水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及消毒液制備裝置，特別涉及一種水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]作為一種新型氧化劑和消毒劑，二氧化氯以其高效、廣譜、無(wú)殘留、無(wú)副產(chǎn)物的消毒能力和脫色、除臭、除異味等強(qiáng)氧化能力已經(jīng)成為水處理領(lǐng)域的佼佼者。目前現(xiàn)有二氧化氯發(fā)生器基本上都是由兩個(gè)獨(dú)立的原料罐合一個(gè)反應(yīng)釜構(gòu)成，雖然結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，但由于受反應(yīng)時(shí)間、溫度以及混合程度的限制，二氧化氯的轉(zhuǎn)化率較低，不僅浪費(fèi)原料、運(yùn)行成本高、消毒滅菌效果差，而且還容易形成鹵代烴而造成危害。而且將二氧化氯發(fā)生器制造出來(lái)的二氧化氯直接用來(lái)對(duì)污水消毒處理，則生產(chǎn)過(guò)程中所產(chǎn)生的殘液直接投放到水體中后會(huì)很容易對(duì)水體造成二次污染，影響水質(zhì)，尤其是在飲用水的消毒、凈化過(guò)程中更為值得重視。此夕卜，現(xiàn)有二氧化氯發(fā)生器整體性較差，占地面積較大。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]有鑒于此，本實(shí)用新型在于提供一種整體性較強(qiáng)且占地面積較小的水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，不僅不會(huì)對(duì)水體產(chǎn)生二次污染，而且還能保證消毒殺菌效果。
[0004]為解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案:水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，包括二氧化氯制備裝置和水射器，所述二氧化氯制備裝置包括電解槽、儲(chǔ)鹽容器、陽(yáng)極、陰極、中性極、電解隔膜和直流電電源，所述電解槽的槽壁上設(shè)有堿性溶液排放口和氣體排放口 ；所述陽(yáng)極、所述陰極、所述中性極和所述電解隔膜分別設(shè)在所述電解槽內(nèi)，所述中性極和所述電解隔膜分別設(shè)在所述陽(yáng)極和所述陰極之間，所述電解隔膜設(shè)在所述陰極與所述中性極之間，所述電解槽與所述儲(chǔ)鹽容器流體導(dǎo)通連接，所述氣體排放口與所述水射器的進(jìn)氣端流體導(dǎo)通連接，所述水射器的進(jìn)水端與砂濾池流體導(dǎo)通連接，所述水射器的出液端與消毒液輸出管流體導(dǎo)通連接；所述陽(yáng)極與所述直流電電源的正極電連接，所述陰極與所述直流電電源的負(fù)極電連接。
[0005]上述水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，所述儲(chǔ)鹽容器為儲(chǔ)鹽池。
[0006]上述水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，所述儲(chǔ)鹽池為飽和食鹽水儲(chǔ)備池。
[0007]上述水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，所述直流電電源為整流器。
[0008]上述水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，所述氣體排放口設(shè)在位于所述電解隔膜與所述中性極之間的所述電解槽頂部槽壁上。
[0009]上述水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，所述堿性溶液排放口設(shè)在臨近所述陰極且臨近所述電解槽槽底的所述電解槽槽壁上。
[0010]本實(shí)用新型的有益效果是:
[0011]1.本實(shí)用新型具有較強(qiáng)的整體性，而且占地面積小，有利于提高場(chǎng)地使用率。
[0012]2.本實(shí)用新型的電解槽采用鈦材或聚氯乙烯塑料制成，具有較強(qiáng)的耐腐蝕性。
[0013]3.本實(shí)用新型具有較長(zhǎng)的使用壽命。
