專利名稱：一種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及ー種電化學拋光系統(tǒng)裝置，尤其涉及ー種非接觸式電化學拋光系
統(tǒng)裝置。
背景技術：
機械加工后的エ件，如針布用的齒條，還有其它成卷的線材等，加工后都存在加工表面殘留的微觀不平度，這些不平度不僅影響エ件的外觀，還會影響產品的性能，所以去除加工表面殘留的不平度成為エ件光整加工的關鍵エ序。為了提高產品性能和市場競爭力，人們很重視和研究拋光技術，設計制造了各種拋光設備及裝置。電解拋光是以被拋エ件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩極同時浸入到電解槽中，通 以直流電而產生有選擇性的陽極溶解，從而達到エ件表面光亮度増大的效果。電解拋光的原理電解拋光原理現在世界各界人士爭論很多，被大家公認的主要為黏膜理論。該理論主要為エ件上脫離的金屬離子與拋光液中的磷酸形成ー層磷酸鹽膜吸附在エ件表面，這種黏膜在凸起處較薄，凹處較厚，因凸起處電流密度高而溶解快，隨黏膜流動，凹凸不斷變化，粗糙表面逐漸被整平的過程。電解拋光的優(yōu)點有(I)內外色澤一致，光澤持久，機械拋光無法拋到的凹處也可整平。(2)生產效率高，成本低廉。(3)增加工件表面抗腐蝕性。但是就現有技術的電化學拋光裝置來看，其基本是以手工或是電解法，手工拋光費エ時，勞動強度大，效率低還難以保證產品質量。電解法成本高，對環(huán)境污染極大，后續(xù)處理困難。

實用新型內容鑒于現有技術中的電化學拋光裝置所存在的不足。本實用新型的目的在于提供一種具有自動化程度高，有利于提高生產效率，拋光效果好，安全可靠等優(yōu)點的非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置。為實現本實用新型的上述目的，本實用新型提供了ー種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置，包括一機架及一拋光系統(tǒng)裝置，其中，所述拋光系統(tǒng)裝置包括一放料裝置，所述放料機構由鋁合金機架和馬達構成；一低壓等離子拋光裝置，所述低壓等離子拋光裝置連接到所述放料裝置；一高壓等離子拋光裝置，所述高壓等離子拋光裝置連接到所述低壓等離子拋光裝置；一超聲清潔及風干防銹裝置，所述超聲清潔及風干防銹裝置連接到所述高壓等離子拋光裝置；ー收料裝置，由收料裝置機架和馬達構成，所述收料裝置連接到所述超聲清潔及風干防銹裝置；所述非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置還包括一 PLC控制器及外部電源及一預熱水箱；所述外部高壓電源及PLC控制器連接到所述拋光系統(tǒng)裝置并用于控制所述拋光系統(tǒng)裝置并提供高壓電源；所述預熱水箱連接到所述拋光系統(tǒng)裝置并用于為所述拋光系統(tǒng)裝置提供水源。根據本實用新型的上述構思，所述放料裝置、低壓等離子拋光裝置、高壓等離子拋光裝置、超聲清潔及風干防銹裝置、收料裝置順序連接。根據本實用新型的上述構思，所述低壓等離子拋光裝置包括順序連接一第一低壓松膜裝置、一水淋裝置、一第二低壓松膜裝置。根據本實用新型的上述構思，所述高壓等離子拋光裝置包括順序連接一第一水噴淋裝置、一第一高壓陽極裝置、一第二水噴淋裝置、一高壓陰極裝置及ー排氣裝置。根據本實用新型的上述構思，所述高壓等離子拋光裝置為3個，所述3個高壓等離子拋光裝置順序連接。根據本實用新型的上述構思，所述超聲清潔及風干防銹裝置包括順序連接的一第ー風干防銹裝置水噴淋裝置、一超聲波清潔裝置、一第二風干防銹裝置水噴淋裝置、ー純水 清潔裝置及ー風干防銹裝置。所述風干防銹裝置由冷凍干燥機、風刀、防銹槽、防銹液儲液槽、循環(huán)泵組成。根據本實用新型的上述構思，所述PLC控制器及外部電源包括順序連接的一 PLC控制器、一變頻器、ー低壓電源及高壓電源。根據本實用新型的上述構思，所述高壓電源為3個，且并列設置。根據本實用新型的上述構思，所述低壓松膜裝置包括自上而下設置于所述機架上的一上儲液箱、一拋光槽、一下儲液箱以及一通過水管分別連接所述上儲液箱及下儲液箱的一水泵。本實用新型的優(yōu)點和有益效果在于利用陽極金屬電化學溶解反應的原理，エ件經過拋光槽就會產生陽極溶解反應，就能去除エ件加工表面殘留的微觀不平度，以降低エ件表面粗糙度，進而提高工件的亮度。拋光效果好，易于實踐自動化。具有自動化程度高，有利于提高生產效率，拋光效果好，安全可靠等優(yōu)點。

