專利名稱：平面密封裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種至少基本上為金屬的平面密封裝置，尤其是一種氣缸蓋密封墊，并且涉及一種帶有密封片的平面密封裝置，在該密封片中提供至少一個(gè)貫穿開口和至少在該貫穿開口的周圍包括至少三個(gè)彼此疊加配置的金屬板層，其中這些板層中的至少兩個(gè)板層分別包括至少一個(gè)包圍貫穿開口的高彈性的密封凹槽并且該密封凹槽彼此疊加配置，以及為這些密封凹槽提供變形限位裝置，該變形限位裝置在垂直于密封片平面(壓平)方向限制該密封凹槽的變形并且包括變形止停器。
背景技術(shù)：
如果上述提及的是高彈性的密封凹槽，這應(yīng)該意味著在凹槽壓緊時(shí)(當(dāng)安裝密封裝置和/或包括平面密封裝置的機(jī)組工作時(shí))，通過該板層的包含密封凹槽區(qū)域的彈性的和隨即可逆轉(zhuǎn)的變形，使凹槽高度降低。
為了簡(jiǎn)單起見，以下使用了專業(yè)概念主要地在前述氣缸蓋密封墊中，將包括高彈性密封凹槽的板層通常稱作功能層，即功能層始終包括一個(gè)或多個(gè)高彈性密封凹槽，該密封凹槽圍繞一個(gè)或者多個(gè)貫穿開口，如果將該平面密封裝置安裝入機(jī)器零件之間，例如在氣缸頭和發(fā)動(dòng)機(jī)缸體的安裝和夾緊，目的是將這些貫穿開口的周圍密封。
氣缸蓋密封墊在發(fā)動(dòng)機(jī)工作過程中主要被動(dòng)態(tài)加載，即作用在氣缸蓋密封墊上的壓力時(shí)間上不是恒定的，由此由壓力引起的密封凹槽的壓平也是隨時(shí)間變化的。因此在發(fā)動(dòng)機(jī)工作過程中為能夠保證密封功能所必須的密封凹槽的高彈性和不要因?yàn)槊芊獍疾鄣膭?dòng)態(tài)加載而出現(xiàn)疲勞斷裂，那么必須防止密封凹槽的過度壓平，該過度壓平的防止通過變形限位裝置引起，這類變形限位裝置例如由熟知的氣缸蓋密封墊由板層的環(huán)形區(qū)域組成，在該環(huán)形區(qū)域上例如通過焊接固定著由板材沖壓出的圓環(huán)型的所謂的止停器；替代地，板層可以借助沖壓過程配置為具有例如肋條形狀或者花紋形狀凸起，或者圍繞應(yīng)被密封的貫穿開口的板層環(huán)形部分向下一個(gè)板層折回并由此產(chǎn)生所謂折疊卷邊形式的加厚部分。
熟知的具有至少三個(gè)功能層和至少三個(gè)(彼此疊加的)帶有過度壓平保護(hù)的密封凹槽的氣缸蓋密封墊至少包括兩個(gè)變形限位裝置即止停器，其中一止停器保護(hù)兩個(gè)功能層的密封凹槽的過度壓平并且另一止停器保護(hù)第三功能層的過度壓平一兩個(gè)彼此直接相鄰的功能層包括密封凹槽，這些密封凹槽中的每一個(gè)分別向另一功能層方向凸起，一止停器可以提供到這兩個(gè)功能層中的一個(gè)上，并且位于這個(gè)功能層上朝向另一功能層的那一側(cè)，第二止停器可以提供于第三功能層，以此保護(hù)不允許的第三功能層密封凹槽的大變形。替代地，在第三功能層和另外兩個(gè)功能層之間可以配置沒有密封凹槽的板層，該板層在第三功能層的密封凹槽旁(俯視于平面密封裝置)包括圓環(huán)形的隆起，該隆起形成了向第三功能層方向伸出的凸起和第三功能層的密封凹槽的止停器。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是，簡(jiǎn)化本文開始所述具有至少三層功能層的平面密封裝置的結(jié)構(gòu)。
根據(jù)本發(fā)明的基本構(gòu)思，可以這樣減少所需的變形限位裝置和止停器的數(shù)量因此簡(jiǎn)化平面密封裝置的結(jié)構(gòu)，即為兩個(gè)彼此直接相鄰的功能層提供唯一的止停器，該止停器位于由這兩個(gè)功能層形成的層對(duì)之外(即該層對(duì)之上或者之下)，且該層對(duì)的直接相鄰于這個(gè)止停器的第一功能層在其密封凹槽旁且在止停器區(qū)域(俯視于平面密封裝置)提供凸起，該凸起向另一第二功能層方向凸出并且在平面密封裝置被安裝和擠壓時(shí)由止停器支撐，并作為止停器用于保護(hù)第二功能層的密封凹槽并且該凸起特別地由第一功能層的變形產(chǎn)生。
