對流體和氣體進行間接磁處理的方法和設(shè)備的制作方法
【專利摘要】提供了對流體/氣體進行間接磁處理的方法和設(shè)備，其中在第一步驟中，向工作流體/氣體施加具有特定的維度、幾何形貌和通量密度的磁場或者電磁場，以得到直接磁化的流體/氣體。然后在第二步驟中，直接磁化的流體/氣體用作磁化劑或磁處理劑對正常、非磁化的流體/氣體進行間接磁化，該間接磁化是通過以所述直接磁化的流體/氣體與正常、非磁化的工作流體/氣體之間預定的混合比和混合方法，混合直接磁化的流體/氣體與正常、非磁化的流體/氣體來實現(xiàn)的。之后，所得到的混合或間接磁化的流體/氣體直接用于適當?shù)膽?yīng)用中或者儲存在儲存罐中以待后用。本發(fā)明的可能的應(yīng)用包括但不限于，對流體/氣體進行直接磁處理的所有現(xiàn)有應(yīng)用，例如水處理、烴類燃料處理。
【專利說明】對流體和氣體進行間接磁處理的方法和設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明一般地屬于流體和/或氣體的磁處理領(lǐng)域，更具體地是對流體和氣體進行間接磁處理的方法和設(shè)備，其主要基于直接磁化的流體/氣體(采用具有特定幾何形貌和通量密度的直接磁場或電磁場處理的流體/氣體)與正常非磁化的流體/氣體之間的混合，以得到新的混合或間接磁化的流體/氣體，所述新的混合或間接磁化的流體/氣體具有比直接磁化的流體/氣體以及正常非磁化的流體/氣體更好的性能。
[0002]發(fā)明背景
[0003]磁流動力學(MHD)(磁流體動力學或水磁動力學)是研究導電流體在磁場作用下的動力學的科學學科。MHD中的M指的是磁場，H指的是液體，D指的是移動或運動。HannesAlfven在1942年開創(chuàng)了 MHD領(lǐng)域，他為此得到了 1970年的諾貝爾物理學獎。
[0004]MHD的理念是磁場會在移動的導電流體中引起電流，這會對流體產(chǎn)生機械作用力，還會改變磁場本身。描述MHD的一組方程是熟悉的流體動力學的納維-斯托克斯(Navier-Stokes)方程和電磁場麥克斯韋方程的組合。研究指出磁流動力作用可用于流體和氣體的磁處理。
[0005]流體和氣體的磁處理的所有先前的應(yīng)用聚焦于向移動的流體或氣體直接施加各種通量密度和可 變幾何形貌的磁場或電磁場，其中全部或全體流體或氣體應(yīng)該直接通過磁場或電磁場，從而進行處理。該直接處理實際上是限制磁處理流行起來的潛在障礙，因為這導致僅在安裝磁處理裝置的初始階段具有有效處理，而在之后的階段通常為無效處理。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]因此，本發(fā)明的一個目的是提供一種對流體和氣體進行間接磁處理的方法和設(shè)備，其克服了流體和氣體的直接磁處理的缺陷。
[0007]提供了對流體或氣體進行間接處理的方法，所述方法包括:提供第一流體或氣體；對于所述第一流體或氣體施加具有特定通量密度和幾何形貌的直接磁場或電磁場，得到直接磁化的流體/氣體；提供第二正常、非磁化的流體/氣體；將第一直接磁化的流體/氣體與第二正常、非磁化的流體/氣體混合，以得到第三混合或間接磁化的流體/氣體，該第三混合或間接磁化的流體/氣體也經(jīng)過處理，并且比第一直接磁化的流體/氣體和第二正常、非磁化的流體/氣體更有效。
[0008]這表示，根據(jù)本發(fā)明，第一流體/氣體是經(jīng)過直接磁處理或電磁處理的直接磁化的流體/氣體，而第二流體/氣體是未通過任意直接磁場或電磁場的正常、非磁化的流體/氣體。在第三混合或間接磁化的流體/氣體中，第二正常、非磁化的流體/氣體受到第一直接磁化的流體/氣體的間接處理，第三混合或間接磁化的流體/氣體以間接的方式受到完全處理。也就是說，第一直接磁化的流體/氣體起了磁化劑或磁處理劑的作用，對第二正常、非磁化的流體/氣體進行磁化。
