專利名稱：清除液體中氣泡的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及ー種清除液體中氣泡的裝置。
背景技術(shù)：
鍍件電鍍過(guò)程中，電鍍液處于流動(dòng)狀態(tài)。流動(dòng)中的電鍍液容易產(chǎn)生氣泡。存在氣泡會(huì)影響電鍍的質(zhì)量。因此在電鍍過(guò)程中，需要清除氣泡以保證電鍍質(zhì)量?，F(xiàn)有技術(shù)中，沒(méi)有方便地清除電鍍液中氣泡的裝置
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的第一個(gè)目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供ー種可方便地清除氣泡的清除液體中氣泡的裝置。為實(shí)現(xiàn)以上目的，本實(shí)用新型通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)清除液體中氣泡的裝置，其特征在干，包括殼體，所述殼體設(shè)置有容腔，所述容腔與輸液管路連通；還包括排氣管，所述排氣管具有進(jìn)口和出口，所述進(jìn)ロ位于殼體內(nèi)與容腔連通，所述出口位于容腔外。優(yōu)選地是，所述的排氣管設(shè)置有閥門。優(yōu)選地是，還包括副排氣管，所述副排氣管與排氣管連通，所述閥門安裝在副排氣管上。優(yōu)選地是，所述閥門包括第一閥門和第二閥門，第一閥門與第二閥門均安裝于副排氣管上，并位于排氣管與副排氣管連通點(diǎn)的兩側(cè)。優(yōu)選地是，所述的排氣管的進(jìn)ロ位于殼體內(nèi)容腔的上半部。優(yōu)選地是，所述輸液管包括進(jìn)液管和出液管，所述進(jìn)液管和出液管均與殼體的容腔連通。 優(yōu)選地是，所示的殼體設(shè)置有排氣ロ，所排氣ロ與容腔連通。本實(shí)用新型中的清除液體中氣泡的裝置，可以方便地收集液體中的氣泡并可方便地排出，可以防止氣泡影響電鍍質(zhì)量。

圖I為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)的描述如圖I所示，清除液體中氣泡的裝置，包括殼體1，所述殼體I設(shè)置有容腔2。殼體I上設(shè)置有排氣ロ 11。排氣ロ 11與容腔2連通。進(jìn)液管3與容腔2連通；出液管3也與容腔2連通。排氣管4具有進(jìn)ロ 41和出ロ 42。進(jìn)ロ 41位于容腔2的上半部。出口 42位于容腔2以外。排氣管4的出ロ 42與副排氣管5連通。副排氣管5上兩端分別設(shè)置有第一閥門51和第二閥門 52。第一閥門51和第二閥門52分列排氣管4與副排氣管5連通點(diǎn)的兩側(cè)。使用時(shí)，鍍液自進(jìn)液管2進(jìn)入殼體I的容腔2內(nèi)。由于容腔2的截面積大于進(jìn)液管2，鍍液進(jìn)入容腔2內(nèi)后，其內(nèi)含的氣泡上升至鍍液表面后擴(kuò)散至容腔內(nèi)。鍍液然后經(jīng)出液管3輸送至使用地點(diǎn)。容腔2內(nèi)的氣體可經(jīng)排氣ロ 11排出，也可經(jīng)過(guò)排氣管4、副排氣管5排出。第一閥門51和第二閥門52用于控制排氣管4和副排氣管5的開和關(guān)。本實(shí)用新型中的實(shí)施例僅用于對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行說(shuō)明，并不構(gòu)成對(duì)權(quán)利要求范圍的限制，本領(lǐng)域內(nèi)技術(shù)人員可以想到的其他實(shí)質(zhì)上等同的替代，均在本實(shí)用新型保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.清除液體中氣泡的裝置，其特征在于，包括殼體，所述殼體設(shè)置有容腔，所述容腔與輸液管路連通；還包括排氣管，所述排氣管具有進(jìn)口和出口，所述進(jìn)ロ位于殼體內(nèi)與容腔連通，所述出口位于容腔外。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的清除液體中氣泡的裝置，其特征在于，所述的排氣管設(shè)置有閥門。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清除液體中氣泡的裝置，其特征在于，還包括副排氣管，所述副排氣管與排氣管連通，所述閥門安裝在副排氣管上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清除液體中氣泡的裝置，其特征在于，所述閥門包括第一閥門和第二閥門，第一閥門與第二閥門均安裝于副排氣管上，并位于排氣管與副排氣管連通點(diǎn)的兩側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的清除液體中氣泡的裝置，其特征在于，所述的排氣管的進(jìn)ロ 位于殼體內(nèi)容腔的上半部。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的清除液體中氣泡的裝置，其特征在于，所述輸液管包括進(jìn)液管和出液管，所述進(jìn)液管和出液管均與殼體的容腔連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的清除液體中氣泡的裝置，其特征在于，所示的殼體設(shè)置有排氣ロ，所排氣ロ與容腔連通。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種清除液體中氣泡的裝置，其特征在于，包括殼體，所述殼體設(shè)置有容腔，所述容腔與輸液管路連通；還包括排氣管，所述排氣管具有進(jìn)口和出口，所述進(jìn)口位于殼體內(nèi)與容腔連通，所述出口位于容腔外。本實(shí)用新型中的清除液體中氣泡的裝置，可以方便地收集液體中的氣泡并可方便地排出，可以防止氣泡影響電鍍質(zhì)量。
文檔編號(hào)C25D21/04GK202478659SQ20112057430
公開日2012年10月10日 申請(qǐng)日期2011年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月31日
發(fā)明者劉紅兵, 張路, 王振榮 申請(qǐng)人:上海新陽(yáng)半導(dǎo)體材料股份有限公司