公差環(huán)、硬盤裝置及硬盤裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種能夠抑制滑架相對(duì)于樞軸的旋轉(zhuǎn)且提高組裝精度的公差環(huán)、硬盤裝置及硬盤裝置的制造方法。公差環(huán)(8)使用板狀的構(gòu)件而形成，呈沿著規(guī)定方向大致環(huán)繞一周的環(huán)狀，且設(shè)有朝向徑向突出的多個(gè)凸部(81a)，其中，具有從與周向正交的方向的外緣側(cè)端部中的至少一方的外緣側(cè)端部沿著與周向正交的方向切開而成的切口部(81b)，由此在向公差環(huán)(8)的內(nèi)部插入樞軸而樞軸靠近凸部(81a)時(shí)，即便在公差環(huán)(8)的樞軸插入側(cè)的端部的直徑發(fā)生了擴(kuò)徑的情況下，也能夠防止插入側(cè)的相反側(cè)的端部追隨該擴(kuò)徑而浮起，從而抑制滑架相對(duì)于樞軸的旋轉(zhuǎn)。
【專利說明】公差環(huán)、硬盤裝置及硬盤裝置的制造方法【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種在硬盤裝置等中使用的公差環(huán)、硬盤裝置及硬盤裝置的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]一直以來，在進(jìn)行計(jì)算機(jī)等的信息處理的設(shè)備中使用有硬盤裝置。該硬盤裝置直至近年來不僅僅作為計(jì)算機(jī)的外部存儲(chǔ)裝置，也搭載于電視、攝像機(jī)等家電產(chǎn)品、汽車用的電子儀器類。
[0003]圖15所示的現(xiàn)有的硬盤裝置200在外殼主體201內(nèi)收納有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)具有:驅(qū)動(dòng)作為記錄媒介的硬盤202旋轉(zhuǎn)的主軸203 (該主軸借助未圖示的馬達(dá)而旋轉(zhuǎn))；支承進(jìn)行相對(duì)于硬盤202的信息記錄及信息讀出的磁頭204且在硬盤202的面上轉(zhuǎn)動(dòng)的滑架205 ;使滑架205精密地轉(zhuǎn)動(dòng)而控制磁頭204的掃描的VCM(Voice Coil Motor) 206 ;固定于外殼主體201且將外殼主體201與滑架205連結(jié)起來的樞軸207。需要說明的是，樞軸207呈例如大致柱狀，且具有軸承的結(jié)構(gòu)。
[0004]滑架205以樞軸207為中心軸而在硬盤202的面上轉(zhuǎn)動(dòng)。此時(shí)，滑架205與樞軸207之間的固定使用有公差環(huán)。通過將滑架205固定于樞軸207，防止因VCM206而導(dǎo)致的滑架205的轉(zhuǎn)動(dòng)所施加的動(dòng)力傳遞至外殼主體201。
[0005]公差環(huán)呈將平板狀的構(gòu)件沿著規(guī)定方向大致環(huán)繞一周的環(huán)狀。在將該公差環(huán)插入滑架205側(cè)的開口之后，向公差環(huán)的內(nèi)部壓入樞軸207。作為上述那樣的公差環(huán)，公開有具有向外周側(cè)突出的凸形狀的接觸部的公差環(huán)(例如，參照專利文獻(xiàn)I~4)。在專利文獻(xiàn)I~4所示的公差環(huán)中，接觸部壓接于滑架205或樞軸207中的任一方的側(cè)面并將滑架205與樞軸207之間固定。
[0006]在先技術(shù)文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)
[0008]專利文獻(xiàn)1:日本特開平5-205413號(hào)公報(bào)
[0009]專利文獻(xiàn)2:日本特表2003-522912號(hào)公報(bào)
[0010]專利文獻(xiàn)3:日本特開2002-130310號(hào)公報(bào)
[0011]專利文獻(xiàn)4:日本特開2007-305268號(hào)公報(bào)
[0012]發(fā)明概要
[0013]發(fā)明要解決的課題
[0014]專利文獻(xiàn)I~4所示那樣的現(xiàn)有的公差環(huán)，例如在圖16、17所示那樣的具有凸部208a(接觸部)的公差環(huán)208中，當(dāng)向嵌插于滑架205的公差環(huán)208的內(nèi)部插入樞軸207時(shí)，當(dāng)樞軸207靠近凸部208a的形成位置時(shí)，公差環(huán)208的直徑沿著樞軸207的直徑而被擴(kuò)徑。
[0015]此時(shí)，公差環(huán)208將樞軸207插入側(cè)的端部的直徑擴(kuò)徑，且在其反作用下將另一方的端部的直徑縮徑。當(dāng)上述公差環(huán)208的兩端中的直徑發(fā)生變化時(shí)，如圖16所示，插入側(cè)的相反側(cè)的端部浮起。當(dāng)從該狀態(tài)(參照?qǐng)D17)進(jìn)一步插入樞軸207而使插入結(jié)束時(shí)，如圖18所示，滑架205的軸NI相對(duì)于樞軸207的中心軸N2旋轉(zhuǎn)而成為傾斜的狀態(tài)，從而存在對(duì)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的組裝精度造成影響這樣的問題。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0016]本發(fā)明是鑒于上述情況而完成的，其目的在于提供一種能夠抑制滑架相對(duì)于樞軸的旋轉(zhuǎn)且提高組裝精度的公差環(huán)、硬盤裝置及硬盤裝置的制造方法。
