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用于對鋁膜進行陽極氧化處理的裝置的制作方法

文檔序號:5279851閱讀:174來源:國知局
專利名稱:用于對鋁膜進行陽極氧化處理的裝置的制作方法
技術(shù)領域
本實用新型涉及玻璃 理的裝置。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)的鋁膜氧化法通常為固體陽極氧化法,采用上下金屬平板電極貼合于帶有金屬掩膜的玻璃基片上下表面。正極貼合于鋁膜面,負極貼合于另一表面,通過加載電壓使得鋁膜氧化。這種方法對金屬平板電極的平整度要求高,而且要求電極與玻璃貼合緊密。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于提供一種用于對鋁膜進行陽極氧化處理的裝置,在波導制作工藝過程中引入對圖形化的鋁膜的陽極氧化預處理,以檸檬酸溶液作為電解液和電解介質(zhì)的方法完成對圖形化的鋁膜的氧化,實現(xiàn)簡單,氧化鋁掩膜對銀線的抑制效果好;制作得到的光波導與光纖匹配良好,損耗低。本實用新型的技術(shù)方案包括一種用于對鋁膜進行陽極氧化處理的裝置,包括第一容器,用于容納第一電解液;第二容器,至少底部設有開口,該第二容器置于該第一容器內(nèi)并用于容納第二電解液;其中,該第二容器底部開口用于與具有該待處理的鋁膜的玻璃基片密封連接,從而將所述第一電解液與所述第二電解液隔開。其中,所述鋁膜面向該第二電解液,正電極設置在該第二電解液中,負電極在該第一電解液中?;蛘?,所述鋁膜面向該第一電解液,正電極設置在該第一電解液中,負電極設置在該第二電解液中。其中,該第二容器與該玻璃基片利用過絕緣耐熱膠粘合。本實用新型的積極技術(shù)效果在于1.制作得到的氧化鋁掩膜致密性好;2.實現(xiàn)方法簡單易行;3.制作得到的光波導與光纖匹配良好,損耗低。

圖I是按照本實用新型一個實施例的裝置的示意圖。圖2是按照本實用新型另一實施例的裝置的示意圖。圖3是本實用新型裝置實施方法的流程圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖所示實施例對本實用新型作詳細說明。如圖I所示,本實用新型的一種對圖形化的鋁膜進行陽極氧化工藝的裝置將盛有朽1檬酸溶液2的輔助容器3嵌入容器8的另一朽1檬酸溶液6中,輔助容器3底面設置待交換的帶有圖形化的鋁膜4的玻璃基片5與容器8彼此隔離,其中有圖形化的鋁膜4的玻璃基片5面朝向輔助容器3的朽1檬酸溶液2,朽1檬酸溶液2中嵌入正電極I,另一朽1檬酸溶液6中嵌入負電極7,玻璃基片5、正電極I和負電極7相互平行。如圖2所示,另一種進行陽極氧化工藝的裝置將容器9中間用帶有圖形化的鋁膜4'的玻璃基片5'隔成兩個容腔,在一個容腔中盛有一部分朽1檬酸溶液2',朽1檬酸溶液2'中插入正電極I';在另一個容腔中盛有另一部分朽1檬酸溶液6',朽1檬酸溶液6'中插入負電極7';有圖形化的鋁膜4'的玻璃基片5'面朝向一個容腔的檸檬酸溶液2'。以上兩種技術(shù)方案中,所述容器9為石英、陶瓷或玻璃容器;所述正、負電極I'和7'為金或鉬金電極。示例 I對清洗完成的3英寸玻璃基片進行鍍膜、光刻得到帶有光波導圖形鋁膜的玻璃基片。在內(nèi)壁直徑為12cm的圓形石英容器中置入質(zhì)量分數(shù)為20%的檸檬酸溶液以及鉬金電極。內(nèi)壁直徑為7cm的石英圓筒形管與帶有光波導圖形的鋁膜的直徑為7. 5cm的玻璃基圓片通過絕緣耐熱膠粘合成一個密閉容器,帶有光波導圖形的鋁膜朝上。置入質(zhì)量分數(shù)為20%的檸檬酸溶液以及鉬金電極。將石英圓筒形管與帶有光波導圖形的鋁膜的玻璃基片合成的密閉容器置入內(nèi)壁直徑為12cm的圓形石英容器中。在兩片電極間對玻璃基片加載100V的電壓I小時完成鋁掩膜的氧化。對帶有氧化鋁掩膜的玻璃基片進行離子交換,完成光波導的制作。示例2 對清洗完成的3英寸玻璃基片進行鍍膜、光刻得到帶有光波導圖形鋁膜的玻璃基片。