[0009]在本發(fā)明的意思中，涉及流體和/或氣體的術(shù)語“直接磁化”或“直接處理”或者簡稱的“處理”，具體表示利用具有特定幾何形貌和通量密度的直接磁場或電磁場分別對流體和/或氣體進行處理或磁化，所述磁場或電磁場可以由，例如分別產(chǎn)生所述磁場或電磁場的裝置或單元提供。此外，涉及流體和/或氣體的術(shù)語“正常、非磁化的”或“正?！狈謩e具體地表示各個流體和/或氣體未被磁化或者未經(jīng)過任意直接的磁場或電磁場。此外，涉及流體和/或氣體的術(shù)語“混合”或“間接磁化”具體表示通過起了磁化劑或磁處理劑的作用的直接磁化流體/氣體，以間接的方式進行磁處理的流體和/或氣體。除此之外，術(shù)語“間接磁流體/氣體處理”具體表示分別對正常流體和/或氣體進行處理或磁化，它們不是直接磁場或電磁場的目標(這是對于“直接磁化”的流體和/或氣體的情況)，而是通過“直接磁化”的流體和/或氣體進行磁化(例如與其混合從而磁化)。
[0010]優(yōu)選地，第一直接磁化的流體/氣體與第二正常、非磁化的流體/氣體之間的混合是根據(jù)預定的混合比進行的，其中大部分的混合物是第二正常、非磁化的流體/氣體。
[0011]優(yōu)選地，用于產(chǎn)生直接磁化流體/氣體的處理單元可以是永磁體裝置或者采用線圈和受控電源的電磁裝置。處理單元中的磁場或電磁場可以是任意幾何形貌(一維、二維或三維磁場，取決于所需的通量密度值Bx、By和Bz);磁場的性質(zhì)可以是相吸形式或相斥形式(在永磁體裝置的情況下)；磁場與流體/氣體流動方向之間的角度可以是任意角度，如90、
O、180度，或者任意其他所需的角度。
[0012]優(yōu)選地，當流體/氣體循環(huán)時，在處理單元中，對直接磁化的流體/氣體進行施加具有特定通量密度和幾何形貌的磁場或電磁場的過程。
[0013]優(yōu)選地，可以使用“直列式預處理和后處理傳感器配置”來實現(xiàn)直接磁化的流體/氣體的生產(chǎn)過程，所述“直列式預處理和后處理傳感器配置”包括:首先，從正常流體主供給罐將正常、非磁化的流體/氣體填充到處理容器中；以及接著，進行受控制的流動通過處理單元的循環(huán)過程，該循環(huán)過程輸出其流體回到處理容器。
[0014]在該配置中，在處理單元之前和之后安裝一組所需的傳感器(其可以是取決于應(yīng)用和流體的)，所述傳感器將其傳感數(shù)據(jù)傳輸至控制盒，從而出于分析目的，追蹤在處理單元之前和之后的直接磁化的流體/氣體的物理量和化學量隨時間的變化。
[0015]或者，也可以使用“罐內(nèi)傳感器配置”來實現(xiàn)直接磁化的流體/氣體的生產(chǎn)過程，所述“罐內(nèi)傳感器配置”包括:首先，從正常流體主供給罐將正常、非磁化的流體/氣體填充到處理容器中；以及接著，進行受控制的流動通過處理單元的循環(huán)過程，該循環(huán)過程輸出其流體回到處理容器。在該配置中，在處理容器內(nèi)安裝一組所需的傳感器(其可以是取決于應(yīng)用和流體的)，所述傳感器將其傳感數(shù)據(jù)傳輸至控制盒，從而對于處理罐中的流體/氣體，追蹤直接磁化的流體/氣體的物理量和化學量隨時間的變化。
[0016]或者，也可以使用“并行流動配置”來實現(xiàn)直接磁化的流體/氣體的生產(chǎn)過程，所述“并行流動配置”包括:首先，從正常流體主供給罐將正常、非磁化的流體/氣體填充到處理容器中；以及接著，進行受控制的流動的循環(huán)過程，其中處理容器同時接收通過處理單元的第一受控流和直接來自處理容器的第二受控流。
