專利名稱：真空排氣裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在主泵上串聯(lián)連接有輔助泵的真空排氣裝置，特別涉及能夠?qū)崿F(xiàn)排氣 速度的提高的真空排氣裝置。本申請(qǐng)基于2008年9月10日于日本申請(qǐng)的特愿2008-232324號(hào)主張優(yōu)先權(quán)，在 此援用其內(nèi)容。
背景技術(shù)：
作為排氣至中度真空的現(xiàn)有的真空排氣裝置之一，具有串聯(lián)連接作為主泵發(fā)揮功 能的機(jī)械增壓泵(以下稱為MBP)與作為輔助泵發(fā)揮功能的干泵(以下稱為DRP)的真空排 氣裝置(例如參考專利文獻(xiàn)1)。在這種真空排氣裝置中，由于主要著眼于達(dá)到目標(biāo)真空度，因此第一級(jí)的MBP的 排氣量大于第二級(jí)的DRP的排氣量。具體而言，主泵的排氣量設(shè)定為輔助泵的排氣量的5 倍 10倍。據(jù)此，在中度真空區(qū)域中利用DRP的輔助排氣能夠充分發(fā)揮MBP的排氣性能。此外，在這種真空排氣裝置中，開(kāi)始大氣壓腔室的真空排氣時(shí)，打開(kāi)設(shè)置在腔室 與MBP的吸氣配管的中途的閘閥，但在該瞬間來(lái)自于腔室的壓力變?yōu)闆_擊波進(jìn)行傳播會(huì)對(duì) MBP造成沖擊。因此，MBP要求能夠耐受該沖擊波的機(jī)械強(qiáng)度。作為以緩和腔室打開(kāi)時(shí)的瞬時(shí)的沖擊為目的的現(xiàn)有技術(shù)的例子，具有在MBP與 DRP之間的配管的中途配置如緩沖箱這樣的用于釋放沖擊壓力的箱子，從而緩和瞬時(shí)的壓 力變化的結(jié)構(gòu)(例如參考專利文獻(xiàn)1)。另外，作為以緩和上述瞬時(shí)的沖擊為目的的其他現(xiàn)有技術(shù)的例子，具有設(shè)置用于 從主泵的排氣側(cè)返回主泵的吸氣側(cè)的旁通配管的裝置，或設(shè)置用于將規(guī)定壓力以上的氣體 從主泵的排氣側(cè)送至輔助泵的排氣側(cè)的旁通配管的裝置(例如參考專利文獻(xiàn)1)。專利文獻(xiàn)1 特開(kāi)2007-127048號(hào)公報(bào)如液晶制造裝置的裝載室(以下稱為L(zhǎng)C)這樣，為了從大氣壓至中度真空區(qū)域反 復(fù)排氣而使用真空排氣裝置時(shí)，為了提高生產(chǎn)率達(dá)到目標(biāo)真空度的達(dá)到時(shí)間成為其性能的 一個(gè)指標(biāo)。因此，在這種真空排氣裝置中，中度真空區(qū)域自不必說(shuō)，還會(huì)要求低真空區(qū)域和 大氣壓附近的減壓區(qū)域的高排氣特性。但是，在串聯(lián)配置MBP與DRP，第一級(jí)的MBP的排氣能力大于第二級(jí)的DRP的排氣 能力的上述現(xiàn)有的真空排氣裝置中，從MBP排出的氣體必定通過(guò)DRP。因此，在大氣壓附近 減壓區(qū)域和低真空區(qū)域中，MBP的排氣性能被DRP的排氣性能制約，MBP的排出壓相比吸入 壓為高壓。所以，導(dǎo)致MBP進(jìn)行不需要的壓縮做功，其轉(zhuǎn)數(shù)顯著下降。其結(jié)果是MBP無(wú)法充 分發(fā)揮作為鼓風(fēng)機(jī)的效果。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決這種現(xiàn)有的課題，本發(fā)明的目的在于提供一種不大幅改變主泵和輔助泵 的結(jié)構(gòu)就能夠縮短達(dá)到目標(biāo)真空度的排氣時(shí)間的真空排氣裝置。