【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1為本實(shí)用新型水處理系統(tǒng)消毒液制備裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖中:1-電解槽，2-水射器，3-陽(yáng)極，4-中性極，5-電解隔膜，6_陰極，7_堿性溶液排出口，8-直流電電源，9-儲(chǔ)鹽池，10-消毒液輸出管，11-砂濾池。
【具體實(shí)施方式】
[0016]為清楚說(shuō)明本實(shí)用新型中的方案，下面給出優(yōu)選的實(shí)施例并結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明。
[0017]如圖1所示，本實(shí)用新型水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，包括二氧化氯制備裝置和水射器2，所述二氧化氯制備裝置包括電解槽1、儲(chǔ)鹽容器、陽(yáng)極3、陰極6、中性極4、電解隔膜5和直流電電源8，所述電解槽I的槽壁上設(shè)有堿性溶液排放口 7和氣體排放口 ；所述陽(yáng)極3、所述陰極6、所述中性極4和所述電解隔膜5分別設(shè)在所述電解槽I內(nèi)，所述中性極和所述電解隔膜5分別設(shè)在所述陽(yáng)極3和所述陰極6之間，所述電解隔膜5設(shè)在所述陰極6與所述中性極4之間，所述電解槽I與所述儲(chǔ)鹽容器流體導(dǎo)通連接，所述氣體排放口與所述水射器2的進(jìn)氣端流體導(dǎo)通連接，所述水射器2的進(jìn)水端與砂濾池11流體導(dǎo)通連接，所述水射器2的出液端與消毒液輸出管10流體導(dǎo)通連接；所述陽(yáng)極3與所述直流電電源8的正極電連接，所述陰極6與所述直流電電源8的負(fù)極電連接。其中，所述電解隔膜5是一種多孔滲透性隔層，它不妨礙離子的迀移和電流通過(guò)并使它們以一定的速度流向陰極，但可以阻止氫氧根離子向陽(yáng)極擴(kuò)散，防止陰、陽(yáng)極產(chǎn)物間的機(jī)械混合，從而提高了氯氣的制備速率。
[0018]其中，所述儲(chǔ)鹽容器為儲(chǔ)鹽池9，本實(shí)施例中，所述儲(chǔ)鹽池9位飽和食鹽水儲(chǔ)備池；所述直流電電源8為整流器。
[0019]而且了便于所述電解槽I所產(chǎn)生的氣體向外排放，所述氣體排放口設(shè)在位于所述電解隔膜5與所述中性極4之間的所述電解槽I頂部槽壁上。而為了將所述電解槽I所產(chǎn)生的堿性溶液從所述電解槽I內(nèi)排放出來(lái)，所述堿性溶液排放口 7設(shè)在臨近所述陰極6且臨近所述電解槽I槽底的所述電解槽I槽壁上。
[0020]所述儲(chǔ)鹽池9容積較大，可以存儲(chǔ)較大量的飽和食鹽水，滿足所述電解槽I長(zhǎng)期運(yùn)行的需求。而由于在飽和食鹽水電解反應(yīng)的過(guò)程中，降低氫氧根離子的濃度有利于電解反應(yīng)的進(jìn)行，因而需要及時(shí)地將體系中的氫氧根離子以氫氧化鈉溶液的方式排出，而為了方便氫氧化鈉溶液從電解槽內(nèi)排出，所述堿性溶液排放口 7設(shè)在臨近所述電解槽I底部的所述電解槽I側(cè)壁上。這樣不僅有利于產(chǎn)生大量的氯氣，更有利于降低電解反應(yīng)消耗的電能，從而降低制備氯氣的成本，節(jié)約能源。
[0021]由于在飽和食鹽水電解反應(yīng)過(guò)程中，水也會(huì)單獨(dú)發(fā)生電解反應(yīng)，因而從所述氣體排放口內(nèi)排放出的氣體中不僅含有氯氣、氫氣，而且還含有氧氣等氣體。
[0022]所述水射器2從所述砂濾池11內(nèi)吸取制備消毒液用的水，并從所述電解槽I內(nèi)吸取制備消毒液用的氣體，然后使水與氣體混合產(chǎn)生有濃度的消毒液，并將消毒液輸入到所述消毒液輸送管10并用以水體的消毒使用。
[0023]本實(shí)用新型采用所述二氧化氯制備裝置和所述水射器2來(lái)制備水處理系統(tǒng)所需的消毒液，不僅整體性強(qiáng)、重量輕，而且有利于對(duì)所述陽(yáng)極5進(jìn)行保護(hù)，使之具有較長(zhǎng)的使用壽命。由于所述電解槽I采用鈦材及聚氯乙酸塑料制成，因而其具有較強(qiáng)的耐腐蝕性。