[0017]或者，也可以使用“單循環(huán)配置”來實現(xiàn)直接磁化的流體/氣體的生產(chǎn)過程，所述“單循環(huán)配置”包括:首先，從正常流體主供給罐將正常、非磁化的流體/氣體填充到正常流體容器中；以及接著，進行向第二處理容器的受控制的流動，所述第二處理容器接收通過處理單元的受控制的流體。
[0018]優(yōu)選地，可以采用底部配置來實現(xiàn)混合過程，其包括:首先，使得第一直接磁化的流體/氣體沉積到混合容器的底部；以及接著，使得第二正常、非磁化的流體/氣體沉積到所述第一直接磁化的流體/氣體的頂部上。該過程也可以重復多次(交替底部配置)。
[0019]或者，也可以采用頂部配置來實現(xiàn)混合過程，其包括:首先，使得第二正常、非磁化的流體/氣體沉積到混合容器的底部；以及接著，使得第一直接磁化的流體/氣體沉積到所述第二正常、非磁化的流體/氣體的頂部上。該過程也可以重復多次(交替頂部配置)。
[0020]或者，也可以采用并行流雙罐配置實現(xiàn)混合過程，其包括:提供用于接收第一直接磁化的流體/氣體的第一容器；提供用于接收第二正常、非磁化的流體/氣體的第二容器；以及提供用于接收第三混合或間接磁化的流體/氣體的第三容器，該第三容器與第一和第二容器相連，用于同時接收第一直接磁化的流體/氣體的第一受控流和第二正常、非磁化流體/氣體的第二受控流。
[0021]或者，也可以采用并行流單罐配置實現(xiàn)混合過程，其包括:提供直列式磁處理單元，用于向第二正常、非磁化的流體/氣體施加特定通量密度和幾何形貌的磁場或電磁場，以瞬間得到第一直接磁化的流體/氣體；提供用于正常、非磁化的流體/氣體的第一容器，該第一容器與處理單元和用于混合或間接磁化的流體/氣體的第二容器相連；其中，所述處理單元從第一容器接收第二正常、非磁化的流體/氣體的受控流并向第二流體/氣體施加磁場或電磁場；并且其中，第二容器同時從處理單元接收第一直接磁化的流體/氣體的第一受控流和從第一容器接收第二正常、非磁化的流體的第二受控流。
[0022]或者，也可以采用序列式單罐配置實現(xiàn)混合過程，其包括:提供用于接收第二正常、非磁化的流體/氣體的第一容器；提供用于接收第一直接磁化的流體/氣體的第二較小容器；以及提供用于接收混合或間接磁化的流體/氣體的第三容器；其中，所述第二較小容器從第一容器接收第二正常、非磁化的流體/氣體的受控流，并向第三容器輸出包含第一直接磁化的流體/氣體和第二正常、非磁化的流體/氣體的混合或間接磁化的流體/氣體的物流。
[0023]作為本發(fā)明的另一個方面，提供了用于生產(chǎn)直接磁化的流體/氣體的設(shè)備，其包括如圖1所示的直列式預處理和后處理傳感器配置，如圖2所示的罐內(nèi)傳感器配置，如圖3所示的并行流配置，如圖4所示的單循環(huán)配置。
[0024]作為本發(fā)明的另一個方面，提供了用于混合過程的設(shè)備，其包括如圖5所示的底部配置，如圖6所示的替代底部配置，如圖7所示的頂部配置，如圖8所示的替代頂部配置，如圖9所示的并行流雙罐配置，如圖10所示的并行流單罐配置，如圖11所示的序列流單罐配置。
[0025]作為本發(fā)明的另一個方面，提供了處理流體/氣體的方法，所述方法包括使用第一直接磁化的流體/氣體作為磁化劑或磁處理劑，對第二正常、非磁化的流體/氣體進行磁化。
[0026]優(yōu)選地，所述使用第一直接磁化的流體/氣體作為磁化劑或磁處理劑，對第二正常、非磁化的流體/氣體進行磁化包括根據(jù)預定的混合比混合第一流體/氣體和第二流體/氣體。`
[0027]附圖簡要說明