為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用以下方案。即，本發(fā)明的一個(gè)方式所涉及的真空排 氣裝置，具備主泵；與所述主泵串聯(lián)連接的輔助泵；以及連接所述主泵的排氣口與所述輔 助泵的吸氣口之間的泵間配管，所述主泵包括機(jī)械增壓泵，所述主泵的發(fā)動(dòng)機(jī)的最大功率 對(duì)所述主泵的最大排氣速度的比率為5W(m3/h)以上，在所述泵間配管上設(shè)置有從該泵間配 管的中途分支的分支配管，在所述分支配管的中途設(shè)置有釋放所述泵間配管內(nèi)的氣體并防 止該氣體倒流的逆止閥。所述主泵也可以包括并聯(lián)配置的多個(gè)所述機(jī)械增壓泵。另外，所述分支配管也可以終止于所述輔助泵的排氣配管。進(jìn)一步，優(yōu)選在大氣壓下運(yùn)轉(zhuǎn)所述主泵時(shí)，所述逆止閥的氣體流量的壓力損失為 IOOOOPa 以下。發(fā)明的效果根據(jù)上述本發(fā)明的一個(gè)方式，通過(guò)將主泵的發(fā)動(dòng)機(jī)設(shè)為大輸出并設(shè)置逆止閥和分 支配管，即使在大氣壓附近主泵的排氣速度也不會(huì)被輔助泵的排氣速度限制，能夠提高大 氣壓附近和低真空區(qū)域的排氣速度。其結(jié)果是不大幅改變主泵和輔助泵的結(jié)構(gòu)就能夠縮短 達(dá)到目標(biāo)真空度的排氣時(shí)間。


圖1是說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式1所涉及的真空排氣裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖；圖2是說(shuō)明比較例1所涉及的真空排氣裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖；圖3是說(shuō)明比較例2所涉及的真空排氣裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖；圖4A是說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式1和比較例1、2所涉及的真空排氣裝置的排氣速 度特性(排氣性能)的圖；圖4B是說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式1和比較例1、2中的LC20的壓力特性的圖；圖5是說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式2所涉及的真空排氣裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖。
具體實(shí)施例方式下面參考附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。此外，本發(fā)明并不限定于此，在 不脫離本發(fā)明的宗旨的范圍內(nèi)可以進(jìn)行各種變更。<實(shí)施方式1>圖1是說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式1所涉及的真空排氣裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖。該實(shí)施 方式ι所涉及的真空排氣裝置100具備主泵1、輔助泵2和逆止閥3。腔室20例如為構(gòu)成半導(dǎo)體制造裝置等的處理室或搬送室，通過(guò)真空排氣裝置100 進(jìn)行真空排氣。這里，腔室20為液晶制造裝置的裝載室(以下稱為L(zhǎng)C)。閘閥30設(shè)置在連接LC20的排氣口與MBPl的吸氣口的配管(吸入配管)40的中 途。該閘閥30在通過(guò)真空排氣裝置100開(kāi)始開(kāi)放為大氣壓的LC20的排氣時(shí)打開(kāi)，在將真 空排氣后的LC20開(kāi)放為大氣壓時(shí)關(guān)閉。在真空排氣裝置100中，主泵1和輔助泵2通過(guò)連接主泵1的排氣口與輔助泵2的 吸氣口的配管(泵間配管)50串聯(lián)連接。輔助泵2的排氣口連接于配管(排氣配管)60。這樣在真空排氣裝置100中，主泵1和輔助泵2串聯(lián)連接。另外，經(jīng)由閘閥30直接連接于LC20的排氣口的第一級(jí)的泵為主泵，配置在該主泵的排氣口側(cè)的第二級(jí)的泵為 輔助泵。