本文開始所述發(fā)明的平面密封裝置特別是這樣構(gòu)成的，即具有密封凹槽且形成層對(duì)的雙板層彼此直接相鄰，止停器配置于層對(duì)之外然而直接相鄰于層對(duì)的第一板層，并且第一板層在其密封凹槽旁包括伸向貫穿開口切線方向的形變，特別是彎曲，該彎曲在止停器區(qū)域形成向?qū)訉?duì)的第二板層方向凸出的凸起，由此連接于該形變的第一板層的環(huán)形區(qū)域與止停器共同形成作用于層對(duì)的兩個(gè)板層的密封凹槽的變形限位裝置。
如果前述的第一板層的環(huán)形區(qū)域與止停器共同形成變形限位裝置，不是指該環(huán)形區(qū)域和止停器必須由兩部分構(gòu)成；例如以下是可能的，即例如通過沖壓過程為環(huán)形區(qū)域提供肋條形狀或者花紋形狀凸起，因此該環(huán)形區(qū)域包括比屬于該環(huán)形區(qū)域的板層的原始厚度更大的厚度；該環(huán)形區(qū)域直接鄰接于要密封的貫穿開口，構(gòu)成該環(huán)形區(qū)域的板層能夠圍繞貫穿開口向自身折回，由此可以構(gòu)成所謂的折疊卷邊，該折疊卷邊形成加厚區(qū)域由此形成變形限位裝置。
更進(jìn)一步地補(bǔ)充指明通常將構(gòu)成層對(duì)的兩個(gè)板層的密封凹槽彼此相向凸起；本發(fā)明的基本原理也適用于平面密封裝置，其中直接相鄰的板層的密封凹槽不是彼此相向凸起，而是彼此分離——此種情況下只需在前述構(gòu)成層對(duì)的兩個(gè)板層處，其密封凹槽旁、位于層對(duì)之外的止停器區(qū)域配置以相同方向(即遠(yuǎn)離于止停器的方向)凸起的彎曲。
基于現(xiàn)有技術(shù)的狀況，還要注意，具有兩層功能層的氣缸蓋密封墊是熟知的，在該功能層中間配置了一層板層，為該板層提供了用于兩層功能層的密封凹槽的止停器，其中止停器具有焊接環(huán)或者卷邊的形式并且與在止停器旁與具有止停器的板層以如下方式彎曲，即用于兩個(gè)功能層的密封凹槽的止停器具有相同的作用，也就是占據(jù)了相對(duì)于兩個(gè)功能層的中間層。
在本發(fā)明平面密封裝置的優(yōu)選實(shí)施例中，第一板層位于第二和第三板層之間，止停器位于第三板層處，由此被彎曲的第一板層不位于密封片的主表面。止停器也可以位于第一板層處，并且位于第一板層的一側(cè)，即從該側(cè)離開于由彎曲形成的凸起(并且無關(guān)于是否止停器由焊接的板層環(huán)，由第一板層的向第一板層折回的環(huán)形區(qū)域或者由第一板層沖壓出的凸起構(gòu)成)。
借助于位于兩個(gè)功能層外的止停器，能夠保護(hù)第三板層(同樣構(gòu)成功能層)的密封凹槽的過度壓平，并且與第三板層的密封槽是向第一板層還是離開于第一板層的方向凸起無關(guān)。
本發(fā)明也適用于四層的平面密封裝置，該密封裝置的構(gòu)造為在第三板層的由第一板層折回側(cè)上配置第四板層，該第四板層同樣圍繞貫穿開口以及同樣包括由變形限位裝置保護(hù)過度壓平的密封凹槽，其中如果第四板層的密封凹槽在第三板層的方向上凸出，那么結(jié)構(gòu)上就會(huì)尤其簡(jiǎn)單。
類似于前述的現(xiàn)有技術(shù)，位于第一和第四板層密封凹槽區(qū)間的第三板層可以是平的并且止停器位于第三板層的兩個(gè)主表面之上，由此構(gòu)成變形限位裝置，借此保護(hù)第一、第二以及第四板層的密封凹槽。其中第四板層的密封凹槽向第三板層方向或者遠(yuǎn)離第三板層方向凸起。
