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剩余氣隙盤的制作方法

文檔序號(hào):5257027閱讀:128來源:國(guó)知局
專利名稱:剩余氣隙盤的制作方法
剩余氣隙盤
背景技術(shù)
DE 196 50 865 Al描述了用于控制一個(gè)噴射閥、例如一個(gè)共軌高壓儲(chǔ)存器噴射系統(tǒng)的噴射閥的控制室中的燃料壓力的電磁閥。通過控制室中的燃料壓力將控制一個(gè)閥活塞的升降運(yùn)動(dòng),借助該閥活塞可打開或關(guān)閉噴射閥的噴射孔。該電磁閥包括一個(gè)電磁鐵,一個(gè)可運(yùn)動(dòng)的銜鐵及一個(gè)與銜鐵一起運(yùn)動(dòng)的并由一個(gè)閥關(guān)閉彈簧向關(guān)閉方向加載的閥件,該閥件與電磁閥的閥座相互配合及由此控制燃料由控制室的流出。在公知的電磁閥上在工作中出現(xiàn)的銜鐵振動(dòng)和/或閥件的顫動(dòng)具有不利的影響。 根據(jù)DE 196 50 865 Al及DE 195 08 104 Al的方案電磁閥的銜鐵被構(gòu)成兩部分的銜鐵, 以便減小結(jié)構(gòu)單元“銜鐵/閥件”的運(yùn)動(dòng)質(zhì)量及由此減小引起顫動(dòng)的動(dòng)能。兩部分的銜鐵包括一個(gè)銜鐵栓及一個(gè)可抵抗復(fù)位彈簧在閥件的關(guān)閉方向上的力在其慣性質(zhì)量的作用下移動(dòng)地接收在銜鐵栓上的銜鐵板。該銜鐵板借助一個(gè)擋圈及一個(gè)包圍該擋圈的保持套管保持在銜鐵栓上。使用了附加的阻尼裝置,它包括一個(gè)與銜鐵板一起運(yùn)動(dòng)的部件及一個(gè)位置固定的部件??膳c銜鐵板一起運(yùn)動(dòng)的部件包括一個(gè)向著位置固定的部件的附件,以便在銜鐵板動(dòng)態(tài)移動(dòng)時(shí)引起對(duì)銜鐵板瞬變振動(dòng)的阻尼。阻尼裝置的另一部分在電磁閥的一個(gè)固定布置的部件上被構(gòu)成超行程止擋。它限制最大的行程長(zhǎng)度,以便使銜鐵板可在銜鐵栓上在軸向上移動(dòng)。超行程止擋可由一個(gè)引導(dǎo)銜鐵栓的、在電磁閥中固定地布置的滑塊的端面或由一個(gè)設(shè)置在滑塊前面的部件、例如一個(gè)墊圈構(gòu)成。當(dāng)與銜鐵板一起運(yùn)動(dòng)的附件接近該超行程止擋時(shí)在相互向著的面之間形成了一個(gè)液壓阻尼室。在該液壓阻尼室中存在的燃料產(chǎn)生出一個(gè)反作用力,它對(duì)銜鐵板的運(yùn)動(dòng)起反作用,由此使銜鐵板的瞬變振動(dòng)受到阻尼。在燃料噴射系統(tǒng)上用于操作燃料噴射器的電磁閥中借助一個(gè)由非磁性金屬膜作的剩余氣隙盤來調(diào)節(jié)剩余氣隙。該由非磁性金屬膜作的剩余氣隙盤在銜鐵組件組裝時(shí)被放置在銜鐵上及通過一個(gè)彈簧擋板與電磁閥彈簧來壓緊。由此可保證作為剩余氣隙盤的薄金屬膜始終占有一個(gè)確定的位置或跟隨銜鐵的運(yùn)動(dòng)。在剩余氣隙盤設(shè)計(jì)時(shí)總是在強(qiáng)度或穩(wěn)定性與液壓要求之間取得折衷。因?yàn)槭S鄽庀侗P被固定在銜鐵的中央,就形成了對(duì)磁芯內(nèi)極的連接,剩余氣隙盤將延伸在彈簧室上。該彈簧室是用于控制出的回流量的流出部分。由于該沖突控制量或泄漏量的流出不能最佳地設(shè)計(jì),以致所產(chǎn)生的銜鐵運(yùn)動(dòng)不是最佳的。這意味著,銜鐵在上止擋前的短距離上、即在指向該銜鐵的磁芯端面的旁邊被很強(qiáng)地阻尼及不能達(dá)到該磁芯端面或僅當(dāng)液體即控制出的燃料完全由間隙中擠出后才能達(dá)到。