專利名稱：一種新型渦旋壓縮機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種新型渦旋壓縮機(jī)，尤其是涉及一種適用于制冷、空調(diào)及類似用途的渦旋壓縮機(jī)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有渦旋壓縮機(jī)軸向有浮動(dòng)和非浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，浮動(dòng)結(jié)構(gòu)與非浮動(dòng)結(jié)構(gòu)相比，其內(nèi)部泄露更小，輸氣效率更高。浮動(dòng)結(jié)構(gòu)又有靜渦盤浮動(dòng)和動(dòng)渦盤浮動(dòng)兩種方式。為了渦盤工作貼合，兩種方式都設(shè)置氣體背壓室，都會(huì)產(chǎn)生過(guò)大的背壓力，從而增大摩擦功耗，尤其動(dòng)渦盤浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，為克服傾覆力矩，背壓力更大。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷而提供一種泄漏小、可避免 渦盤咬死的新型渦旋壓縮機(jī)。本發(fā)明的目的可以通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)一種新型渦旋壓縮機(jī)，包括上支架、曲軸、動(dòng)渦盤和靜渦盤，其特征在于，所述的上支架由上支架固定部分和上支架浮動(dòng)部分組成，上支架浮動(dòng)部分設(shè)置在上支架固定部分上，所述的曲軸安裝在上支架固定部分內(nèi)，上支架固定部分支撐靜渦盤，所述的動(dòng)渦盤設(shè)置在上支架浮動(dòng)部分上并與靜渦盤相匹配。所述的上支架固定部分和上支架浮動(dòng)部分之間設(shè)有背壓腔，上支架浮動(dòng)部分受到背壓腔的支撐。所述的背壓腔由多個(gè)密封腔構(gòu)成，密封腔內(nèi)引入相同或不同壓力的氣體。所述的密封腔由設(shè)置在上支架固定部分或上支架浮動(dòng)部分上的凹槽以及該凹槽上的密封條組成，所述的多個(gè)密封腔包括I 5個(gè)。所述的動(dòng)渦盤和靜渦盤的齒頂和齒底之間設(shè)有O. 01 Imm的間隙。所述的動(dòng)渦盤安裝在上支架浮動(dòng)部分上，并可隨上支架浮動(dòng)部分上下運(yùn)動(dòng)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明將浮動(dòng)結(jié)構(gòu)設(shè)置在上支架中，動(dòng)渦盤與非浮動(dòng)結(jié)構(gòu)的渦旋壓縮機(jī)一樣，工作時(shí)是坐落在上支架上的，動(dòng)、靜渦盤的齒頂、齒底間保持一個(gè)很小的間隙量，使得壓縮中的內(nèi)泄漏大大降低，從而提高效率；當(dāng)渦盤齒異常伸長(zhǎng)或相似情況發(fā)生時(shí)，上支架中的浮動(dòng)結(jié)構(gòu)發(fā)生作用，動(dòng)渦盤隨著上支架一同向下，從而使渦盤不會(huì)咬死，發(fā)生破壞性磨損。


圖I為本發(fā)明新型渦旋壓縮機(jī)浮動(dòng)結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明渦旋壓縮機(jī)出現(xiàn)異常時(shí)動(dòng)渦盤與上支架浮動(dòng)部分一起下降的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。實(shí)施例如圖I 2所示，一種新型渦旋壓縮機(jī)，包括上支架、曲軸5、動(dòng)渦盤3和靜渦盤4，所述的上支架由上支架固定部分I和上支架浮動(dòng)部分2組成，上支架浮動(dòng)部分2設(shè)置在上支架固定部分I上，所述的曲軸5安裝在上支架固定部分I內(nèi)，上支架固定部分I與普通上支架一樣安裝曲軸軸承，固定靜渦盤，提供支撐，上支架固定部分I支撐靜渦盤4，所述的動(dòng)渦盤3設(shè)置在上支架浮動(dòng)部分2上并與靜渦盤3相匹配。所述的上支架固定部分I和上支架浮動(dòng)部分2之間設(shè)有背壓腔6。背壓腔6由多個(gè)密封腔構(gòu)成，密封腔內(nèi)引入相同或不同壓力的氣體。