1.一種貴金屬含量高的粗銅電解精煉系統(tǒng)，其特征在于，包括：
用于容納工業(yè)電解液的電解槽，電解槽下方設(shè)有進(jìn)液口，電解槽上方設(shè)有溢流口，進(jìn)液口和溢流口開設(shè)在所述電解槽相對的兩個側(cè)壁上，工業(yè)電解液由進(jìn)液口流入電解槽，并由溢流口流出電解槽；
電解液低位槽，設(shè)于電解槽下方并分別與電解槽的進(jìn)液口和溢流口連通，在電解液低位槽與電解槽的進(jìn)液口間設(shè)有循環(huán)泵，循環(huán)泵用于將電解液低位槽內(nèi)的電解液直接泵入電解槽內(nèi)；
至少一個陽極，由待精煉的粗銅材料形成，并且被定位成用于與所述電解槽內(nèi)的工業(yè)電解液接觸，所述的陽極周圍套有陽極袋，陽極袋將陽極包裹在內(nèi)；
至少一個陰極，其被定位成用于與所述電解槽內(nèi)的工業(yè)電解液接觸；
陽極與陰極相對設(shè)置，進(jìn)液口的開口方向和溢流口的開口方向與陰極和陽極的固定方向平行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的貴金屬含量高的粗銅電解精煉系統(tǒng)，其特征在于：所述的陽極由粉碎后的粗銅制成，粉碎后的粗銅設(shè)置在鈦籃內(nèi)，在鈦籃外設(shè)有陽極袋。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的貴金屬含量高的粗銅電解精煉系統(tǒng)，其特征在于：所述的電流密度為600-1000A/m2。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的貴金屬含量高的粗銅電解精煉系統(tǒng)，其特征在于：所述的陽極有多個，通過陽極導(dǎo)電排并聯(lián)，所述的陰極有多個，通過陰極導(dǎo)電排并聯(lián)，陽極與陰極間隔設(shè)置。
5.一種貴金屬含量高的粗銅電解精煉方法，其特征在于：將待精煉的粗銅設(shè)置成至少一個陽極，該陽極與電解液接觸，該陽極外套設(shè)有陽極袋；將至少一個陰極與電解液接觸，該陽極和陰極設(shè)置在同一個電解槽內(nèi)，電解槽下方設(shè)有進(jìn)液口，電解槽上方設(shè)有溢流口，進(jìn)液口和溢流口開設(shè)在所述電解槽相對的兩個側(cè)壁上，工業(yè)電解液由進(jìn)液口流入電解槽，并由溢流口流出電解槽，電解液低位槽設(shè)于電解槽下方并分別與電解槽的進(jìn)液口和溢流口連通，在電解液低位槽與電解槽的進(jìn)液口間設(shè)有循環(huán)泵，循環(huán)泵用于將電解液低位槽內(nèi)的電解液直接泵入電解槽內(nèi)，電解過程中的電流密度為600-1000A/m2。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的貴金屬含量高的粗銅電解精煉方法，其特征在于：所述的陽極由粉碎后的粗銅制成，粉碎后的粗銅設(shè)置在鈦籃內(nèi)，在鈦籃外設(shè)有陽極袋。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的貴金屬含量高的粗銅電解精煉方法，其特征在于：所述的陽極有多個，通過陽極導(dǎo)電排并聯(lián)，所述的陰極有多個，通過陰極導(dǎo)電排并聯(lián)，陽極與陰極間隔設(shè)置。