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明基于這樣的任務(wù),即提出一種剩余氣隙盤,它可使用在電磁閥上,而不會(huì)妨礙回流量的流出。根據(jù)本發(fā)明提出的以下方案將使例如由非磁性的金屬膜制成的剩余氣隙盤的幾何結(jié)構(gòu)大大簡(jiǎn)化。根據(jù)本發(fā)明該剩余氣隙盤將不再象迄今的實(shí)施方案那樣通過彈簧擋板固定再銜鐵上。由此得到組裝流程的簡(jiǎn)化。根據(jù)本發(fā)明提出的剩余氣隙盤將不再遮擋、也不
3會(huì)部分地遮擋彈簧室及由此不再妨礙控制量或泄漏量向著低壓回流部分方向的流出。銜鐵中及電磁鐵中回流幾何結(jié)構(gòu)的橫截面與剩余氣隙盤的位置無關(guān)。根據(jù)本發(fā)明提出的剩余氣隙盤被作成一個(gè)具有縫隙的簡(jiǎn)單墊圈,該縫隙用于避免變形。也可選擇地構(gòu)成具有一定縫隙長(zhǎng)度的多個(gè)徑向縫隙,該縫隙長(zhǎng)度小于構(gòu)成圓環(huán)形狀的剩余氣隙盤的寬度。根據(jù)本發(fā)明的提出的剩余氣隙盤不是被放置在銜鐵或指向磁芯的銜鐵平端面上而是被放置在磁芯與磁套筒之間及通過磁芯來固定。根據(jù)本發(fā)明提出的剩余氣隙盤的內(nèi)徑被選擇得盡可能地大,以使得放置在磁芯中的電磁鐵線圈的內(nèi)極不會(huì)被覆蓋, 而磁芯的外極則被構(gòu)成圓環(huán)形的剩余氣隙盤所覆蓋。根據(jù)本發(fā)明提出的剩余氣隙盤在銜鐵組件組裝時(shí)可非常簡(jiǎn)單地被放置在磁芯與磁套筒下側(cè)上圓環(huán)形地延伸的下配合部之間并在組裝時(shí)可很簡(jiǎn)單及防失落地被固定。


圖1 設(shè)置在磁芯與磁套筒之間的、被構(gòu)成圓環(huán)形的剩余氣隙盤,圖2 根據(jù)本發(fā)明提出的剩余氣隙盤的一個(gè)第一實(shí)施方案,及圖3 根據(jù)本發(fā)明提出的剩余氣隙盤的另一實(shí)施方案。具體實(shí)施形式由根據(jù)圖1的視圖可看到一個(gè)燃料噴射器的磁組件的概要復(fù)制圖。用于操作一個(gè)燃料噴射器、例如高壓儲(chǔ)存器噴射系統(tǒng)(共軌)的燃料噴射器的磁組件10被置入在該燃料噴射器的噴射器體12內(nèi)。磁組件10位于銜鐵14的對(duì)面,該銜鐵的平面?zhèn)?6被一個(gè)電磁閥彈簧18加載。標(biāo)號(hào)20表示一個(gè)調(diào)整環(huán),它用于電磁閥行程的調(diào)整。調(diào)整環(huán)20被放置在噴射器體12中及同時(shí)用作磁套筒32的支承。磁套筒32用于接收一個(gè)磁芯22。磁芯22本身包括一個(gè)電磁鐵線圈M。磁芯22在其與銜鐵14的平面?zhèn)?6 對(duì)置的端面26上是張開的及通過線圈M的位置被分成一個(gè)內(nèi)極觀及一個(gè)外極30。由根據(jù)圖1的視圖可看出,磁套筒32用其內(nèi)側(cè)包圍著磁芯22。磁套筒32借助一個(gè)在圖1中未示出的夾緊螺母被固定在燃料噴射器的噴射器體12上。磁芯22例如通過下配合部或焊接連接被固定在磁組件內(nèi)部。磁組件10的磁芯22包括一個(gè)透孔,在透孔中一方面設(shè)有一個(gè)對(duì)銜鐵14的平面?zhèn)?16加載的電磁閥彈簧18,及另一方面用作回流通道40,通過它-作為一個(gè)例子來說-使在電磁閥操作時(shí)由燃料噴射器的一個(gè)控制室控制出的控制量或泄漏量流回到一個(gè)燃料噴射系統(tǒng)的低壓側(cè)的回流部分中。由根據(jù)圖1的視圖還可看出,一個(gè)剩余氣隙盤44被夾緊在磁芯22的端面沈與磁套筒32的下配合部34的上側(cè)之間的一個(gè)夾持位置42上。