[0017]解決方案
[0018]為了解決上述課題且達(dá)成目的，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)使用板狀的構(gòu)件而形成，呈沿著規(guī)定方向大致環(huán)繞一周的環(huán)狀，且設(shè)有朝向徑向突出的多個(gè)凸部，其特征在于，所述公差環(huán)具有從與周向正交的方向的外緣側(cè)端部中的至少一方的外緣側(cè)端部沿著與所述周向正交的方向切口而成的切口部。
[0019]另外，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)在上述的發(fā)明的基礎(chǔ)上，其特征在于，所述切口部設(shè)于所述多個(gè)凸部之間，所述周向的長(zhǎng)度為所述多個(gè)凸部之間的距離以下。
[0020]另外，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)在上述的發(fā)明的基礎(chǔ)上，其特征在于，所述切口部在與所述周向正交的方向上的長(zhǎng)度為從與所述周向正交的方向的外緣側(cè)端部到所述凸部的所述外緣側(cè)端部側(cè)的端部為止的距離以上。
[0021]另外，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)在上述的發(fā)明的基礎(chǔ)上，其特征在于，所述切口部設(shè)于所述周向的邊的等分位置。
[0022]另外，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)在上述的發(fā)明的基礎(chǔ)上，其特征在于，所述公差環(huán)在所述外緣側(cè)端部具有一個(gè)或兩個(gè)所述切口部。
[0023]另外，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)在上述的發(fā)明的基礎(chǔ)上，其特征在于，所述切口部具有:從基端延伸的延伸部；設(shè)于所述延伸部的、與所述基端側(cè)不同側(cè)的端部側(cè)，且具有規(guī)定的直徑的呈弧狀的前端部。
[0024]另外，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)在上述的發(fā)明的基礎(chǔ)上，其特征在于，所述前端部的直徑為所述延伸部中的周向的寬度以上的值。
[0025]另外，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)在上述的發(fā)明的基礎(chǔ)上，其特征在于，周向上的端部的曲率半徑比所述周向上的所述端部以外的部分的曲率半徑小。
[0026]另外，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)在上述的發(fā)明的基礎(chǔ)上，其特征在于，曲率半徑隨著從所述端部以外的部分朝向所述端部的方向連續(xù)變小。
[0027]另外，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)在上述的發(fā)明的基礎(chǔ)上，其特征在于，所述多個(gè)凸部沿著所述周向配置，沿著所述周向配置的所述凸部之中的、配置為一列的所述凸部的個(gè)數(shù)為3的倍數(shù)。
[0028]另外，本發(fā)明所涉及的硬盤裝置的特征在于，所述硬盤裝置具備:作為記錄媒介的硬盤；相對(duì)于所述硬盤進(jìn)行信息記錄及信息讀出的磁頭部；支承所述磁頭部且在所述硬盤的面上轉(zhuǎn)動(dòng)的滑架；使用板狀的構(gòu)件而形成，呈沿著規(guī)定方向大致環(huán)繞一周的環(huán)狀，且設(shè)有朝向徑向突出的多個(gè)凸部，被收容于在所述滑架形成的中空空間的公差環(huán)；被插入于所述公差環(huán)的所述環(huán)狀的內(nèi)部的樞軸，所述公差環(huán)具有從與周向正交的方向的外緣側(cè)端部中的至少一方的外緣側(cè)端部沿著與所述周向正交的方向切口而成的切口部。[0029]另外，本發(fā)明所涉及的硬盤裝置的制造方法的特征在于，所述硬盤裝置的制造方法包括:收容步驟，在該收容步驟中，在形成于滑架的中空空間收容公差環(huán)，該滑架對(duì)相對(duì)于作為記錄媒介的硬盤進(jìn)行信息記錄及信息讀出的磁頭部進(jìn)行支承且在形成于在所述硬盤的面上轉(zhuǎn)動(dòng)，該公差環(huán)使用板狀的構(gòu)件形成，呈沿著規(guī)定方向大致環(huán)繞一周的環(huán)狀，且設(shè)有朝向徑向突出的多個(gè)凸部；插入步驟，在該插入步驟中，向所述公差環(huán)的所述環(huán)狀的內(nèi)部插入樞軸，所述公差環(huán)具有從與周向正交的方向的外緣側(cè)端部中的至少一方的外緣側(cè)端部沿著與所述周向正交的方向切口而成的切口部。
