專(zhuān)利名稱(chēng)：復(fù)合陶瓷襯套的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種機(jī)械零件，特別是涉及一種襯套。
背景技術(shù)：
襯套是機(jī)器上的重要部件之一，主要作用是減少軸與座之間的摩擦，延長(zhǎng)機(jī)械的壽命，因此對(duì)襯套的耐磨性要求特別高，傳統(tǒng)的鍍金屬襯套雖然硬度有了提高，但是隨著機(jī)械功率的不斷增大，對(duì)襯套耐磨性提出了更高的要求，傳統(tǒng)的金屬襯套已不能滿(mǎn)足生產(chǎn)要求。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供了一種耐磨性高的襯套?！け緦?shí)用新型復(fù)合陶瓷襯套，包括內(nèi)芯，所述內(nèi)芯外表面采用真空超微低溫等離子化學(xué)氣象沉積技術(shù)滲透生成有金屬陶瓷層。與現(xiàn)有技術(shù)相比本實(shí)用新型在襯套內(nèi)芯外表面采用超微低溫等離子化學(xué)氣象沉積技術(shù)滲透生成的一種雙向擴(kuò)散的微晶體與網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)并存的金屬陶瓷層，該層使襯套與軸和座接觸摩擦部分的表面顯微結(jié)構(gòu)更加致密，硬度提高50%以上，還具有較高的自潤(rùn)滑性，耐磨性大大提高。本實(shí)用新型復(fù)合陶瓷襯套，其中所述金屬陶瓷層的沉積厚度為21-29 μ m，增長(zhǎng)厚度為3μπι。金屬陶瓷層采用這個(gè)厚度既可以達(dá)到提高耐磨性、自潤(rùn)性、硬度的要求，又能減少工藝成本。
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型復(fù)合陶瓷襯套作進(jìn)一步說(shuō)明。

圖I為本實(shí)用新型復(fù)合陶瓷襯套剖視圖。
具體實(shí)施方式
如圖I所示，本實(shí)用新型復(fù)合陶瓷襯套包括內(nèi)芯1，內(nèi)芯I外表面采用真空條件下超微低溫等離子化學(xué)氣象沉積技術(shù)滲透生成有金屬陶瓷層2，金屬陶瓷層2是采用真空條件下300°C等離子化學(xué)氣象沉積技術(shù)在金屬表面滲透形成的一種雙向擴(kuò)散的微晶體與網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)并存的金屬陶瓷膜，金屬陶瓷層2的沉積厚度為25，增長(zhǎng)厚度為3 μ m。金屬陶瓷層2的生成過(guò)程是在真空300°C的條件下，將氮、硅、硼氣體通入工作室，在高壓強(qiáng)電場(chǎng)的作用下，高溫、高速的電子與工作氣體分子相碰撞，使氣態(tài)氮、硅、硼變成高速離子，高速離子與密封環(huán)表面的金屬離子發(fā)生相互作用，生成BN-SIN網(wǎng)絡(luò)狀離子結(jié)構(gòu)，使密封環(huán)的表面顯微結(jié)構(gòu)更致密，硬度提高50%以上，光潔度提高一個(gè)技術(shù)級(jí)數(shù)，與環(huán)槽的摩擦系數(shù)下降10%以上，還帶有自潤(rùn)滑功能，同時(shí)在金屬陶瓷層2的形成過(guò)程中由于擴(kuò)散作用陶瓷材料向金屬內(nèi)擴(kuò)散形成緊貼金屬陶瓷層2的連續(xù)的沉積層，沉積層的厚度一般是25 μ m,使襯套的耐磨性顯著提聞。以上所述的實(shí)施例僅僅是對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行描述，并非對(duì)本實(shí)用
新型的范圍進(jìn)行限定，在不脫離本實(shí)用新型設(shè)計(jì)精神的前提下，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作出的各種變形和改進(jìn)，均應(yīng)落入本實(shí)用新型權(quán)利要求書(shū)確定的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種復(fù)合陶瓷襯套，包括內(nèi)芯(1)，其特征在于所述內(nèi)芯(I)外表面采用真空超微低溫等離子化學(xué)氣象沉積技術(shù)滲透生成有金屬陶瓷層(2 )。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的復(fù)合陶瓷襯套，其特征在于所述金屬陶瓷層(2)的沉積厚度為21-29 μ m,增長(zhǎng)厚度為3 μ m。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型涉及一種機(jī)械零件。其目的是為了提供一種耐磨性高的襯套。本實(shí)用新型復(fù)合陶瓷襯套包括內(nèi)芯，內(nèi)芯外表面采用真空超微低溫等離子化學(xué)氣象沉積技術(shù)滲透生成有金屬陶瓷層，本實(shí)用新型可以很好地提高襯套的耐磨性。
文檔編號(hào)F16C33/04GK202690755SQ20122024241
公開(kāi)日2013年1月23日 申請(qǐng)日期2012年5月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月28日
發(fā)明者任詩(shī)福, 左申兵, 朱凱榮, 陳大海, 方杰, 王大勇, 唐嘯, 楊枝柱 申請(qǐng)人:合肥金陶科技有限責(zé)任公司