在磁套筒32與磁芯22組裝前該例如由非磁性材料制成的薄金屬膜的、如圓形的剩余氣隙盤44被放置在磁套筒32的下配合部34上,及接著將磁芯22與電磁鐵線圈M組裝在一起。在對(duì)一個(gè)夾緊螺母加載一個(gè)確定的擰緊扭矩時(shí)磁組件就被固定在噴射器體12中。因此拋棄了迄今常用的原則使剩余氣隙盤44不再通過彈簧擋板或類似件固定在銜鐵14的平面?zhèn)?6上,而是與迄今的實(shí)踐相反地指向磁組件10的磁芯22的端面26。由根據(jù)圖1的視圖還可看出,在剩余氣隙盤44的一個(gè)實(shí)施例中其為一個(gè)圓環(huán)的形狀,參考根據(jù)圖2及3的視圖,磁芯22的內(nèi)極28露出,而磁芯22的外極30被剩余氣隙盤44覆蓋。剩余氣隙盤44不再遮擋、也不會(huì)部分地遮擋彈簧室即低壓回流通道40中的透孔及由此不再妨礙控制量或泄漏量流出到低壓回流通道40中。回流幾何結(jié)構(gòu)即磁組件10中低壓回流通道40的橫截面與根據(jù)本發(fā)明提出的剩余氣隙盤44的位置無關(guān)。標(biāo)號(hào)38表示銜鐵縫隙,通過這些銜鐵縫隙改善了泄漏量或控制量向低壓側(cè)回流部分的受控排出。通過銜鐵縫隙38可使控制量或泄漏量流入磁芯22的透孔,在該透孔中設(shè)有電磁閥彈簧18。由根據(jù)圖2的視圖可看到根據(jù)本發(fā)明提出的剩余氣隙盤的第一方案。圖2表示這里所示的剩余氣隙盤44被構(gòu)成圓環(huán)48。圓環(huán)58的圓環(huán)寬度由標(biāo)號(hào) 54指示。構(gòu)成圓環(huán)48的剩余氣隙盤44的內(nèi)徑被這樣地定尺寸,即它超過了磁組件10的磁芯22的內(nèi)極觀的外徑,此外這樣地設(shè)計(jì)圓環(huán)48的內(nèi)徑50,即電磁鐵線圈M基本上不被由非磁性材料制成的、例如構(gòu)成金屬膜的剩余氣隙盤44所覆蓋。優(yōu)選地構(gòu)成圓環(huán)形的剩余氣隙盤44的孔的內(nèi)徑最大具有與外極30的內(nèi)徑或在其中接收電磁鐵線圈M的線圈室的外徑一樣的尺寸。由根據(jù)圖2的視圖還可看出,構(gòu)成圓環(huán)48的剩余氣隙盤44包括一個(gè)貫穿的單個(gè)縫隙46。該縫隙用于避免當(dāng)將由非磁性金屬薄膜材料制成的剩余氣隙盤44安裝到磁芯22 的端面26與磁套筒32的下配合部34之間的夾持位置42上時(shí)的變形。由根據(jù)圖3的視圖可看到構(gòu)成圓環(huán)的剩余氣隙盤的另一實(shí)施方案。與根據(jù)圖2的視圖-在其中構(gòu)成圓環(huán)48的剩余氣隙盤44中設(shè)有單個(gè)縫隙46-不同地,在圖3所示的另一實(shí)施方案中構(gòu)成圓環(huán)48的剩余氣隙盤構(gòu)有位于內(nèi)部的一組縫隙 56。從圓環(huán)48的內(nèi)徑50出發(fā)在徑向上延伸出多個(gè)縫隙60。如由根據(jù)圖3的視圖可看出的,這些縫隙不是貫穿的,而是具有一個(gè)其尺寸小于圓環(huán)寬度M的縫隙長(zhǎng)度58。圓環(huán)寬度M是圓環(huán)48的外徑52與其內(nèi)徑50的差。因此在縫隙60的端被端部與圓環(huán)48的外徑 52之間留有一個(gè)接片寬62,以致根據(jù)圖1的視圖可達(dá)到在磁套筒32的下配合部34與磁芯 22的端面沈之間的夾持位置42上根據(jù)本發(fā)明提出的剩余氣隙盤44在圓周方向上連續(xù)的固定。盡管未示出,也可考慮在圖2及3中所示的構(gòu)成圓環(huán)48的剩余氣隙盤44的實(shí)施方案的一個(gè)組合。因此可取代根據(jù)圖3中的實(shí)施方案的多個(gè)未貫穿的縫隙60中的一個(gè)在該圓環(huán)48的實(shí)施形式中也設(shè)置一個(gè)用于補(bǔ)償變形的貫穿的單個(gè)縫隙46,由此得到一個(gè)根據(jù)圖2與3的實(shí)施方案的縫隙構(gòu)型的組合。如果如圖3所示地在未貫穿的縫隙60的端部保留剩余氣隙盤材料的一個(gè)接片寬 62,則可使它的加工顯著地簡(jiǎn)化,尤其使組裝前磁芯22在磁套筒32中的定位顯著地簡(jiǎn)化。