這里，主泵1為機(jī)械增壓泵(以下稱為MBP)。另外，輔助泵2為干泵(以下稱為 DRP) 0此外，主泵1并不限于由一個(gè)(一級(jí))MBP構(gòu)成，也可以由被稱為多重增壓泵的兩級(jí) MBP構(gòu)成，還可以由多級(jí)MBP等構(gòu)成。MBPl在構(gòu)成現(xiàn)有的真空排氣裝置的MBP中不改變泵部而是增大其發(fā)動(dòng)機(jī)的輸出。 現(xiàn)有裝置的MBP的上述發(fā)動(dòng)機(jī)的最大功率(單位W)對(duì)最大排氣速度(單位m3/h)的比率 不滿5ff/(m3/h)(例如，10000 (W)/3600 (m3/h) = 2. 77)，但本實(shí)施方式所涉及的MBPl中，上 述比率為5W/(m7h)以上(例如，30000 (W)/3600 (m3/h) =8.33)。此夕卜，MBP的排氣速度在 中度真空區(qū)域中(例如吸入壓力為13 時(shí))最大。另外，在該真空排氣裝置100中設(shè)置有從泵間配管50分支且終端連接于DRP2的 排氣配管60的配管(分支配管)70。在該配管70的中途設(shè)置有逆止閥3。當(dāng)泵間配管50內(nèi)的壓力高于排氣配管60內(nèi)的壓力時(shí)，逆止閥3將泵間配管50內(nèi) 的氣體釋放到排氣配管60，并防止排氣配管60內(nèi)的氣體倒流到泵間配管50。優(yōu)選該逆止 閥3具有即使在大氣壓下運(yùn)轉(zhuǎn)MBPl也不會(huì)產(chǎn)生壓力損失的充分的容量。例如，優(yōu)選在大氣 壓下運(yùn)轉(zhuǎn)MBPl時(shí)，逆止閥3在大氣壓下的氣體流量的壓力損失為IOOOOPa以下。根據(jù)本實(shí)施方式所涉及的真空排氣裝置，通過(guò)采用具有大輸出發(fā)動(dòng)機(jī)的MBPljg 夠主要改善低真空區(qū)域中的排氣性能。由于原本在大氣壓附近無(wú)需利用MBP進(jìn)行壓縮，因 此MBP單體的排氣速度大于DRP單體的排氣速度。但是，在串聯(lián)連接MBP與DRP的結(jié)構(gòu)中， 由于在大氣壓附近和低真空區(qū)域中MBP的排氣壓相比吸入壓變?yōu)楦邏?，因此MBP的排氣速 度被DRP的排氣速度制約，MBP的轉(zhuǎn)數(shù)下降。通過(guò)將MBPl的發(fā)動(dòng)機(jī)設(shè)為大輸出發(fā)動(dòng)機(jī)，主 要能夠抑制在低真空區(qū)域中的轉(zhuǎn)數(shù)的下降，能夠改善排氣速度。進(jìn)而，在本實(shí)施方式所涉及的真空排氣裝置中，由于設(shè)置有逆止閥3和分支配管 70，因此能夠改善大氣壓附近的排氣特性。通過(guò)配置壓力損失小的逆止閥3，在低真空區(qū)域 和大氣壓附近，當(dāng)MBPl的排氣壓力(泵間配管50內(nèi)的壓力)上升時(shí)，能夠?qū)⒈瞄g配管50 內(nèi)的氣體釋放到排氣配管60，從而抑制MBPl的排氣壓力。據(jù)此，能夠有效利用MBPl作為鼓 風(fēng)機(jī)，其結(jié)果是不會(huì)被DRP2的排氣性能制約。逆止閥3中的壓力損失越少其效果越大。這樣在本實(shí)施方式所涉及的真空排氣裝置中，通過(guò)采用具有大輸出發(fā)動(dòng)機(jī)的MBPl 并設(shè)置逆止閥3和分支配管70，從而能夠改善低真空區(qū)域和大氣壓附近的排氣速度，其結(jié) 果是能夠縮短LC20的排氣時(shí)間。進(jìn)而，通過(guò)設(shè)置逆止閥3和分支配管70，當(dāng)為了開(kāi)始大氣壓的LC20的真空排氣而 打開(kāi)閘閥30時(shí)，由于來(lái)自于LC20的壓力沖擊波經(jīng)由逆止閥3被釋放，因此能夠緩和MBPl 受到的沖擊。據(jù)此，MBPl難以受到強(qiáng)度設(shè)計(jì)的制約，進(jìn)而能夠提高M(jìn)BPl的耐久性。圖2是說(shuō)明比較例1所涉及的真空排氣裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖，對(duì)與圖1相同的結(jié) 構(gòu)標(biāo)注相同的符號(hào)。