[0028]通過以下詳細描述結(jié)合附圖，本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點將是顯而易見的，其中:
[0029]圖1顯示了采用直列式預處理和后處理傳感器配置的直接磁化的流體/氣體的一個示例性生產(chǎn)過程。
[0030]圖2顯示了采用罐內(nèi)傳感器配置的直接磁化的流體/氣體的一個示例性生產(chǎn)過程。
[0031]圖3顯示了采用并行流配置的直接磁化的流體/氣體的一個示例性生產(chǎn)過程。
[0032]圖4顯示了采用單循環(huán)配置的直接磁化的流體/氣體的一個示例性生產(chǎn)過程。
[0033]圖5顯示了采用底部配置的一個示例性混合過程。
[0034]圖6顯示了采用替代底部配置的一個示例性混合過程。
[0035]圖7顯示了采用頂部配置的一個示例性混合過程。
[0036]圖8顯示了采用替代頂部配置的一個示例性混合過程。
[0037]圖9顯示了采用并行流雙罐配置的一個示例性混合過程。
[0038]圖10顯示了采用并行流單罐配置的一個示例性混合過程。
[0039]圖11顯示了采用序列流單罐配置的一個示例性混合過程。
[0040]圖12顯示了用于產(chǎn)生可變電磁場的一個示例性線圈裝置。
[0041]圖13顯示了用于產(chǎn)生可變電磁場的一個示例性永磁體裝置。
[0042]圖14顯示了用于永磁體裝置的一個示例性液壓回路。
[0043]圖15顯示了采用步進式電動機的永磁體裝置的一個示例性磁體旋轉(zhuǎn)。
[0044]圖16顯示了永磁體裝置的一個示例性磁場極性手動翻轉(zhuǎn)。
[0045]圖17顯示了在磁場作用下的一個示例性的可能的管配置。
[0046]圖18顯示了在應(yīng)用情況下使用相吸形式的永磁體裝置的一個示例性三維通量密度。
[0047]圖19顯示了在應(yīng)用情況下使用相斥形式的永磁體裝置的一個示例性三維通量密度。
[0048]發(fā)明詳述
[0049]根據(jù)本發(fā)明的第一個方面，例如，提供了用于間接磁流體/氣體處理的方法，其中，對正常流體/氣體進行磁處理，但不作為直接磁場或電磁場的目標。
[0050]所述間接磁流體/氣體處理的方法可包括以下步驟中的一個或多個或者全部:
[0051]1.通過如下方式生產(chǎn)第一直接磁化的流體/氣體:
[0052]a.根據(jù)如下要求中的一個或多個或者全部，向工作流體/氣體施加直接磁場或電磁場:
[0053]1.所需的磁場幾何形貌。我們可以施加一維、二維、三維磁場。
[0054]i1.所需的通量密度值Bx、By和Bz。
[0055]ii1.磁場的特性，無論是相吸形式或相斥形式。這僅適用于永磁體的情況下。
[0056]iv.磁場與流體/氣體流動之間所要求的角度，其中所述角度可以是90、0、180度，或者任意其他所需的角度。
[0057]V.所需的工作流體/氣體的溫度、壓力和體積。
[0058]b.根據(jù)(如圖1-4所示的)選定的處理配置，在磁場或電磁場的作用下，使工作流體/氣體循環(huán)持續(xù)所需的循環(huán)時間。循環(huán)過程可以是使得工作流體/氣體通過磁場或電磁場至少一次，并且可以最高至數(shù)天。
[0059]2.根據(jù)(如圖5- 11所示的)選定的混合配置，以第一直接磁化的流體/氣體的體積(Vt)與第二正常、非磁化的流體/氣體的體積(Vn)之間所要求的混合比，來混合第一直接磁化的流體/氣體和第二正常、非磁化的流體/氣體?；旌线^程可以是以下形式中的一種:
[0060]a.一次向混合容器中加入一種類型的流體。該過程可采用如下配置中的一種。
[0061]1.底部配置。如圖5所示，在混合容器的底部加入第一直接磁化的流體/氣體，然后在頂部加入第二正常、非磁化的流體/氣體。