權(quán)利要求
1.磁組件(10),具有磁芯02)及接收該磁芯的磁套筒(32),其中,該磁芯02)的端面 (26)指向銜鐵(14,16),其特征在于在該磁芯0 與該磁套筒(3 之間置入剩余氣隙盤 G4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的磁組件(10),其特征在于所述剩余氣隙盤G4)通過所述磁套筒 (32)中的所述磁芯02)被固定在夾持位置G2)上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的磁組件(10),其特征在于所述磁套筒(32)具有從下面作用于所述磁芯02)的所述端面06)的下配合部(34)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的磁組件(10),其特征在于所述剩余氣隙盤G4)由非磁性材料制成金屬薄膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的磁組件(10),其特征在于所述剩余氣隙盤G4)被作成圓環(huán) 08)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的磁組件(10),其特征在于所述剩余氣隙盤G4)的內(nèi)徑大于所述磁芯02)的內(nèi)極08)的外徑。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的磁組件(10),其特征在于所述剩余氣隙盤G4)具有一個(gè)貫穿的縫隙(46)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1的磁組件(10),其特征在于所述剩余氣隙盤G4)包括一個(gè)由多個(gè)縫隙(60)組成的由內(nèi)徑(50)開始的、位于內(nèi)部的縫隙結(jié)構(gòu)(56)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的磁組件(10),其特征在于所述縫隙(60)以這樣的長(zhǎng)度(58)實(shí)施,該長(zhǎng)度小于所述剩余氣隙盤G4)的外徑(52)與內(nèi)徑(50)的差。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)或多項(xiàng)的磁組件(10)在燃料噴射系統(tǒng)的燃料噴射器中的應(yīng)用。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于操作燃料噴射器的磁組件(10)。該磁組件(10)具有磁芯(22)及接收該磁芯的磁套筒(32)。該磁芯(22)的端面(26)指向銜鐵(14,16)。在該磁芯(22)與該磁套筒(32)之間置入剩余氣隙盤(44)。
文檔編號(hào)F02M51/06GK102362319SQ201080012990
公開日2012年2月22日 申請(qǐng)日期2010年1月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月20日
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