圖I是本實用新型的ー種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置的立體結構示意圖；圖2是本實用新型的ー種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置的低壓松膜裝置的立體結構示意圖。
具體實施方式
為了進一步說明本實用新型的原理和結構，現結合附圖對本實用新型的優(yōu)選實施例進行詳細說明，然而所述實施例僅為提供說明與解釋之用，不能用來限制本實用新型的專利保護范圍。如圖I、圖2所示的為本實用新型的ー種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置，包括一機架I及一拋光系統(tǒng)裝置2，其中，所述拋光系統(tǒng)裝置2包括一放料裝置(圖未示)；ー低壓等離子拋光裝置21，所述低壓等離子拋光裝置21連接到所述放料裝置(圖未示)；ー高壓等離子拋光裝置22，所述高壓等離子拋光裝置22連接到所述低壓等離子拋光裝置21 ; —超聲清潔及風干防銹裝置23，所述超聲清潔及風干防銹裝置23連接到所述高壓等離子拋光裝置22 ;—收料裝置24，所述收料裝置24連接到所述超聲清潔及風干防銹裝置23 ;所述非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置還包括一 PLC控制器及外部電源3及一預熱水箱4 ;所述外部高壓電源及PLC控制器3連接到所述拋光系統(tǒng)裝置2并用于控制所述拋光系統(tǒng)裝置2并提供高壓電源；所述預熱水箱4連接到所述拋光系統(tǒng)裝置2并用于為所述拋光系統(tǒng)裝置2提供水源。根據本實用新型的上述構思，所述放料裝置(圖未示)、低壓等離子拋光裝置21、高壓等離子拋光裝置22、超聲清潔及風干防銹裝置23、收料裝置24順序連接。根據本實用新型的上述構思，所述低壓等離子拋光裝置21包括順序連接一第一低壓松膜裝置211、一水淋裝置212、一第二低壓松膜裝置213。根據本實用新型的上述構思，所述高壓等離子拋光裝置22包括順序連接一第一水噴淋裝置221、一第一高壓陽極裝置222、一第二水噴淋裝置223、一高壓陰極裝置224及一排氣裝置225。根據本實用新型的上述構思，所述高壓等離子拋光裝置22為3個，所述3個高壓等離子拋光裝置22順序連接。 根據本實用新型的上述構思，所述超聲清潔及風干防銹裝置23包括順序連接的一第一風干防銹裝置水噴淋裝置231、一超聲波清潔裝置232、一第二風干防銹裝置水噴淋裝置233、ー純水清潔裝置234及ー風干防銹裝置235。根據本實用新型的上述構思，所述PLC控制器及外部電源3包括順序連接的一 PLC控制器31、一變頻器32、一低壓電源33及高壓電源34。根據本實用新型的上述構思，所述高壓電源34為3個，且并列設置。根據本實用新型的上述構思，所述低壓松膜裝置211包括自上而下設置于所述機架上的一上儲液箱2111、一拋光槽2112、一下儲液箱2113以及一通過水管2114分別連接所述上儲液箱2111及下儲液箱2113的一水泵2115。本實用新型的優(yōu)點和有益效果在于利用陽極金屬電化學溶解反應的原理，エ件經過拋光槽就會產生陽極溶解反應，就能去除エ件加工表面殘留的微觀不平度，以降低エ件表面粗糙度，進而提高工件的亮度。拋光效果好，易于實踐自動化。具有自動化程度高，有利于提高生產效率，拋光效果好，安全可靠等優(yōu)點。上述內容僅為本實用新型的較佳實施例及例舉的變型方式，并不用來限制本實用新型，凡是在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何無須創(chuàng)造性思維的修改與改進，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。
