的止擋面213，止擋面213內(nèi)側(cè)再朝上凹設(shè)有連通至氣槽10的銜接通道214，且入氣通道21內(nèi)設(shè)有外徑大于升降空間212內(nèi)徑且抵持于階部211的濾網(wǎng)22，升降空間212內(nèi)設(shè)有外徑小于升降空間212內(nèi)徑且大于銜接通道214內(nèi)徑且可上下往復(fù)位移的加壓閥片23，加壓閥片23中央再設(shè)有外徑小于銜接通道214內(nèi)徑的穿孔231，入氣通道21內(nèi)再緊配設(shè)有抵持濾網(wǎng)22形成定位的定位環(huán)24。

該接觸軟墊3對(duì)應(yīng)設(shè)置于底座2底面，且接觸軟墊3下方具有接觸預(yù)設(shè)物件4的吸附底面31，吸附底面31則朝上貫穿設(shè)有對(duì)正連通各入氣通道21的復(fù) 數(shù)吸引孔道32。

上述的底座2對(duì)正座體1氣槽10以外處設(shè)有復(fù)數(shù)固定元件25，如此將底座2以鎖固到座體1，且底座2于復(fù)數(shù)入氣通道21外側(cè)接觸座體1的壁面處設(shè)有密封墊圈26，利用座體1或底座2凹設(shè)有凹槽容納并擠壓密封墊圈26形成密閉狀態(tài)，也可于座體1與真空吸引裝置12連接處設(shè)置密封墊圈26，然而有關(guān)固定及密封的技術(shù)是現(xiàn)有的技術(shù)，且該細(xì)部構(gòu)成非本案發(fā)明要點(diǎn)，茲不再贅述。

請(qǐng)參閱圖1、圖2、圖3、圖4、圖5、圖6、圖7所示，由圖中可以清楚看出，該真空吸盤未使用(真空吸引裝置12未啟動(dòng))時(shí)，加壓閥片23為下落抵靠于濾網(wǎng)22上表面，此時(shí)空氣可經(jīng)由加壓閥片23外周緣與升降空間212內(nèi)壁面之間之間隙連通流動(dòng)，該真空吸盤使用時(shí)，為先將接觸軟墊3抵持于預(yù)設(shè)物件4的上表面，再啟動(dòng)真空吸引裝置12將氣槽10內(nèi)的空氣排到外部，此時(shí)，入氣通道21、升降空間212及銜接通道214的空氣為朝氣槽10移動(dòng)，則加壓閥片23便會(huì)受到空氣的推動(dòng)，由抵靠于濾網(wǎng)22上表面朝上位移至抵持于止擋面213，則升降空間212與銜接通道214之間的連通處便會(huì)縮小到僅剩加壓閥片23中央穿孔231的面積，此時(shí)，座體1的氣槽10內(nèi)部空氣排出后為呈真空狀態(tài)，而僅有加壓閥片23的穿孔231為穿透處，如此讓氣流穿透處的面積縮小，以增大真空吸力，便可讓預(yù)設(shè)物件4被真空吸盤穩(wěn)固吸引，高速移動(dòng)時(shí)預(yù)設(shè)物件4也不會(huì)甩落。

由于底座2的入氣通道21及接觸軟墊3的吸引孔道32為穿孔型式，而非一般橡膠吸盤的大面積接觸型式，所以在固定的底座2面積下就可以增加吸引處數(shù)量，如圖示實(shí)施立為在底座2直徑141mm的圓形面上設(shè)置156個(gè)入氣通道21，相較于一般接觸式真空吸盤的4、8或16個(gè)吸盤，若要裝設(shè)相同于本發(fā)明數(shù)量的吸盤，其面積對(duì)比于本發(fā)明將需增加數(shù)十倍，是以，本發(fā)明在固定框架的面積下增加吸盤數(shù)量以提高吸附實(shí)體面積的機(jī)率，因此不受預(yù)設(shè)物件4的部分鏤空而影響吸附力，上述實(shí)施例的面積大小及孔道數(shù)量?jī)H為舉例說(shuō)明，非因此即局限本發(fā)明的專利范圍。

再者，當(dāng)真空吸盤使用于吸引具多個(gè)鏤空處或呈不規(guī)則狀的預(yù)設(shè)物件4時(shí)(現(xiàn)今有很多精密物件為了縮小體積或與其他物件共同組合成一個(gè)產(chǎn)品，往往在精密物件本身會(huì)有大面積被挖空)，接觸軟墊3的局部復(fù)數(shù)吸引孔道32對(duì)正于鏤空處，此時(shí)吸引孔道32無(wú)法形成密閉，所以真空吸引裝置12啟動(dòng)后，外部空氣會(huì)依序經(jīng)過(guò)吸引孔道32、入氣通道21、升降空間212及銜接通道214后 進(jìn)入氣槽10，但因?yàn)樯悼臻g212與銜接通道214之間的連通處縮小到僅剩加壓閥片23的穿孔231，便可減少進(jìn)入氣槽10的空氣，且真空吸引裝置12排除空氣的速度為大于經(jīng)過(guò)復(fù)數(shù)加壓閥片23的穿孔231進(jìn)入氣槽10的速度，所以氣槽10的真空度就可減少損失，進(jìn)而可讓真空吸盤增大使用范疇，及提升真空吸引的穩(wěn)定性。