[0030]發(fā)明效果
[0031]根據(jù)本發(fā)明，由于設(shè)有沿著與公差環(huán)的周向及板厚方向正交的方向切口的切口部，在向公差環(huán)的內(nèi)部插入樞軸、樞軸靠近凸部時(shí)，即便公差環(huán)的樞軸插入側(cè)的端部的直徑發(fā)生了擴(kuò)徑的情況下，也能夠防止追隨該擴(kuò)徑而導(dǎo)致插入側(cè)的相反側(cè)的端部浮起，從而起到能夠抑制滑架相對(duì)于樞軸的旋轉(zhuǎn)且提高組裝精度這樣的效果。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0032]圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的硬盤裝置的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0033]圖2是表示圖1所示的硬盤裝置的主要部分的結(jié)構(gòu)的局部剖視圖。
[0034]圖3是表示圖1所示的硬盤裝置的主要部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0035]圖4是表示圖1所示的硬盤裝置的主要部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0036]圖5是表示圖1所示的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0037]圖6是表示圖1所示的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
[0038]圖7是示意性地表示圖1所示的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的展開圖。
[0039]圖8是表示圖1所示的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0040]圖9是示意性地表示本發(fā)明的實(shí)施方式的變形例I所涉及的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的展開圖。
[0041]圖10是示意性地表示本發(fā)明的實(shí)施方式的變形例2所涉及的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的展開圖。
[0042]圖11是示意性地表示本發(fā)明的實(shí)施方式的變形例3所涉及的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的展開圖。
[0043]圖12是示意性地表示本發(fā)明的實(shí)施方式的變形例4所涉及的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的展開圖。
[0044]圖13是示意性地表示本發(fā)明的實(shí)施方式的變形例5所涉及的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的展開圖。
[0045]圖14是表示本發(fā)明的實(shí)施例所涉及的公差環(huán)的切口深度與傾斜角度之間的關(guān)系的圖表。
[0046]圖15是表示現(xiàn)有的硬盤裝置的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0047]圖16是表示現(xiàn)有的硬盤裝置的公差環(huán)的側(cè)視圖。
[0048]圖17是表示現(xiàn)有的硬盤裝置的主要部分的結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0049]圖18是表示現(xiàn)有的硬盤裝置的主要部分的結(jié)構(gòu)的示意圖?！揪唧w實(shí)施方式】
[0050]以下，參照附圖詳細(xì)說明用于實(shí)施本發(fā)明的方式。需要說明的是，以下的實(shí)施方式并非用于限定本發(fā)明的實(shí)施方式。另外，在以下的說明中參照的各圖只不過在能夠理解本發(fā)明的內(nèi)容的程度內(nèi)簡(jiǎn)要地示出形狀、大小、及位置關(guān)系。即，本發(fā)明并不僅僅局限于在各圖中例示出的形狀、大小、及位置關(guān)系。需要說明的是，在以下的說明中，作為公差環(huán)的例子而說明硬盤裝置。