由附圖標(biāo)識(shí)和說明可知，本發(fā)明的基本原理也適用于具有更多數(shù)量板層的平面密封裝置，尤其適用于具有四層功能層的四層平面密封裝置以及具有四層功能層和配置于兩個(gè)功能層層對(duì)之間的板層的五層平面密封裝置，該板層配置了雙向有效的止停器。
大多數(shù)情況下止停器構(gòu)造為，止停器以環(huán)形包圍貫穿開口，即使由多個(gè)部分組成的止停器是熟知的，這些部分在貫穿開口的切線方向上彼此相距設(shè)置——那么在最后陳述的情況中，根據(jù)本發(fā)明前面的彎曲也不必為環(huán)形的，而可以是包括多個(gè)彎曲部分，該多個(gè)彎曲部分在貫穿開口的切線方向上彼此相距設(shè)置。
原則上，止停器可以位于朝向貫穿開口的側(cè)面上或者要保護(hù)的密封凹槽的背離貫穿開口的側(cè)面上，其中優(yōu)選第一選擇。
為了全面起見還要指明，前述密封凹槽可以構(gòu)造為全凹槽，也可以構(gòu)造為半凹槽——全凹槽的截面為圓拱形或者四邊形，半凹槽截面形狀近似為躺倒的S形或者Z形。


其他技術(shù)特征，優(yōu)點(diǎn)和本發(fā)明的細(xì)節(jié)由附屬的權(quán)利要求和/或以下的說明以及本發(fā)明的帶有數(shù)字標(biāo)識(shí)的尤其具有優(yōu)點(diǎn)的實(shí)施例給出，其中尤其涉及的是平面密封裝置；附圖中圖1本發(fā)明的三層密封裝置的局部剖視圖，該局部鄰接于將被密封的貫穿開口，其中所有三層構(gòu)造為功能層；圖2對(duì)應(yīng)于圖1的具有四層功能層的四層密封裝置的剖視圖；圖2A圖2中密封的兩個(gè)最上層的部分透視圖，但是以大于圖2中的尺寸顯示；圖3對(duì)應(yīng)于圖1的具有三層功能層的四層密封裝置的剖視圖；圖4對(duì)應(yīng)于圖1的具有四層功能層的五層密封裝置的剖視圖；圖5對(duì)應(yīng)于圖1的具有三層功能層的三層密封裝置的替代實(shí)施例的剖視圖；圖6圖5顯示的密封裝置的變換的剖視圖；
具體實(shí)施例方式
圖1顯示的三層氣缸蓋密封墊的局部剖視圖，該局部鄰接于環(huán)形的(俯視于密封裝置)具有軸線12的貫穿開口10，其中該貫穿開口應(yīng)該是氣缸蓋密封墊的燃燒室開口。密封裝置的三層共同構(gòu)成密封片14，圖1中密封片平面沿水平延伸。三層是指內(nèi)置的第一金屬板層16，該板層配置于第二和第三金屬板層18和20之間，該第二和第三板層構(gòu)成這個(gè)氣缸蓋密封墊的主表面。三個(gè)板層的每一板層包括密封凹槽22，24或26，在此處構(gòu)造為所謂的半凹槽并且以圓環(huán)形(俯視于密封片14)包圍貫穿開口10。
在第二板層18的密封凹槽24銜接板層18的環(huán)形區(qū)域28，該環(huán)形區(qū)域鄰接于貫穿開口10平坦并且平行于密封片平面延伸，而第一和第三板層16和20相應(yīng)的環(huán)形區(qū)域包括彎曲30和32，在該彎曲處分別銜接著相應(yīng)板層的平坦環(huán)形區(qū)域34和36，該板層以圓環(huán)形式包圍貫穿開口10并且根據(jù)本發(fā)明形成凸起34′和36′；其中這兩個(gè)凸起34′和36′根據(jù)本發(fā)明彼此打開，由此第一板層16向第二板層18方向被彎曲，第三板層20相反地向離開第一板層16的方向彎曲。在第三板層20的環(huán)形區(qū)域固定著由金屬片沖制且圓環(huán)形圍繞貫穿開口10的止停器40，例如通過點(diǎn)焊或者通過圓環(huán)形激光焊接縫固定，替換地，也可以將這樣的止停器安置在第一板層16的環(huán)形區(qū)域34的底面。在顯示的實(shí)施例中，環(huán)形區(qū)域36和止停器40共同構(gòu)成變形限位裝置42。
前提是，所有密封凹槽22，24，26的高度d4相同，凸起34′和36′的彎曲30和32的高度d1相同，此外，止停器40的d2的厚度也是高度雙倍于d1。