在該比較例1所涉及的真空排氣裝置101中MBPll與DRP2串聯(lián)配置。 MBPll具有與實(shí)施方式1所涉及的MBPl同樣的泵部以及相比MBPl低輸出的發(fā)動(dòng)機(jī)。也就 是，MBPll的發(fā)動(dòng)機(jī)的最大功率(單位W)對(duì)最大排氣速度的比率不滿5W/(m3/h)。圖3是說(shuō)明比較例2所涉及的真空排氣裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖，對(duì)與圖1相同的結(jié) 構(gòu)標(biāo)注相同的符號(hào)。在該比較例2所涉及的真空排氣裝置102中MBPl與DRP2串聯(lián)配置。也 就是，比較例2所涉及的真空排氣裝置102為在實(shí)施方式1所涉及的真空排氣裝置100 (參考圖1)中不設(shè)置逆止閥3和分支配管70的結(jié)構(gòu)，并且在比較例1所涉及的真空排氣裝置 101(參考圖2)中將MBPll變更為MBPl。圖4A和4B是說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式1和比較例1、2所涉及的真空排氣裝置的排 氣特性的圖。具體而言，圖4A為DRP2單體以及實(shí)施方式1和比較例1、2所涉及的真空排 氣裝置的排氣速度特性(排氣性能)，圖4B為實(shí)施方式1和比較例1、2中的LC20的壓力 特性(LC20的壓力推移)。在這些圖4A和4B中，A為大氣壓Al和大氣壓附近的減壓區(qū)域 (大氣壓附近區(qū)域)、B為低真空區(qū)域、C為高真空區(qū)域。另外，al表示DRP2單體中的特性、 bl和Μ表示比較例1所涉及的真空排氣裝置101的特性、cl和c2表示比較例2所涉及的 真空排氣裝置102的特性、而且dl和d2表示實(shí)施方式1所涉及的真空排氣裝置100的特 性。例如，區(qū)域A為從1013001^(大氣壓Al)到30000Pa的范圍、低真空區(qū)域B為從 30000Pa到13301 的范圍、中度真空區(qū)域C為13301 以下的范圍。如圖4A的特性曲線al所示，DRP2單體的排氣速度在大氣壓附近區(qū)域A和低真空 區(qū)域B中大致是一定的，進(jìn)而進(jìn)入中度真空區(qū)域C也保持一定，但隨著接近目標(biāo)達(dá)到真空度 而緩緩下降。另外，如圖4A的特性曲線bl所示，比較例1所涉及的真空排氣裝置101的排氣速 度隨著從大氣壓附近區(qū)域A經(jīng)過(guò)低真空區(qū)域B進(jìn)入中度真空區(qū)域C而上升。此后，真空排 氣裝置101的排氣速度在中度真空區(qū)域C中與低真空區(qū)域B的邊界與目標(biāo)達(dá)到真空度的中 間附近最大，隨著接近目標(biāo)達(dá)到真空度而下降。如圖4A的特性曲線c 1所示，通過(guò)采用與比較例1的MBP11相比高輸出的MBP1，比 較例2在低真空區(qū)域B中的排氣速度與比較例1的情況(特性曲線bl)相比有所提高。但 是，在大氣壓附近區(qū)域A中，由于MBPl的排氣性能被DRP2的排氣性能制約，因此雖然比較 例2的排氣速度與比較例1相比有所提高，但是并不能說(shuō)能夠充分發(fā)揮MBPl的排氣能力。 此外，由于泵部相同，在中度真空區(qū)域C中的比較例2的排氣速度特性與比較例1的情況相 同。與此相對(duì)，如圖4A的特性曲線dl所示，在實(shí)施方式1所涉及的真空排氣裝置100 中，通過(guò)采用與比較例1的MBPl 1相比高輸出的MBPl，低真空區(qū)域B中的排氣速度與上述比 較例1(特性曲線bl)相比有所提高，與比較例2 (特性曲線c2)的情況等同。進(jìn)一步，在實(shí) 施方式1所涉及的真空排氣裝置100中，由于設(shè)置有逆止閥3和分支配管70，因此MBPl的 排氣性能不會(huì)被DRP2的排氣性能制約。所以，本實(shí)施方式中的大氣壓附近區(qū)域A中的排氣 性能與比較例2的情況(特性曲線cl)相比有所提高。