專利名稱：一種帶噴液裝置的電解槽的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及電解設(shè)備，具體為一種帶噴液裝置的電解槽。
背景技術(shù)：
目前的電解設(shè)備電解時(shí)間比較長，電耗大，給生產(chǎn)生活帶來了很大的不便，開發(fā)一種快速電解，并耗能低的電解設(shè)備非常必要。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問題在于提供一種帶噴液裝置的電解槽，以解決上述背景技術(shù)中的缺點(diǎn)。本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問題采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)—種帶噴液裝置的電解槽，包括鍍件、噴液裝置和電解槽體，所述鍍件位于電解槽體中央，所述噴液裝置位于鍍件的兩側(cè)，所述噴液裝置下部深入到電解槽體中的電解液中。有益效果本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，電解時(shí)間短，耗能低。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
`為了使本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解，下面結(jié)合具體圖示，進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型。參見圖1，一種帶噴液裝置的電解槽的結(jié)構(gòu)示意圖，一種帶噴液裝置的電解槽，包括鍍件1、噴液裝置2和電解槽體3，所述鍍件I位于電解槽體3中央，所述噴液裝置2位于鍍件I的兩側(cè)，所述噴液裝置2下部深入到電解槽體3中的電解液中。以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理和主要特征及本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)，本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說明書中描述的只是說明本實(shí)用新型的原理，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下，本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)，本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。
權(quán)利要求1.一種帶噴液裝置的電解槽，包括鍍件、噴液裝置和電解槽體，其特征在于，所述鍍件位于電解槽體中央，所述噴液裝置位于鍍件的兩側(cè)，所述噴液裝置下部深入到電解槽體中的電解液中。
專利摘要一種帶噴液裝置的電解槽，包括鍍件、噴液裝置和電解槽體，所述鍍件位于電解槽體中央，所述噴液裝置位于鍍件的兩側(cè)，所述噴液裝置下部深入到電解槽體中的電解液中。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，電解時(shí)間短，耗能低。
文檔編號(hào)C25D17/02GK202898580SQ201220481930
公開日2013年4月24日 申請(qǐng)日期2012年9月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月20日
發(fā)明者張本漢, 許永章, 王斌, 李周文 申請(qǐng)人:信豐正天偉電子科技有限公司