[0051]圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的硬盤裝置的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的立體圖。圖1所示的硬盤裝置I在外殼主體2內(nèi)收納有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)具有:驅(qū)動(dòng)作為記錄媒介的硬盤3旋轉(zhuǎn)的主軸4 ;支承相對(duì)于硬盤3進(jìn)行信息記錄及信息讀出的磁頭部50且在硬盤3的面上轉(zhuǎn)動(dòng)的滑架5 ;使滑架5精密地轉(zhuǎn)動(dòng)而控制磁頭部50的掃描的VCM6 ;固定于外殼主體2且將外殼主體2與滑架5連結(jié)起來的柱狀的樞軸7。需要說明的是，樞軸7呈例如大致柱狀且具有軸承的結(jié)構(gòu)。
[0052]圖2是表示圖1所示的硬盤裝置I的主要部分的結(jié)構(gòu)的局部剖視圖。圖3、4是表示圖1所示的硬盤裝置I的主要部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。滑架5具有:沿著硬盤3的面上延伸且在前端保持磁頭部50的臂51 ;與樞軸7連結(jié)且剖面具有比樞軸7的剖面的直徑大一些的直徑的柱狀的中空空間的連結(jié)部52。如圖2所示，磁頭部50具有:借助因硬盤3的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的空氣流而相對(duì)于硬盤3的面浮起的懸架50a ;設(shè)于懸架50a的端部即與臂51相連一側(cè)的不同側(cè)的端部且進(jìn)行信息記錄及信息讀出的磁頭50b。需要說明的是，在硬盤裝置I具有多個(gè)硬盤3的情況下，滑架5與硬盤3的數(shù)量對(duì)應(yīng)地具有多個(gè)磁頭部50。
[0053]VCM6具有與臂51側(cè)不同的端部側(cè)連結(jié)的線圈60和夾著線圈60的兩個(gè)磁鐵61。VCM6以因在線圈60中流通的電流和磁場(chǎng)而產(chǎn)生的力驅(qū)動(dòng)滑架5。由此，滑架5借助來自VCM6的動(dòng)力而以樞軸7的中心為中心軸在硬盤3的面上轉(zhuǎn)動(dòng)，從而使磁頭部50在硬盤3的面上轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0054]此時(shí)，滑架5與樞軸7之間的固定使用有公差環(huán)8。首先，公差環(huán)8收容于滑架5的連結(jié)部52的中空空間(參照?qǐng)D3、4，收容步驟)。然后，通過向公差環(huán)8的內(nèi)部壓入樞軸7 (參照?qǐng)D4，插入步驟)，公差環(huán)8組裝于滑架5與樞軸7之間，并將滑架5與樞軸7之間固定。此時(shí)，滑架5繞作為軸承的樞軸7的長(zhǎng)邊方向的中心軸轉(zhuǎn)動(dòng)自如地固定?；?固定于樞軸7，由此能夠防止因VCM6而導(dǎo)致的滑架5的轉(zhuǎn)動(dòng)所施加的動(dòng)力傳遞至外殼主體2。
[0055]圖5是表示公差環(huán)8的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖6是表示公差環(huán)8的結(jié)構(gòu)的俯視圖，且是從上方觀察圖5所示的公差環(huán)8的圖。如圖5、6所示，公差環(huán)8使用板狀的不銹鋼而形成，周向呈大致環(huán)狀，且具有多個(gè)凸部81a、和從各緣端沿著與周向(及板厚方向)正交的方向上分別切口而成的切口部81b。凸部81a在公差環(huán)8的外表面處沿著徑向呈大致矩形形狀地突出。另外，各凸部81a沿著公差環(huán)8的周向而設(shè)為兩列。公差環(huán)8在插入到滑架5側(cè)的開口之后，向公差環(huán)8的內(nèi)部壓入樞軸7。此時(shí)，凸部81a壓接于滑架5的連結(jié)部52的內(nèi)部壁面，并將滑架5與樞軸7之間固定。需要說明的是，公差環(huán)8的周向的長(zhǎng)度優(yōu)選為與連結(jié)部52的開口的外周的長(zhǎng)度相等。另外，凸部81a的突出方向也可以沿著徑向而向內(nèi)周側(cè)突出。
[0056]圖7是示意性地表示圖1所示的硬盤裝置I的公差環(huán)8的結(jié)構(gòu)的展開圖，且是將公差環(huán)8向周向拉長(zhǎng)的圖。圖8是表示圖1所示的硬盤裝置I的公差環(huán)8的結(jié)構(gòu)的示意圖。切口部81b在與公差環(huán)8的周向正交的方向的緣端部的兩端分別各設(shè)有兩個(gè)，從端部沿著與周向及板厚方向正交的方向切口而成。另外，切口部8Ib設(shè)于將周向的邊三等分的位置。切口部81b具有:從基端(與周向及板厚方向正交的方向的端部)延伸的延伸部811 ;設(shè)于延伸部811的基端側(cè)的不同側(cè)的端部側(cè)且呈具有規(guī)定的直徑(曲率半徑)的弧狀的前端部812。
[0057]如圖8所示，切口部81b的周向的距離dl為凸部81a間的距離d2以下，優(yōu)選滿足dl = d2或dl < d2的關(guān)系。另外，從公差環(huán)8的與周向(及板厚方向)正交的方向的端部到切口部81b的前端為止的距離d3為從公差環(huán)8的與周向及板厚方向正交的方向的緣端部S(外緣側(cè)端部)到凸部81a的緣端部S側(cè)的端部為止的距離d4以上。