圖1顯示的是沒有受壓的氣缸蓋密封墊的狀態(tài)，即在發(fā)動(dòng)機(jī)缸體和氣缸頭之間的安裝和夾緊之前的密封裝置；其中板層16和18軸向地、彼此反靠地位于密封凹槽22和24外側(cè)(相對(duì)于貫穿開口10的軸線12)——只是為了附圖的清楚顯示才將圖1中這部分的板層16和18彼此分開一定距離，對(duì)于密封凹槽22，26和彎曲30，32之間部分的板層16和20也是同樣的。在發(fā)動(dòng)機(jī)缸體和氣缸頭之間的氣缸蓋密封墊的安裝和夾緊過程中，以及發(fā)動(dòng)機(jī)工作過程中，由于作用到氣缸蓋密封墊以及垂直對(duì)準(zhǔn)密封片平面的壓力，密封凹槽22，24，26的高度(d4)會(huì)被減小，即密封凹槽會(huì)被壓平，其中變形限位裝置42以及第一板層16的彎曲30將阻止三個(gè)密封凹槽中的每一個(gè)的過度壓平，并且以以下方式(以下應(yīng)該設(shè)想為，沒有顯示在圖中的發(fā)動(dòng)機(jī)缸體位于氣缸蓋密封墊的下面和沒有顯示的氣缸頭位于氣缸蓋密封頭的上面)在密封凹槽26壓平過程中，凸起36′反抗于發(fā)動(dòng)機(jī)缸體，由此能夠不再繼續(xù)壓平密封凹槽26；此外止停器40反抗于第一板層16的環(huán)形區(qū)域34，并且第一板層16的凸起34′反抗于第二板層18的環(huán)形區(qū)域28，由此能夠不再繼續(xù)壓平密封凹槽22和24。
與止停器40安置于第三板層20還是第一板層16無關(guān)，止停器40位于由第一和第二板層16和18構(gòu)成的層對(duì)之外并與彎曲30一起防止所有三個(gè)密封凹口22，24和26的過度壓平。
不偏離本發(fā)明的基本原理，可以將圖1顯示的氣缸蓋密封墊以以下方式更改可以將第三板層20彎曲，使得該板層形成根據(jù)圖1顯示的向上的凸起，該凸起取代了圖1中由止停器40形成的凸起，并且止停器根據(jù)圖1可被安置在第三板層20的底面上在這個(gè)彎曲的右側(cè)。利用止停器可以保護(hù)第三板層20的密封凹槽26的過度壓平，并且因?yàn)榘鍖?0的彎曲會(huì)形成根據(jù)圖1向上的凸起，利用該凸起當(dāng)擠壓氣缸蓋密封墊時(shí)將保護(hù)第一板層16的環(huán)形區(qū)域34，所以凸起34′不僅會(huì)保護(hù)密封凹槽22，也會(huì)保護(hù)密封凹槽24的過度壓平。
圖1中的密封凹槽22，24，26的高度d4為了能夠清楚地顯示本發(fā)明的平面密封裝置而被放大；典型地根據(jù)發(fā)明的氣缸蓋密封墊的板層強(qiáng)度，即板層16，18和20的厚度為0.20±0.05mm，密封凹槽22，24，和26的寬度d3為1.0到1.1mm并且槽高d4為0.20到0.21mm。
替代將止停器40作為分離的板環(huán)生產(chǎn)并固定于板層16和20中的一個(gè)，可以將第一板層16或者第三板層20向貫穿開口10的軸線12方向延長(zhǎng)并將由此構(gòu)成的各自板層的環(huán)形區(qū)域向下或者向上彎折并向各自的板層折疊回去——根據(jù)圖1的顯示，止停器40由第三板層20的一個(gè)區(qū)域形成，該區(qū)域在圖1右側(cè)無縫地轉(zhuǎn)入環(huán)形區(qū)域36，并且通過一截折彎段，該折彎段的截面構(gòu)造為平躺的U型。
在另一種變換中，例如在止停器40的位置可能出現(xiàn)肋條型或者花紋型凸起，該凸起由第三板層20的環(huán)形區(qū)域36通過沖壓模制出并以與止停器40相同方向相同尺寸突出于第三板層20；替代地可以由第一板層16的環(huán)形區(qū)域34沖壓出凸起，該凸起在第三板層20的方向上凸出。
圖2至6顯示的其他實(shí)施例，當(dāng)它們與圖1的實(shí)施例有差別時(shí)，才作出解釋，所以圖2至圖6使用了與圖1相同的標(biāo)識(shí)，但是添加了字母a和b和c和d和e。