權利要求1.ー種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置，包括一機架及一拋光系統(tǒng)裝置，其特征在于 所述拋光系統(tǒng)裝置包括 一放料裝置； 一低壓等離子拋光裝置，所述低壓等離子拋光裝置連接到所述放料裝置； 一高壓等離子拋光裝置，所述高壓等離子拋光裝置連接到所述低壓等離子拋光裝置；一超聲清潔及風干防銹裝置，所述超聲清潔及風干防銹裝置連接到所述高壓等離子拋光裝置； ー收料裝置，所述收料裝置連接到所述超聲清潔及風干防銹裝置； 所述非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置還包括一 PLC控制器及外部電源及一預熱水箱；所述外部高壓電源及PLC控制器連接到所述拋光系統(tǒng)裝置并用于控制所述拋光系統(tǒng)裝置并提供電源； 所述預熱水箱連接到所述拋光系統(tǒng)裝置并用于為所述拋光系統(tǒng)裝置提供水源。
2.如權利要求I所述的ー種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置，其特征在于 所述放料裝置、低壓等離子拋光裝置、高壓等離子拋光裝置、超聲清潔及風干防銹裝置、收料裝置順序連接。
3.如權利要求I所述的ー種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置，其特征在于 所述低壓等離子拋光裝置包括順序連接一第一低壓松膜裝置、一水淋裝置、一第二低壓松膜裝置。
4.如權利要求I所述的ー種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置，其特征在于 所述高壓等離子拋光裝置包括順序連接一第一水噴淋裝置、一第一高壓陽極裝置、一第二水噴淋裝置、一高壓陰極裝置及ー排氣裝置。
5.如權利要求4所述的ー種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置，其特征在于 所述高壓等離子拋光裝置為3個，所述3個高壓等離子拋光裝置順序連接。
6.如權利要求I所述的ー種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置，其特征在于 所述超聲清潔及風干防銹裝置包括順序連接的一第一風干防銹裝置水噴淋裝置、一超聲波清潔裝置、一第二風干防銹裝置水噴淋裝置、ー純水清潔裝置及ー風干防銹裝置。
7.如權利要求I所述的ー種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置，其特征在于 所述PLC控制器及外部電源包括順序連接的一 PLC控制器、ー變頻器、ー低壓電源及高壓電源。
8.如權利要求7所述的ー種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置，其特征在于 所述高壓電源為3個，且并列設置。
9.如權利要求3所述的ー種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置，其特征在于 所述低壓松膜裝置包括自上而下設置于所述機架上的一上儲液箱、一拋光槽、一下儲液箱以及一通過水管分別連接所述上儲液箱及下儲液箱的一水泵。
專利摘要一種非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置，包括一機架及一拋光系統(tǒng)裝置，其中，所述拋光系統(tǒng)裝置包括一放料裝置；一低壓等離子拋光裝置，連接到所述放料裝置；一高壓等離子拋光裝置，連接到所述低壓等離子拋光裝置；一超聲清潔及風干防銹裝置，連接到所述高壓等離子拋光裝置；一收料裝置，連接到所述超聲清潔及風干防銹裝置；所述非接觸式電化學拋光系統(tǒng)裝置還包括一PLC控制器及外部電源及一預熱水箱。本實用新型具有自動化程度高，有利于提高生產效率，拋光效果好，安全可靠等優(yōu)點。
文檔編號C25F3/16GK202390559SQ201120512780
公開日2012年8月22日 申請日期2011年12月7日 優(yōu)先權日2011年12月7日
發(fā)明者李慶 申請人:李慶