[0058]通過滿足上述的距離dl?d4的關(guān)系，當(dāng)向公差環(huán)8的內(nèi)部插入樞軸7且樞軸7靠近凸部81a時(shí)，即便在公差環(huán)8的樞軸7插入側(cè)的端部的直徑發(fā)生了擴(kuò)徑的情況下，也能夠防止追隨該擴(kuò)徑而使插入側(cè)的相反側(cè)的端部浮起。由此，能夠防止滑架5相對(duì)于樞軸7的中心軸旋轉(zhuǎn)而以傾斜的狀態(tài)配置，從而正確地組裝驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
[0059]另外，前端部812呈具有規(guī)定的直徑的弧狀。該直徑(曲率的直徑)與延伸部811中的周向的寬度(距離dl)同等。公差環(huán)8通過使切口部81b的前端部812呈R形狀，當(dāng)向公差環(huán)8的內(nèi)部插入樞軸7且樞軸7靠近凸部81a時(shí)，能夠進(jìn)一步柔軟地進(jìn)行端部的擴(kuò)徑。由此，能夠防止因樞軸7的壓入導(dǎo)致的向端部的應(yīng)力集中而造成公差環(huán)8被破壞的情況。另外，在切口的長(zhǎng)度(距離d3)較長(zhǎng)的情況、數(shù)量較多的情況下，組裝、清洗時(shí)等變得容易破壞，因此在獲得效果的范圍內(nèi)，切口部?jī)?yōu)選長(zhǎng)度短且數(shù)量少。
[0060]另外，公差環(huán)8如圖6所示的側(cè)視圖那樣，周向上的端部82、83的曲率半徑與周向上的端部82、83以外的部分的曲率半徑的值不同。具體地說，周向上的端部82、83的曲率半徑與滑架5的連結(jié)部52的曲率半徑相等。另外，周向上的端部82、83以外的部分的曲率半徑比滑架5的連結(jié)部52的曲率半徑大。在圖6中，虛線Ptl表示周向上的端部82、83以外的部分的曲率半徑的圓形狀。由此，當(dāng)公差環(huán)8插入于滑架5的連結(jié)部52時(shí)，在開口的端部82、83關(guān)閉的情況下，沿著周向的形狀能夠呈與連結(jié)部52的曲率半徑大致相等的曲率半徑的圓形。在此，公差環(huán)8以曲率半徑隨著從端部82、83以外的部分朝向端部82、83的方向連續(xù)變小的方式彎曲。
[0061]如圖7所示，在本實(shí)施方式中，說明凸部81a在一列配置有15個(gè)的情況。公差環(huán)8的凸部81a沿著主面的長(zhǎng)邊方向而排列成兩列。在此，凸部81a的鄰接的凸部81a間的各距離優(yōu)選為等距離。配置為一列的凸部81a的數(shù)量配置有成為3的倍數(shù)的個(gè)數(shù)。通過將凸部81a配置有3的倍數(shù)個(gè)，相對(duì)于抵接側(cè)面而以120°對(duì)稱地接觸，能夠使施加于連結(jié)部52的側(cè)面的負(fù)載大致均勻，從而高精度地維持軸承的動(dòng)作效率。
[0062]公差環(huán)8作為制成方法的一例而舉出以下的方法。在該制成方法中，使用對(duì)呈帶狀地延伸的母材而依次實(shí)施上述工序的順序沖壓。首先，通過沖壓對(duì)呈平板狀地延伸的母材進(jìn)行塑形處理，公差環(huán)8的外形(外緣)得以塑造，從而制成呈公差環(huán)8的外形的基材。需要說明的是，此時(shí)，為了防止基材從母材脫離，利用流道來維持基材與母材之間的連結(jié)狀態(tài)。接下來，對(duì)成形后的基材而進(jìn)行凸部81a及切口部81b的成形處理。凸部81a及切口部81b通過沖壓而分別成形于上述的位置。
[0063]接著，對(duì)成形有凸部81a及切口部81b的基材而進(jìn)行彎曲處理。在該彎曲工序中，從兩端側(cè)沿著基材的主面的長(zhǎng)邊方向而以凸部81a成為外上表面?zhèn)鹊姆绞诫A段性地使基材彎曲，將周向上的端部82、83的曲率半徑成形得比周向上的端部82、83以外的部分的曲率半徑小。此時(shí)，基材優(yōu)選以曲率半徑隨著從端部82、83以外的部分朝向端部82、83的方向連續(xù)(多階段地)變小的方式彎曲。
[0064]在彎曲工序結(jié)束后，對(duì)得到的基材進(jìn)行修剪處理。在修剪處理中，通過使基材從流道剪掉，能夠獲得公差環(huán)8。需要說明的是，在修剪處理后，也可以對(duì)獲得的公差環(huán)8進(jìn)行負(fù)荷最大使用應(yīng)力以上的應(yīng)力的處理(整定處理)。
[0065]根據(jù)上述的本實(shí)施方式，由于設(shè)有沿著公差環(huán)8的與周向(及板厚方向)正交的方向切口的切口部81b，當(dāng)向公差環(huán)8的內(nèi)部插入樞軸7且樞軸7靠近凸部81a時(shí)，即便在公差環(huán)8的樞軸7插入側(cè)的端部的直徑發(fā)生了擴(kuò)徑的情況下，能夠防止追隨該擴(kuò)徑而使插入側(cè)的相反側(cè)的端部浮起且抑制滑架相對(duì)于樞軸7的旋轉(zhuǎn)。由此，能夠正確地組裝硬盤裝置I中的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
