一種鈦鎂合金微弧氧化方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種鈦鎂合金微弧氧化方法，以不銹鋼板為陰極，鈦鎂合金板為陽(yáng)極置入電解液中，將盛放電解液的容器置于30-40℃的恒溫水浴中，再將電極接通直流電源將電解液通電30分鐘，氧化電流密度為160-170Ma/cm2并不斷的攪拌電解液。本發(fā)明的方法可獲得6-10μm的灰色的氧化膜，膜層表面光滑。微觀下多孔，孔徑均勻，膜層含有大量的銳礦相及少量的鈦酸鎂相，并且浸潤(rùn)性好和生物活性好。并且電解液中不含磷酸根離子，符合環(huán)保要求。
【專利說(shuō)明】一種鈦鎂合金微弧氧化方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種鈦鎂合金的氧化方法，特別涉及一種鈦鎂合金微弧氧化方法。

【背景技術(shù)】
[0002]鈦及鈦鎂合金因?yàn)榱己玫纳锵嗳菪远蛔鳛槿梭w植入材料大量應(yīng)用于矯形外科、骨骼置換和各種關(guān)節(jié)修復(fù)及口腔種植等外科手術(shù)中，已經(jīng)成為最有發(fā)展前景的醫(yī)用材料之一。但是鈦合金的導(dǎo)熱性差，彈性模量低，不耐磨，與其它金屬接觸時(shí)容易發(fā)生接觸腐蝕，在人體環(huán)境中易發(fā)生點(diǎn)蝕、電偶腐蝕、縫隙腐蝕等，限制了鈦合金的使用。在所有的鈦合金表面處理技術(shù)中，目前應(yīng)該最多的是微弧氣化技術(shù)。微弧氧化技術(shù)主要針對(duì)鈦、鎂、鋁等閥金屬采用的一種表面處理工藝，工藝特點(diǎn)是氧化電壓突破了傳統(tǒng)陽(yáng)極氧化工作電壓的范圍，進(jìn)入高壓放電區(qū)，由于電極上發(fā)生了離子放電，在電極上原位生成氧化膜。此膜層硬度高，同基體熱膨脹系數(shù)接近，與基體結(jié)合強(qiáng)，耐磨、耐腐蝕性能好，因此微弧氧化技術(shù)具有廣闊的應(yīng)用前景。但目前的工藝采用的電解液中磷酸根離子的含量高，廢液排放容易污染環(huán)境。而且現(xiàn)有技術(shù)的微弧氧化工藝生成的氧化層結(jié)構(gòu)表面質(zhì)量及耐腐蝕性差。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題，提供一種鈦鎂合金微弧氧化方法，使氧化層表面光滑，表層具有均勻的微孔并具有很好的浸潤(rùn)性和生物活性。
[0004]本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的，一種鈦鎂合金微弧氧化方法，以不銹鋼板為陰極，鈦鎂合金板為陽(yáng)極置入電解液中，將盛放電解液的容器置于30-40°C的恒溫水浴中，再將電極接通直流電源將電解液通電30分鐘，氧化電流密度為160-170Ma/cm2并不斷的攪拌電解液。
[0005]為進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)本發(fā)明，所述電解液由二次蒸餾水、硅酸鹽、鎂鹽和添加劑按下比質(zhì)量比例配制:碳酸鎂5g/L，硅酸鈉40g/L，添加劑5g/L，其中添加劑為鎢酸鈉和石墨混合物。
[0006]本發(fā)明的方法可獲得6-10 μ m的灰色的氧化膜，膜層表面光滑。微觀下多孔，孔徑均勻，膜層含有大量的銳礦相及少量的鈦酸鎂相，并且浸潤(rùn)性好和生物活性好。并且電解液中不含磷酸根離子，符合環(huán)保要求。

【具體實(shí)施方式】
[0007]下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明。本發(fā)明的鈦鎂合金微弧氧化方法以不銹鋼板為陰極，鈦鎂合金板為陽(yáng)極置入電解液中，將盛放電解液的容器置于30_40°C的恒溫水浴中，再將電極接通直流電源將電解液通電30分鐘，氧化電流密度為160-170Ma/cm2并不斷的攪拌電解液。
[0008]為進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)本發(fā)明，所述電解液由二次蒸餾水、硅酸鹽、鎂鹽和添加劑按下比質(zhì)量比例配制:碳酸鎂5g/L，硅酸鈉40g/L，添加劑5g/L，其中添加劑為鎢酸鈉和石墨混合物。
[0009]本發(fā)明的方法可獲得6-10 μ m的灰色的氧化膜，膜層表面光滑。微觀下多孔，孔徑均勻，膜層含有大量的銳礦相及少量的鈦酸鎂相，并且浸潤(rùn)性好和生物活性好。并且電解液中不含磷酸根離子，符合環(huán)保要求。
[0010]本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施例，凡是在本發(fā)明公開(kāi)的技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本領(lǐng)域的技術(shù)人員根據(jù)所公開(kāi)的技術(shù)內(nèi)容，不需要?jiǎng)?chuàng)造性的勞動(dòng)就可以對(duì)其中的一些技術(shù)特征作出一些替換和變形， 這些替換和變形均在本發(fā)明保護(hù)的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種鈦鎂合金微弧氧化方法，其特征在于，以不銹鋼板為陰極，鈦鎂合金板為陽(yáng)極置入電解液中，將盛放電解液的容器置于30-40°C的恒溫水浴中，再將電極接通直流電源將電解液通電30分鐘，氧化電流密度為160-170Ma/cm2并不斷的攪拌電解液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦鎂合金微弧氧化方法，其特征在于，所述電解液由二次蒸餾水、硅酸鹽、鎂鹽和添加劑按下比質(zhì)量比例配制:碳酸鎂5g/L，硅酸鈉40g/L，添加劑5g/L，其中添加 劑為鎢酸鈉和石墨混合物。
【文檔編號(hào)】C25D11/26GK104164692SQ201310188909
【公開(kāi)日】2014年11月26日 申請(qǐng)日期:2013年5月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月18日
【發(fā)明者】吳寅 申請(qǐng)人:吳寅