[0024]上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型創(chuàng)造所作的舉例，而并非對(duì)本實(shí)用新型創(chuàng)造【具體實(shí)施方式】的限定。對(duì)于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在上述說(shuō)明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動(dòng)。這里無(wú)需也無(wú)法對(duì)所有的實(shí)施方式予以窮舉。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所引伸出的任何顯而易見(jiàn)的變化或變動(dòng)仍處于本實(shí)用新型創(chuàng)造權(quán)利要求的保護(hù)范圍之中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，其特征在于，包括二氧化氯制備裝置和水射器(2)，所述二氧化氯制備裝置包括電解槽(1)、儲(chǔ)鹽容器、陽(yáng)極(3)、陰極￠)、中性極(4)、電解隔膜(5)和直流電電源(8)，所述電解槽(I)的槽壁上設(shè)有堿性溶液排放口(7)和氣體排放口 ；所述陽(yáng)極(3)、所述陰極￠)、所述中性極(4)和所述電解隔膜(5)分別設(shè)在所述電解槽(I)內(nèi)，所述中性極和所述電解隔膜(5)分別設(shè)在所述陽(yáng)極(3)和所述陰極(6)之間，所述電解隔膜(5)設(shè)在所述陰極(6)與所述中性極(4)之間，所述電解槽(I)與所述儲(chǔ)鹽容器流體導(dǎo)通連接，所述氣體排放口與所述水射器(2)的進(jìn)氣端流體導(dǎo)通連接，所述水射器(2)的進(jìn)水端與砂濾池(11)流體導(dǎo)通連接，所述水射器⑵的出液端與消毒液輸出管(10)流體導(dǎo)通連接；所述陽(yáng)極(3)與所述直流電電源(8)的正極電連接，所述陰極(6)與所述直流電電源(8)的負(fù)極電連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，其特征在于，所述儲(chǔ)鹽容器為儲(chǔ)鹽池(9)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，其特征在于，所述儲(chǔ)鹽池(9)為飽和食鹽水儲(chǔ)備池。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，其特征在于，所述直流電電源⑶為整流器。
5.根據(jù)權(quán)利要求1?4任一所述的水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，其特征在于，所述氣體排放口設(shè)在位于所述電解隔膜(5)與所述中性極(4)之間的所述電解槽(I)頂部槽壁上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1?4任一所述的水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，其特征在于，所述堿性溶液排放口(7)設(shè)在臨近所述陰極(6)且臨近所述電解槽(I)槽底的所述電解槽(I)槽壁上。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)水處理系統(tǒng)用消毒液制備裝置，包括二氧化氯制備裝置和水射器，所述二氧化氯制備裝置包括電解槽、儲(chǔ)鹽容器、陽(yáng)極、陰極、中性極、電解隔膜和直流電電源，所述電解槽的槽壁上設(shè)有堿性溶液排放口和氣體排放口；所述陽(yáng)極、所述陰極、所述中性極和所述電解隔膜分別設(shè)在所述電解槽內(nèi)，所述中性極和所述電解隔膜分別設(shè)在所述陽(yáng)極和所述陰極之間，所述電解隔膜設(shè)在所述陰極與所述中性極之間，所述電解槽與所述儲(chǔ)鹽容器流體導(dǎo)通連接，所述氣體排放口與所述水射器的進(jìn)氣端流體導(dǎo)通連接，所述水射器的進(jìn)水端與砂濾池流體導(dǎo)通連接。本實(shí)用新型整體性較強(qiáng)且占地面積較小，不僅不會(huì)對(duì)水體產(chǎn)生二次污染，而且還能保證消毒殺菌效果。
【IPC分類】C25B1-26, C25B9-08, A01P1-00, A01N59-00
【公開(kāi)號(hào)】CN204529992
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520217276
【發(fā)明人】韓喜頌, 張煜軒, 曹愛(ài)新, 王光輝
【申請(qǐng)人】北京銘澤源環(huán)境工程有限公司
【公開(kāi)日】2015年8月5日
【申請(qǐng)日】2015年4月10日