[0066]另外，根據(jù)上述的本實(shí)施方式，由于周向上的端部82、83的曲率半徑與滑架5的連結(jié)部52的曲率半徑相等，周向上的端部82、83以外的部分的曲率半徑比滑架5的連結(jié)部52的曲率半徑大，因此當(dāng)插入到滑架5的連結(jié)部52時(shí)，公差環(huán)8能夠保持于連結(jié)部52內(nèi)部，并且使公差環(huán)8的周向的形狀呈沿著連結(jié)部52的壁面的圓形。因此，當(dāng)將公差環(huán)8插入滑架5的連結(jié)部52時(shí)，能夠?qū)崿F(xiàn)不損傷連結(jié)部52的壁面地插入。因此，能夠抑制因公差環(huán)插入而導(dǎo)致產(chǎn)生污染。
[0067]另外，現(xiàn)有的公差環(huán)的沿著周向的形狀能夠彈性變形為與滑架側(cè)的開口幾乎相等的大致圓形，但實(shí)際上，在組裝時(shí)的作業(yè)方面，由于需要公差環(huán)保持在滑架內(nèi)，因此公差環(huán)的曲率半徑設(shè)計(jì)得比滑架的開口的曲率半徑大。另外，在制造方面，存在公差環(huán)的端部側(cè)開放且公差環(huán)的端部的曲率半徑變得比滑架的開口的曲率半徑大的情況。由此，當(dāng)插入滑架的開口時(shí)，沿著彈性變形后的公差環(huán)的環(huán)繞方向的形狀呈橢圓形狀。因此，在將樞軸等壓入公差環(huán)內(nèi)部的情況下，樞軸的側(cè)面與公差環(huán)的橢圓形狀的短徑側(cè)的外緣接觸，公差環(huán)的外緣及/或樞軸的側(cè)面發(fā)生損傷，可能成為污染的產(chǎn)生原因。
[0068]與此相對(duì)地，由于本實(shí)施方式所涉及的公差環(huán)8的沿著周向的形狀呈沿著連結(jié)部52的壁面的圓形，因此當(dāng)插入連結(jié)部52時(shí)，能夠?qū)崿F(xiàn)不損傷連結(jié)部52的壁面地插入。另夕卜，當(dāng)壓入樞軸7時(shí)，能夠不損傷公差環(huán)8的內(nèi)周面及/或樞軸7的側(cè)面地壓入樞軸7。因此，能夠抑制因公差環(huán)8而導(dǎo)致產(chǎn)生污染。
[0069]如上述那樣，本實(shí)施方式所涉及的公差環(huán)8能夠?qū)休S7容易地壓入公差環(huán)8內(nèi)部，并且能夠通過相對(duì)于凸部81a的連結(jié)部52的壁面的壓接而可靠地將滑架5與樞軸7之間固定。
[0070]需要說明的是，雖然說明過上述的公差環(huán)8的凸部81a的形狀為從外表面突出為大致矩形狀的情況，但只要是滿足上述的個(gè)數(shù)且能夠?qū)?gòu)件間固定的形狀，則可以使突出方向的外緣形狀呈大致圓形，也可以使從外表面突出的突出區(qū)域的外緣形狀呈大致圓形。另外，雖然說明過凸部81a沿著公差環(huán)8的周向而設(shè)為兩列的情況，但并不局限于此，也可以設(shè)為一列或多列。
[0071]另外，雖然說明了上述的公差環(huán)8以曲率半徑隨著從端部以外的部分朝向端部82、83的方向連續(xù)(多階段地)變小的方式彎曲的情況，但也可以使端部的曲率半徑與端部以外的部分的曲率半徑呈兩個(gè)階段地彎曲。
[0072]圖9是示意性地表示本實(shí)施方式的變形例I所涉及的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的展開圖，是將公差環(huán)向周向拉長(zhǎng)后的圖。在上述的實(shí)施方式中，雖然說明了前端部812的R形狀的直徑與切口部81b中的周向的寬度(距離dl)同等的情況，但如圖9所示，也可以是具有比周向的寬度(距離dl對(duì)應(yīng))大的直徑即前端部813的切口部81c。
[0073]圖10是示意性地表示本實(shí)施方式的變形例2所涉及的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的展開圖，是將公差環(huán)向周向拉長(zhǎng)后的圖。在上述的實(shí)施方式中，雖然說明了延伸部811以相同的寬度延伸的情況，如圖10所示，也可以是切口部81d，該切口部81d具有:延伸部814，其具有從緣端部縮徑地延伸的縮徑部814a ;前端部815，其設(shè)于延伸部814的基端側(cè)的不同側(cè)的端部側(cè)，且呈具有規(guī)定的直徑(曲率半徑)的弧狀?？s徑部814a的緣端部側(cè)的寬度比鄰接的凸部81a間的距離大。需要說明的是，延伸部814可以是呈具有不同的多個(gè)寬度的帶有臺(tái)階的形狀，也可以呈連續(xù)性地縮徑的形狀。另外，縮徑部814a的緣端部側(cè)的寬度朝向前端部815而呈縮徑的形狀即可，也可以比凸部81a間的距離小。
[0074]圖11是示意性地表示本實(shí)施方式的變形例3所涉及的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的展開圖，且是將公差環(huán)向周向拉長(zhǎng)后的圖。在上述的實(shí)施方式中，雖然說明了兩端中的延伸部811以相同的長(zhǎng)度延伸的情況，但如圖11所示，與設(shè)于一方的緣端部一側(cè)的切口部81b相比，也可以將延伸部的長(zhǎng)度不同的切口部81e設(shè)于另一方的緣端部側(cè)。切口部81e具有:從緣端部延伸得比延伸部811長(zhǎng)的延伸部816 ;設(shè)于延伸部816的緣端部側(cè)的不同側(cè)的端部側(cè)且呈具有規(guī)定的直徑(曲率半徑)的弧狀的前端部817。另外，前端部817的R形狀的直徑可以與同延伸部816的前端部817相連一側(cè)的寬度同等，也可以是比周向的寬度大的直徑。