對(duì)比于圖1顯示的氣缸蓋密封墊的密封凹槽包括所謂的半凹槽，以其他數(shù)字顯示的實(shí)施例中，密封凹槽構(gòu)造為全凹槽。
圖2顯示的是四層氣缸蓋密封墊的局部剖視圖，其中所有四層都為具有密封凹槽的功能層。類似于對(duì)應(yīng)圖1的實(shí)施例，第一板層16a與第二板層18a構(gòu)成板層對(duì)，但是具有構(gòu)造為全凹槽的密封凹槽22a，24a，該凹槽以相對(duì)方向凸起，并彼此面對(duì)；第三板層20a的密封凹槽26a又反方向?qū)?zhǔn)于第一板層16a的密封凹槽22a并突向于遠(yuǎn)離第一板層16a的方向。第四板層50a又具有向密封片14a內(nèi)側(cè)凸起的密封凹槽52a，并且如果從止停器40a看起，根據(jù)發(fā)明圖2顯示的氣缸體密封墊的構(gòu)成為鏡像對(duì)稱于在板層16a與20a中間延伸的中間平面。
關(guān)于密封凹槽22a，24a，和26a的保護(hù)，變形限位裝置42a以相同于圖1的氣缸蓋密封墊的變形限位裝置42的方式起作用，但是該變形限位裝置也保護(hù)著第四板層50a的密封凹槽52a的過度壓平，因?yàn)楫?dāng)壓緊氣缸蓋密封墊時(shí)，第三板層20a的凸起36a′反抗于第四板層50a的環(huán)形區(qū)域54a。
圖2A顯示的是根據(jù)圖2的實(shí)施例的第一板層16a的等尺寸剖視圖，其中圖2A也代表第三板層20a的構(gòu)造。
對(duì)止停器的配置和構(gòu)造可以更改為與圖1的說明相互關(guān)聯(lián)的配置和構(gòu)造，這對(duì)圖2顯示的氣缸蓋密封墊是有效的，對(duì)以下將要描述的實(shí)施例也是有效的。
圖3又顯示的是四層的氣缸蓋密封墊，該密封墊只具有三個(gè)功能層，即第一板層16b，第二板層18b和第四板層50b，配置于第一和第四板層之間的第三板層20b為所謂的支撐片，該支撐片光滑而平坦地直到止停器。
根據(jù)圖3的實(shí)施例中，止停器40b應(yīng)該為第三板層20b的經(jīng)過沖壓而加厚的環(huán)形區(qū)域，該環(huán)形區(qū)域突出于第三板層20b的兩個(gè)主表面，即雙側(cè)突出于該板層，目的是連接第一板層16b的彎曲30b而保護(hù)所有三個(gè)密封凹槽22b，24b和52b的過度壓平。
在圖3中顯示的根據(jù)本發(fā)明的平面密封裝置的第三實(shí)施例是根據(jù)本發(fā)明的密封最具有優(yōu)點(diǎn)的實(shí)施例，所以圖3中以數(shù)字標(biāo)識(shí)的該密封的特征單獨(dú)地以及全部結(jié)合作為特殊的結(jié)構(gòu)特征。
圖4顯示的氣缸蓋密封墊是五層的，具有四層功能層以及與止停器一起配置的光滑的支撐片。第一板層16c，第二板層18c和第四板層50c作為功能層并且對(duì)應(yīng)于圖2實(shí)施例的板層16a，18a和20a，第五板層60c對(duì)應(yīng)于圖2實(shí)施例的第四板層50a。第三板層20c又對(duì)應(yīng)于根據(jù)圖3的實(shí)施例的第三板層20b，并且包括其止停器40c。
因?yàn)橹雇Ｆ?0雙側(cè)突出于第三板層20c，也就是支撐片，該止停器與第一板層16c的彎曲30c和第四板層50c的彎曲54c一起不僅保護(hù)第一，第二和第四板層的密封凹槽22c，24c，和52c的過度壓平，而且還保護(hù)第五板層60c的密封凹槽52c，因?yàn)榈谒陌鍖?0c的凸起56c′在壓緊氣缸蓋密封墊時(shí)反靠于第五板層60c的環(huán)形區(qū)域64c。
根據(jù)圖4的氣缸蓋密封墊的特殊特征是，其形成了對(duì)稱于第三板層20c的中間平面的完全鏡像對(duì)稱。