將兩個對稱的帶有支撐的直徑為7cm的圓形石英容器通過絕緣耐熱膠密閉粘合在直徑為7. 5cm的帶有鋁掩膜的玻璃基圓片兩側(cè),玻璃基圓片連同兩側(cè)的石英容器豎直放置。兩側(cè)分別置入質(zhì)量分數(shù)為30%的檸檬酸溶液以及鉬金電極。在兩片電極間對玻璃基片加載200V的電壓20分鐘完成鋁掩膜的氧化。對帶有氧化鋁掩膜的玻璃基片進行離子交換,完成光波導的制作。示例3 對清洗完成的3英寸玻璃基片進行鍍膜、光刻得到帶有光波導圖形鋁膜的玻璃基片。將兩個對稱的帶有支撐的直徑為7cm的圓形石英容器通過絕緣耐熱膠密閉粘合在直徑為7. 5cm的帶有鋁掩膜的玻璃基圓片兩側(cè),玻璃基圓片連同兩側(cè)的石英容器豎直放置。兩側(cè)分別置入質(zhì)量分數(shù)為10%的檸檬酸溶液以及鉬金電極。在兩片電極間對玻璃基片加載300V的電壓45分鐘完成鋁掩膜的氧化。對帶有氧化鋁掩膜的玻璃基片進行離子交換,完成光波導的制作。如圖3所示,利用本實用新型裝置進行玻璃基離子交換光波導的制作方法如步驟100,對玻璃基片進行鍍膜、光刻,形成玻璃基片上圖形化的鋁膜。步驟120,對帶有圖案化鋁膜的玻璃基片進行陽極氧化處理。在一個實施例中,用帶有圖形化的招膜的玻璃基片將盛有一部分朽1檬酸溶液的容器和盛有另一部分朽1檬酸溶液的另一容器彼此隔離;正電極插入容器的朽1檬酸溶液中,負電極插入另一容器的朽1檬酸溶液中,有圖形化的鋁膜的玻璃基片面朝向容器的檸檬酸溶液;當正電極與負電極間加載了 100 300V的電場時,在電化學的作用下,鋁失去電子并與氧結(jié)合形成氧化物,從而進一步形成氧化鋁掩膜。所述檸檬酸溶液的質(zhì)量分數(shù)為10% 30%。步驟130,對帶有氧化鋁掩膜的玻璃基片進行離子交換,完成光波導的制作。盡管本實用新型依照其優(yōu)選實施方式描述,但 是存在落入本實用新型范圍內(nèi)的改變、置換和各種替代等同物。這里提供的示例僅是說明性的,而不是對本實用新型的限制。為了簡明,本說明書省略了對公知技術(shù)的描述。
權(quán)利要求1.一種用于對鋁膜進行陽極氧化處理的裝置,其特征在于,該裝置包括 第一容器,用于容納第一電解液; 第二容器,至少底部設有開口,該第二容器置于該第一容器內(nèi)并用于容納第二電解液; 其中,該第二容器底部開口用于與具有該待處理的鋁膜的玻璃基片密封連接,從而將所述第一電解液與所述第二電解液隔開。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的裝置,其特征在于,所述鋁膜面向該第二電解液,正電極設置在該第二電解液中,負電極在該第一電解液中。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的裝置,其特征在于,所述鋁膜面向該第一電解液,正電極設置在該第一電解液中,負電極設置在該第二電解液中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的裝置,其特征在于,該第二容器與該玻璃基片利用過絕緣耐熱膠粘合。
專利摘要本實用新型的技術(shù)方案包括一種用于對鋁膜進行陽極氧化處理的裝置,包括第一容器,用于容納第一電解液;第二容器,至少底部設有開口,該第二容器置于該第一容器內(nèi)并用于容納第二電解液;其中,該第二容器底部開口用于與具有該待處理的鋁膜的玻璃基片密封連接,從而將所述第一電解液與所述第二電解液隔開。本實用新型的積極技術(shù)效果在于1.制作得到的氧化鋁掩膜致密性好;2.實現(xiàn)方法簡單易行;3.制作得到的光波導與光纖匹配良好,損耗低。
文檔編號C25D11/04GK202380112SQ20112051099
公開日2012年8月15日 申請日期2011年12月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月9日
發(fā)明者楊建義, 鄭偉偉, 郝寅雷 申請人:上海光芯集成光學股份有限公司
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