此外，由于MBP相同，實(shí)施方式1所涉及的真空排氣裝置100在低真空區(qū)域B和中 度真空區(qū)域C中的排氣速度特性與比較例2的情況相同。如圖4B所示，LC20的壓力推移與真空排氣裝置的排氣性能對(duì)應(yīng)。因此，在低真空 區(qū)域B和中度真空區(qū)域C中，比較例2的特性曲線c2與實(shí)施方式1所涉及的真空排氣裝置 100的特性曲線d2平行。進(jìn)一步，在中度真空區(qū)域C中，比較例1的特性曲線b2、比較例2 的特性曲線c2與實(shí)施方式1所涉及的真空排氣裝置100的特性曲線d2平行。比較例2所涉及的真空排氣裝置102由于與比較例1所涉及的真空排氣裝置101 相比，在大氣壓和大氣壓附近區(qū)域A以及低真空區(qū)域B中的排氣性能優(yōu)異，因此達(dá)到低真空區(qū)域B的時(shí)間和達(dá)到中度真空區(qū)域C的時(shí)間分別較短。另外，實(shí)施方式1所涉及的真空排 氣裝置100由于與比較例2所涉及的真空排氣裝置102相比，在大氣壓附近區(qū)域A中的排 氣性能優(yōu)異，因此達(dá)到低真空區(qū)域B的時(shí)間較短。因此，實(shí)施方式1所涉及的真空排氣裝置100、比較例1所涉及的真空排氣裝置 101、比較例2所涉及的真空排氣裝置102之中，實(shí)施方式1所涉及的真空排氣裝置100能 夠以最短時(shí)間達(dá)到中度真空區(qū)域C中設(shè)定的目標(biāo)真空度。此外，根據(jù)比較例2所涉及的真 空排氣裝置102，與比較例1所涉及的真空排氣裝置101相比也能夠以更短的時(shí)間達(dá)到上述
目標(biāo)真空度。這樣在實(shí)施方式1所涉及的真空排氣裝置100中，由于采用與比較例1的MBPll 相比高輸出的MBP1，因此在低真空區(qū)域B和大氣壓附近區(qū)域A中能夠?qū)崿F(xiàn)與比較例1的情 況相比更高的排氣速度。進(jìn)一步，通過(guò)設(shè)置逆止閥3和分支配管70，從而在大氣壓附近區(qū)域 A中能夠?qū)崿F(xiàn)與比較例2所涉及的真空排氣裝置102相比更高的排氣速度。因此，在實(shí)施方式1所涉及的真空排氣裝置100中，可以說(shuō)能夠在低真空區(qū)域B和 大氣壓附近區(qū)域A中充分發(fā)揮MBPl的排氣能力。根據(jù)以上所述的實(shí)施方式1所涉及的真空排氣裝置100，通過(guò)將MBPl的發(fā)動(dòng)機(jī)設(shè) 為大輸出并設(shè)置逆止閥3和分支配管70，即使在大氣壓附近主泵的排氣速度也不受輔助泵 的排氣速度限制，從而能夠提高大氣壓附近和低真空區(qū)域的排氣速度。因此，能夠?qū)BPl 和DRP2的結(jié)構(gòu)變更限制在最小限度的同時(shí)提高大氣壓附近區(qū)域A和低真空區(qū)域B中的排 氣性能，其結(jié)果是能夠以短時(shí)間使LC20達(dá)到目標(biāo)真空度。此外，在上述實(shí)施方式1中，也可以不將分支配管70終止于DRP2的排氣配管60， 而是將該分支配管70設(shè)為另外的排氣配管。<實(shí)施方式2>圖5是說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式2所涉及的真空排氣裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖，對(duì)與圖 1相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的符號(hào)。該實(shí)施方式2所涉及的真空排氣裝置200具備并聯(lián)配置 兩個(gè)泵(MBP)21a、21b的主泵21、輔助泵2、以及逆止閥3。也就是，實(shí)施方式2所涉及的真 空排氣裝置200通過(guò)并聯(lián)配置的兩個(gè)MBP21a、21b構(gòu)成在上述實(shí)施方式1所涉及的真空排 氣裝置100(參考圖1)中由一個(gè)MBP構(gòu)成的主泵1。