該接觸軟墊3為利用橡膠或硅膠等軟性發(fā)泡材質(zhì)所制成，其各吸引孔道32之間均不連通，所以外部空氣僅能通過(guò)吸引孔道32進(jìn)入座體1的氣槽10，不僅讓各吸引孔道32形成獨(dú)立吸盤的效果，又可減少因未吸附到實(shí)體物件時(shí)的真空流失的情況；另，因?yàn)槭抢媒佑|軟墊3作為底座2及預(yù)設(shè)物件4之間的隔離，接觸軟墊3底部的吸附底面31接觸預(yù)設(shè)物件4表面，由于接觸軟墊3為軟性發(fā)泡材質(zhì)，便不會(huì)刮傷預(yù)設(shè)物件4表面，進(jìn)而可讓加工或運(yùn)輸?shù)姆€(wěn)定性提升；此外，因?yàn)榻佑|軟墊3為軟性發(fā)泡材質(zhì)，且真空吸盤所產(chǎn)生的吸力大，所以接觸軟墊3接觸預(yù)設(shè)物件4并進(jìn)行真空吸引時(shí)，其接觸軟墊3可彈性變形，所以可讓接觸軟墊3確實(shí)的接觸預(yù)設(shè)物件4表面，即便預(yù)設(shè)物件4表面有不平整處，真空吸盤也可確實(shí)的吸引住預(yù)設(shè)物件4，且真空吸盤不須調(diào)整位置就可吸引住預(yù)設(shè)物件4。

該底座2的入氣通道21內(nèi)裝設(shè)有濾網(wǎng)22，通過(guò)濾網(wǎng)22可濾除微小異物，以避免異物進(jìn)入升降空間212、銜接通道214或氣槽10內(nèi)產(chǎn)生阻塞的問(wèn)題，進(jìn)而可提升使用的穩(wěn)定性并減少維修；此外，座體1頂面具有清潔槽口13及其鎖固的清潔螺絲131，當(dāng)產(chǎn)生阻塞時(shí)，則可拆除清潔螺絲131，并由清潔槽口13朝氣槽10內(nèi)施以正壓吹氣，便可將阻塞的異物吹出真空吸盤，由于排除動(dòng)作簡(jiǎn)單、方便，就可達(dá)到快速排除問(wèn)題的目的。

該座體1頂面具有固定部14及其周圍設(shè)有至少四個(gè)固定孔15，預(yù)設(shè)載具(圖中未示出)為與固定部14組裝，再鎖固于至少四個(gè)固定孔15形成穩(wěn)固定位，讓預(yù)設(shè)載具的中心可與真空吸盤的中心對(duì)正，進(jìn)而達(dá)到精準(zhǔn)定位的功能。

請(qǐng)參閱圖1、圖2、圖3、圖4、圖5、圖6、圖7所示，由圖中可以清楚看出，該座體1所裝設(shè)真空吸引裝置12的實(shí)施例可為外接式的真空產(chǎn)生器或真空馬達(dá)，通過(guò)真空產(chǎn)生器或真空馬達(dá)直接將氣槽10內(nèi)的空氣抽出，便可具有真空吸引的效果，但由于真空產(chǎn)生器及真空馬達(dá)需額外設(shè)置且成本高昂，故，真空吸引裝置12的另一實(shí)施例則具有位于座體1氣槽10內(nèi)的至少一個(gè)U型流道121，該U型流道121具有連通到氣槽10的復(fù)數(shù)通孔1210，且U型流道121二端分 別連接于座體1的穿槽11及一般空壓機(jī)(圖中未示出)，通過(guò)空壓機(jī)將空氣打入U(xiǎn)型流道121，則利用白努利定理讓氣槽10中流速慢壓力大的空氣經(jīng)由復(fù)數(shù)通孔1210進(jìn)入U(xiǎn)型流道121，便可讓氣槽10中的空氣排出而形成真空狀態(tài)，如此讓廠商運(yùn)用工廠內(nèi)普遍具有的空壓機(jī)即可使用真空吸盤，廠商便不須另外購(gòu)買真空產(chǎn)生器或真空馬達(dá)，進(jìn)而可節(jié)省成本。

再者，U型流道121具有水平排列的至少一個(gè)漸擴(kuò)流道1211，且漸擴(kuò)流道1211二端分別設(shè)有對(duì)應(yīng)連接各穿槽11的進(jìn)氣流道1212及排氣流道1213，再在穿槽11裝設(shè)有伸出到座體1上方外部的對(duì)接組件122，進(jìn)氣流道1212對(duì)應(yīng)的對(duì)接組件122連接于空壓機(jī)，讓空壓機(jī)的空氣先打入進(jìn)氣流道1212，再經(jīng)由漸擴(kuò)流道1211及排氣流道1213后排出到外部，由于漸擴(kuò)流道1211具有減速增壓的效果，便可將空氣確實(shí)的推動(dòng)排出到外部。

故，本發(fā)明為主要針對(duì)真空吸盤，而可于座體底部氣槽于復(fù)數(shù)穿槽處裝設(shè)真空吸引裝置，底座于底面凹設(shè)復(fù)數(shù)入氣通道，入氣通道內(nèi)設(shè)有中央具穿孔的加壓閥片，使用時(shí)升降空間與銜接通道之間僅有穿孔連通以縮小面積來(lái)增大真空吸力及減少進(jìn)入氣槽的空氣，且氣槽也不會(huì)破真空，以穩(wěn)固吸引、高速移動(dòng)時(shí)不會(huì)甩落及增大使用范疇為主要保護(hù)重點(diǎn)。

以上說(shuō)明對(duì)本發(fā)明而言只是說(shuō)明性的，而非限制性的，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員理解，在不脫離權(quán)利要求所限定的精神和范圍的情況下，可作出許多修改、變化或等效，但都將落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。