[0075]圖12是示意性地表示本實(shí)施方式的變形例4所涉及的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的展開圖，且是將公差環(huán)向周向拉長(zhǎng)后的圖。在上述的實(shí)施方式中，雖然說明了切口部81b設(shè)于切口部81b中的與周向正交的方向的兩緣端部的情況，但如圖12所示，也可以是設(shè)于一方的緣端部一側(cè)。需要說明的是，在該情況下，設(shè)有切口部81b的緣端部?jī)?yōu)選為公差環(huán)8的樞軸7插入側(cè)的不同側(cè)的端部。
[0076]另外，如變形例4所涉及的公差環(huán)那樣，在一端側(cè)設(shè)置切口部的情況下，通過在公差環(huán)8的樞軸7插入側(cè)的不同側(cè)的緣端部設(shè)置切口部，能夠進(jìn)一步增大滑架5的旋轉(zhuǎn)抑制效果。具體地說，在寬度方向(與周向正交的方向)上形成1.0mm的長(zhǎng)度(與距離d3對(duì)應(yīng))的切口部的情況下，與在兩端處形成各0.5mm的切口部的情況相比，在一端(樞軸7插入側(cè)的不同側(cè)的端部)形成1.0mm的切口部的情況更能夠進(jìn)一步增大滑架5的旋轉(zhuǎn)抑制效果。
[0077]圖13是示意性地表示本實(shí)施方式的變形例5所涉及的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的展開圖，且是將公差環(huán)向周向拉長(zhǎng)后的圖。需要說明的是，在變形例5中，說明了凸部81a為12個(gè)的情況。在上述的實(shí)施方式中，雖然說明了切口部81b設(shè)于將周向的邊三等分的位置的情況，但如圖13所示，也可以設(shè)于將周向的邊兩等分的位置。另外，即便在切口部在將周向的邊四等分以上地等分的位置處設(shè)有多個(gè)(3個(gè)以上)的情況下也能夠應(yīng)用。切口部?jī)?yōu)選至少在將周向的邊等分的位置處設(shè)有I個(gè)以上。
[0078]實(shí)施例
[0079]在此，參照?qǐng)D14而說明本發(fā)明的實(shí)施例。需要說明的是，本發(fā)明并不局限于以下的實(shí)施例。圖14是表示本實(shí)施例所涉及的公差環(huán)的切口深度與傾斜角度之間的關(guān)系的圖表。需要說明的是，在本實(shí)施例中，將切口部的深度(與距離d3對(duì)應(yīng))設(shè)為“切口深度”。圖14所示的圖表表示切口部的切口深度、與滑架的軸(連結(jié)部52的中空空間的中心軸)相對(duì)于樞軸的中心軸的傾斜角度之間的關(guān)系。需要說明的是，傾斜角度通過樞軸向公差環(huán)的插入后的滑架的軸的斜率來求出。
[0080]在本實(shí)施例中，使用縱4.0mm、橫25.2mm、板厚0.1mm的板狀的不銹鋼的公差環(huán)，該公差環(huán)呈將橫向(長(zhǎng)邊方向)設(shè)為周向的大致環(huán)狀。另外，本實(shí)施例所涉及的公差環(huán)具有圖5等所示的凸部(凸部81a)與切口部(切口部81b)。需要說明的是，圖14的圖表中，由虛線表示的區(qū)域R表示凸部81a的形成區(qū)域。
[0081]在此，分別使用本實(shí)施例所涉及的公差環(huán)的切口部的與周向及板厚方向正交的方向的距離(切口寬度，參照?qǐng)D8的距離dl)為0.lmm、0.3mm、0.5mm而求出傾斜角度。
[0082]如圖14所示的圖表那樣，在切口深度為0.5mm以上的情況下(隨著靠近凸部的形成區(qū)域)，傾斜角度變小。另外，隨著切口寬度變長(zhǎng)為0.lmm、0.3mm、0.5mm，傾斜角度變小。由此，通過切口部的形成，能夠抑制公差環(huán)的軸相對(duì)于樞軸的中心軸的傾斜(旋轉(zhuǎn))，并且切口深度及切口寬度越大、就越能夠增大其效果。
[0083]工業(yè)實(shí)用性
[0084]如以上那樣，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)、硬盤裝置及硬盤裝置的制造方法在抑制壓入樞軸時(shí)的滑架相對(duì)于樞軸的旋轉(zhuǎn)且提高組裝精度方面是有用的。
[0085]附圖標(biāo)記說明如下:
[0086]1、200硬盤裝置
[0087]2,201外殼主體
[0088]3、202 硬盤
[0089]4、203 主軸
[0090]5、205 滑架
[0091]6、206 VCM
[0092]7、207 樞軸
[0093]8、208 公差環(huán)
[0094]50磁頭部
[0095]50a 懸架
[0096]50b、204 磁頭
[0097]51 臂
[0098]52連結(jié)部
[0099]60 線圈
[0100]61 磁鐵
[0101]81a、208a 凸部