在該真空排氣裝置200中，由于并聯(lián)配置多個(gè)泵來(lái)構(gòu)成主泵，因此即使不將構(gòu)成 該主泵的各個(gè)泵的發(fā)動(dòng)機(jī)設(shè)為高輸出，也能夠增大主泵整體的容量。也就是，在該實(shí)施方式2中，通過(guò)并聯(lián)配置發(fā)動(dòng)機(jī)的最大功率(單位W)對(duì)最大排 氣速度的比率不滿5W/(m3/h)但合起來(lái)為5W/(m3/h)以上的兩個(gè)MBP，從而實(shí)現(xiàn)高輸出的主 泵21。根據(jù)以上所述的實(shí)施方式2所涉及的真空排氣裝置200，通過(guò)采用多個(gè)MBP并聯(lián)配 置的高輸出的主泵21，從而能夠與上述實(shí)施方式1同樣提高大氣壓附近區(qū)域A和低真空區(qū) 域B中的排氣性能，其結(jié)果是能夠以短時(shí)間使LC20達(dá)到目標(biāo)的真空度。此外，也可以由并聯(lián)配置的三個(gè)以上的泵構(gòu)成主泵，并聯(lián)配置多臺(tái)輔助泵，或者將 主泵與輔助泵分別并聯(lián)配置多臺(tái)。另外，也可以在每個(gè)構(gòu)成主泵的泵上設(shè)置與LC20之間的 配管和間閥。進(jìn)而，還可以在每個(gè)構(gòu)成主泵的泵上設(shè)置逆止閥和分支配管。產(chǎn)業(yè)上的利用可能性
7
根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種將主泵和輔助泵的結(jié)構(gòu)變更限制在最小限度，并能夠 縮短達(dá)到目標(biāo)真空度的排氣時(shí)間的真空排氣裝置。符號(hào)說(shuō)明
1主泵(MBP)
2輔助泵(DRP)
3逆止閥
20腔室(LC)
21主泵
21a,21b MBP
30閘閥
40、50、60、70 配管
100,200真空排氣裝置
權(quán)利要求
1.一種真空排氣裝置，具備 主泵；與所述主泵串聯(lián)連接的輔助泵；以及連接所述主泵的排氣口與所述輔助泵的吸氣口之間的泵間配管， 其特征在于，所述主泵包括機(jī)械增壓泵，所述主泵的發(fā)動(dòng)機(jī)的最大功率對(duì)所述主泵的最大排氣速度的比率為5W(m3/h)以上，在所述泵間配管上設(shè)置有從該泵間配管的中途分支的分支配管，在所述分支配管的中途設(shè)置有釋放所述泵間配管內(nèi)的氣體并防止該氣體倒流的逆止閥。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空排氣裝置，其特征在于，所述主泵包括并聯(lián)配置的多個(gè) 所述機(jī)械增壓泵。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空排氣裝置，其特征在于，所述分支配管終止于所述輔助 泵的排氣配管。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的真空排氣裝置，其特征在于，在大氣壓下運(yùn)轉(zhuǎn)所 述主泵時(shí)，所述逆止閥的氣體流量的壓力損失為IOOOOPa以下。
全文摘要
一種真空排氣裝置，具備主泵；與所述主泵串聯(lián)連接的輔助泵；以及連接所述主泵的排氣口與所述輔助泵的吸氣口之間的泵間配管，所述主泵包括機(jī)械增壓泵，所述主泵的發(fā)動(dòng)機(jī)的最大功率對(duì)所述主泵的最大排氣速度的比率為5W(m3/h)以上，在所述泵間配管上設(shè)置有從該泵間配管的中途分支的分支配管，在所述分支配管的中途設(shè)置有釋放所述泵間配管內(nèi)的氣體并防止該氣體倒流的逆止閥。
文檔編號(hào)F04B39/10GK102124225SQ20098013217
公開(kāi)日2011年7月13日 申請(qǐng)日期2009年9月10日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月10日
發(fā)明者柴山浩司, 鈴木敏生 申請(qǐng)人:株式會(huì)社愛(ài)發(fā)科