所述的密封腔由設(shè)置在上支架固定部分(也可設(shè)置在上支架浮動(dòng)部分)上的凹槽以及該凹槽上的密封條組成，所述的多個(gè)密封腔根據(jù)需要可設(shè)置I 5個(gè)。上支架浮動(dòng)部分2的上鏡面與動(dòng)渦盤3配合形成摩擦副，在 四周外側(cè)，上支架浮動(dòng)部分2有支撐部分支撐到靜渦盤4上，支撐部分與上鏡面間的高差，比動(dòng)渦盤的底板厚度稍大，使動(dòng)渦盤與靜渦盤間工作時(shí)留有微小間隙，動(dòng)渦盤3和靜渦盤4的齒頂和齒底之間設(shè)有O. 01 Imm的間隙。當(dāng)渦旋壓縮機(jī)正常工作時(shí)，背壓腔6內(nèi)的氣體將上支架浮動(dòng)部分2浮起，上支架浮動(dòng)部分2外側(cè)的支撐部分支撐到靜渦盤4上，此時(shí)動(dòng)渦盤3與靜渦盤4間齒頂、齒底均為微小間隙A，不接觸摩擦，泄露又小，可得到較好的效率。如圖I所示。當(dāng)渦盤齒異常伸長(zhǎng)或相似情況發(fā)生時(shí)，動(dòng)渦盤3給上支架浮動(dòng)部分2的力增大到一定程度時(shí)，背壓腔6提供的浮力不足，上支架浮動(dòng)部分2同動(dòng)渦盤3 —起下降，上支架固定部分I和上支架浮動(dòng)部分2的間隙C減小，動(dòng)渦盤3退讓形成間隙B，避免渦盤咬死情況發(fā)生。如圖2所示。
權(quán)利要求
1.一種新型渦旋壓縮機(jī)，包括上支架、曲軸、動(dòng)渦盤和靜渦盤，其特征在于，所述的上支架由上支架固定部分和上支架浮動(dòng)部分組成，上支架浮動(dòng)部分設(shè)置在上支架固定部分上，所述的曲軸安裝在上支架固定部分內(nèi)，上支架固定部分支撐靜渦盤，所述的動(dòng)渦盤設(shè)置在上支架浮動(dòng)部分上并與靜渦盤相匹配。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種新型渦旋壓縮機(jī)，其特征在于，所述的上支架固定部分和上支架浮動(dòng)部分之間設(shè)有背壓腔，上支架浮動(dòng)部分受到背壓腔的支撐。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種新型渦旋壓縮機(jī)，其特征在于，所述的背壓腔由多個(gè)密封腔構(gòu)成，密封腔內(nèi)引入相同或不同壓力的氣體。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種新型渦旋壓縮機(jī)，其特征在于，所述的密封腔由設(shè)置在上支架固定部分或上支架浮動(dòng)部分上的凹槽以及該凹槽上的密封條組成，所述的多個(gè)密封腔包括I 5個(gè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種新型渦旋壓縮機(jī)，其特征在于，所述的動(dòng)渦盤和靜渦盤的齒頂和齒底之間設(shè)有O. Ol Imm的間隙。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種新型渦旋壓縮機(jī)，其特征在于，所述的動(dòng)渦盤安裝在上支架浮動(dòng)部分上，并可隨上支架浮動(dòng)部分上下運(yùn)動(dòng)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種新型渦旋壓縮機(jī)，包括上支架、曲軸、動(dòng)渦盤和靜渦盤，所述的上支架由上支架固定部分和上支架浮動(dòng)部分組成，上支架浮動(dòng)部分設(shè)置在上支架固定部分上，所述的曲軸安裝在上支架固定部分內(nèi)，上支架固定部分支撐靜渦盤，所述的動(dòng)渦盤設(shè)置在上支架浮動(dòng)部分上并與靜渦盤相匹配。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有泄漏小、可避免渦盤咬死等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)F04C18/02GK102817842SQ20111015522
公開日2012年12月12日 申請(qǐng)日期2011年6月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月9日
發(fā)明者宋雪峰, 楊軍, 牟英濤 申請(qǐng)人:上海日立電器有限公司