[0102]81b、81c、81d、81e 切口部
[0103]82、83 端部
[0104]811、814、816 延伸部
[0105]812、813、815、817 前端部
【權(quán)利要求】
1.一種公差環(huán)，該公差環(huán)使用板狀的構(gòu)件而形成，呈沿著規(guī)定方向大致環(huán)繞一周的環(huán)狀，且設(shè)有朝向徑向突出的多個(gè)凸部，其特征在于， 所述公差環(huán)具有從與周向正交的方向的外緣側(cè)端部中的至少一方的外緣側(cè)端部沿著與所述周向正交的方向切開而成的切口部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的公差環(huán)，其特征在于， 所述切口部設(shè)于所述多個(gè)凸部之間， 所述周向上的長(zhǎng)度為所述多個(gè)凸部之間的距離以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的公差環(huán)，其特征在于， 所述切口部在與所述周向正交的方向上的長(zhǎng)度為從與所述周向正交的方向的外緣側(cè)端部到所述凸部的所述外緣側(cè)端部側(cè)的端部為止的距離以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的公差環(huán)，其特征在于， 所述切口部設(shè)于所述周向的邊的等分位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的公差環(huán)，其特征在于， 所述公差環(huán)在所述外 緣側(cè)端部具有一個(gè)或兩個(gè)所述切口部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的公差環(huán)，其特征在于， 所述切口部具有: 從基端延伸的延伸部； 設(shè)于所述延伸部的、與所述基端側(cè)不同側(cè)的端部側(cè)，且具有規(guī)定的直徑的呈弧狀的前端部。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的公差環(huán)，其特征在于， 所述前端部的直徑為所述延伸部中的周向的寬度以上的值。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的公差環(huán)，其特征在于， 周向上的端部的曲率半徑比所述周向上的所述端部以外的部分的曲率半徑小。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的公差環(huán)，其特征在于， 曲率半徑隨著從所述端部以外的部分朝向所述端部的方向連續(xù)變小。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的公差環(huán)，其特征在于， 所述多個(gè)凸部沿著所述周向配置， 沿著所述周向配置的所述凸部之中的、配置為一列的所述凸部的個(gè)數(shù)為3的倍數(shù)。
11.一種硬盤裝置，其特征在于，具備: 硬盤，其作為記錄媒介； 磁頭部，其相對(duì)于所述硬盤進(jìn)行信息記錄及信息讀出； 支承所述磁頭部且在所述硬盤的面上進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的滑架； 公差環(huán)，其使用板狀的構(gòu)件而形成，呈沿著規(guī)定方向大致環(huán)繞一周的環(huán)狀，且設(shè)有朝向徑向突出的多個(gè)凸部，被收容于在所述滑架形成的中空空間； 樞軸，其被插入于所述公差環(huán)的所述環(huán)狀的內(nèi)部， 所述公差環(huán)具有從與周向正交的方向的外緣側(cè)端部中的至少一方的外緣側(cè)端部沿著與所述周向正交的方向切開而成的切口部。
12.—種硬盤裝置的制造方法，其特征在于，包括: 收容步驟，在該收容步驟中，在形成于滑架的中空空間收容公差環(huán)，該滑架對(duì)相對(duì)于作為記錄媒介的硬盤進(jìn)行信息記錄及信息讀出的磁頭部進(jìn)行支承且在所述硬盤的面上進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，該公差環(huán)使用板狀的構(gòu)件形成，呈沿著規(guī)定方向大致環(huán)繞一周的環(huán)狀，且設(shè)有朝向徑向突出的多個(gè)凸部； 插入步驟，在該插入步驟中， 向所述公差環(huán)的所述環(huán)狀的內(nèi)部插入樞軸， 所述公差環(huán)具有從與周向正交的方向的外緣側(cè)端部中的至少一方的外緣側(cè)端部沿著與所述周向正交的方向切開而成的切口部。
【文檔編號(hào)】F16C35/00GK103975390SQ201280060681
【公開日】2014年8月6日 申請(qǐng)日期:2012年12月10日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月9日
【發(fā)明者】荒木俊充, 田島典拓, 三村光輝 申請(qǐng)人:日本發(fā)條株式會(huì)社