圖5和圖6顯示的根據(jù)發(fā)明的平面密封的實(shí)施例僅區(qū)別于彼此的止停器的構(gòu)造，與根據(jù)圖1的實(shí)施例的區(qū)別是使用全凹槽來取代半凹槽作為密封凹槽。
根據(jù)圖5的三層平面密封裝置，所有三個(gè)板層16d，18d，和20d又分別形成帶有構(gòu)造為全凹槽的密封凹槽22d，24d和26d的功能層，但是配置于第三板層20d的止停器40d構(gòu)造為，該止停器突出于第三板層20d的兩個(gè)主表面，由此可以省掉如根據(jù)圖1的氣缸蓋密封墊的第三板層20的彎曲32。止停器40d可以作為沖壓的板環(huán)生產(chǎn)然后與第三板層20d例如通過焊接連接，也可以通過沖壓在第三板層20d產(chǎn)生加厚的區(qū)域而形成止停器40d。
根據(jù)圖6的實(shí)施例，在根據(jù)圖5的實(shí)施例中由變形限位裝置42構(gòu)成的止停器40d的位置出現(xiàn)了與第三板層20e的彎曲32e連接的止停器40e，它們共同構(gòu)成了變形限位裝置42e，該變形限位裝置與第一板層16e的彎曲30e相連接以保護(hù)所有密封凹槽22e，24e，和26e的過度壓平。
為了完整起見還應(yīng)說明，根據(jù)發(fā)明的平面密封裝置的彎曲的高度典型位于20和150μm范圍之間，優(yōu)選位于25和100μm范圍之間。
密封凹槽沒有彼此疊加配置(俯視于平面密封裝置)而是邊側(cè)地彼此反靠配置，也是本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1.具有密封片的平面密封裝置，在該密封裝置中至少提供一個(gè)貫穿開口和至少在該貫穿開口的周圍包括至少三個(gè)彼此疊加配置的金屬板層，其中這些板層中的至少兩個(gè)板層分別包括至少一個(gè)包圍貫穿開口的高彈性的密封凹槽并且該密封凹槽彼此疊加配置，以及為這些密封凹槽提供了限制在垂直于密封片平面方向的變形且包括變形止停器的變形限位裝置，其特征是，具有彼此相向凸出的密封凹槽且構(gòu)成層對(duì)的該兩個(gè)板層彼此直接相鄰，止停器配置于層對(duì)之外但是直接相鄰于層對(duì)的第一板層，并且該第一板層在密封凹槽旁包括伸向貫穿開口切線方向的彎曲，該彎曲在止停器區(qū)形成向?qū)訉?duì)的第二板層方向凸起的凸起，由此連接于該形變的第一板層的環(huán)形區(qū)域與止停器共同形成用于保護(hù)層對(duì)的兩個(gè)板層的密封凹槽的變形限位裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面密封裝置，其特征是，第一板層位于第二和第三板層之間，止停器位于第三板層處。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的平面密封裝置，其特征是，第三板層與第一板層直接相鄰。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的平面密封裝置，其特征是，第三板層也同樣包括圍繞貫穿開口的以及由變形限位裝置保護(hù)其過度壓平的密封凹槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的平面密封裝置，其特征是，第三板層的密封凹槽向遠(yuǎn)離于第一板層的方向凸起。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的平面密封裝置，其特征是，第三板層的密封凹槽向第一板層的方向凸起。
7.根據(jù)權(quán)利要求3至6之一所述的平面密封裝置，其特征是，在第三板層的背對(duì)第一板層的側(cè)面配置第四板層，該第四板層也同樣包括圍繞貫穿開口的以及由變形限位裝置保護(hù)其過度壓平的密封凹槽。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的平面密封裝置，其特征是，第四板層的密封凹槽向第三板層的方向凸起。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的平面密封裝置，其特征是，第三板層在第一和第四板層的密封凹槽之間的區(qū)域是平坦的并且止停器超出于第三板層的兩個(gè)主表面。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的平面密封裝置，其特征是，第四板層的密封凹槽向遠(yuǎn)離第三板層的方向凸起。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的平面密封裝置，其特征是，提供第五板層，其配置于第四板層的背離第三板層的側(cè)面并包括凸向于第四板層且圍繞貫穿開口的密封凹槽，并且該第四板層在其密封凹槽旁包括伸向貫穿開口切線方向的彎曲，該彎曲在止停器的區(qū)域形成向第五板層的方向凸出的凸起，由此第四板層的連接于該彎曲的環(huán)形區(qū)域與止停器共同形成對(duì)第四和第五板層的密封凹槽有作用的變形限位裝置。
12.根據(jù)權(quán)利要求2至5所述的平面密封裝置，其特征是，提供第四板層，其配置于第三板層的背離第一板層的側(cè)面并包括凸向于第三板層且圍繞貫穿開口的密封凹槽，并且該第三板層在其密封凹槽和止停器之間包括伸向貫穿開口切線方向的彎曲，該彎曲在止停器的區(qū)域形成向第四板層的方向凸出的凸起，由此第三板層的連接于該彎曲的環(huán)形區(qū)域與止停器共同形成對(duì)第三和第四板層的密封凹槽有作用的變形限位裝置。
13.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的平面密封裝置，其特征是，彎曲為環(huán)形。
14.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的平面密封裝置，其特征是，止停器以圓環(huán)形包圍貫穿開口。
15.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的平面密封裝置，其特征是，俯視于平面密封裝置，止停器配置于貫穿開口和密封凹槽之間。
16.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的平面密封裝置，其特征是，密封凹槽構(gòu)造為全凹槽。
全文摘要
平面密封裝置，具有至少一個(gè)貫穿開口(10)和至少三個(gè)彼此疊加配置的金屬板層(16e，18e，20e)，其中這些板層中的至少兩個(gè)板層分別包括至少一個(gè)包圍貫穿開口的密封凹槽(22e，24e，26e)，其中為這些密封凹槽提供了變形限位裝置(42e)，為了簡(jiǎn)化具有至少三個(gè)帶有密封凹槽的板層的平面密封裝置的安裝，以以下方式降低了作為密封凹槽變形保護(hù)的變形限位裝置(42e)或者止停器的數(shù)量，即為兩個(gè)彼此直接相鄰的帶有密封凹槽(22e，24e，26e)的板層(16e，18e，20e)配置了唯一的止停器(40e)，該止停器位于該兩個(gè)板層構(gòu)成的層對(duì)之外，并且這個(gè)層對(duì)的直接相鄰于止停器的第一板層在其密封凹槽旁且在止停器區(qū)域具有凸起(34′，36′)，該凸起向?qū)訉?duì)的另一第二板層凸出、由止停器支撐并尤其以板層彎曲構(gòu)成，該凸起作為止停器用于保護(hù)層對(duì)的第二板層(18e)的密封凹槽。
文檔編號(hào)F16J15/08GK101076685SQ200480044578
公開日2007年11月21日 申請(qǐng)日期2004年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月10日
發(fā)明者阿明·迪茨, 馬丁·比德爾曼 申請(qǐng)人:愛爾鈴克鈴爾股份公司