[0062]i1.替代底部配置。在混合容器的底部加入第一直接磁化的流體/氣體，然后在頂部加入第二正常、非磁化的流體/氣體。然后將該過程重復多次，如圖6所示。
[0063]ii1.頂部配置。如圖7所示，在混合容器的底部加入第二正常、非磁化的流體/氣體，然后在頂部加入第一直接磁化的流體/氣體。
[0064]iv.替代頂部配置。在混合容器的底部加入第二正常、非磁化的流體/氣體，然后在頂部加入第一直接磁化的流體/氣體。然后將該過程重復多次，如圖8所示。
[0065]b.并行流雙罐配置。在該情形下，一個罐用于直接磁化的流體/氣體，第二個罐用于正常、非磁化的流體/氣體，第三個罐用于混合或間接磁化的流體/氣體。兩個比例閥設(shè)置在第一和第二罐輸出處，其同時控制直接磁化的流體/氣體與正常的、非磁化的流體/氣體之間的混合比，如圖9所示。
[0066]c.并行流單罐配置。在該情形下，一個罐用于正常、非磁化的流體/氣體，第二個罐用于混合或間接磁化的流體/氣體。從第一罐以并行方式伸出兩個輸出管。第一個管通過磁處理單元，處理單元的輸出物(直接磁化的流體/氣體)在第二混合罐中混合。兩個比例閥設(shè)置在第一罐輸出處，其同時控制直接磁化的流體/氣體與正常的、非磁化的流體/氣體之間的混合比。實際上，在該情況下，我們沒有用于直接磁化或處理的流體/氣體的儲存罐，流體/氣體通過處理單元得到立即處理，之后在第二罐中與正常、非磁化的流體/氣體混合。應(yīng)注意的是，如圖10所示，在處理期間，磁處理單元內(nèi)的物流的內(nèi)部流速可能不同于離開磁處理單元的輸出流速。
[0067]d.序列流單罐配置。此處，同時進行直接磁化的流體/氣體與正常、非磁化的流體/氣體之間的序列混合。在該情形下，一個罐用于直接磁化的流體/氣體，第二個罐用于正常、非磁化的流體/氣體，第三個罐用于混合或間接磁化的流體/氣體。從它的罐流出的正常、非磁化的流體/氣體受到比例閥的控制并流過經(jīng)處理罐，其中經(jīng)處理罐的輸出流可以被立即用于應(yīng)用中或者存儲在第三混合罐中。在此情況下，經(jīng)處理罐的體積和比例閥開口率是控制參數(shù)，如圖11所示。
[0068]3.在適當?shù)膽?yīng)用中使用混合或間接磁化的流體/氣體。在此情況下，具有兩種情形。在第一種情形中，將混合或間接磁化的流體/氣體儲存在混合罐中以待后用；而在第二種情形中，將混合或間接磁化的流體/氣體立即用于應(yīng)用中，而沒有儲存在混合罐中。
[0069]應(yīng)注意的是，前述處理過程具有如下控制參數(shù)中的一個或多個或者全部，它們是依賴于流體/氣體和應(yīng)用的:
[0070]1.直接磁化的流體/氣體的直接磁場或電磁場處理參數(shù):
[0071]a.磁場的維度和幾何形貌(一維、二維、三維)。
[0072]b.取決于給定的維度，所需的通量密度值(Bx、By、Bz)。
[0073]c.磁場的特性，無論是相吸形式或相斥形式(在永磁體裝置的情況下)。[0074]d.磁場與流體/氣體流動之間所要求的角度，其中所述角度可以是90度(垂直方向)、0度0?同方向)、180度_反方向)，或者任意其他所需的角度。
[0075]e.所要求的直接磁化的流體/氣體的體積。
[0076]f.所要求的直接磁化的流體/氣體的溫度和壓力。 [0077]g.在磁場作用下的流體/氣體的流速。
[0078]h.所要求的循環(huán)時間或者磁場在流體/氣體上的施加時間。
[0079]1.磁處理的管的幾何形貌和管的內(nèi)截面。
[0080]2.混合過程參數(shù):
[0081]a.正常、非磁化的流體/氣體的體積。
[0082]b.直接磁化的流體/氣體的體積。
[0083]c.所要求的正常、非磁化的流體/氣體和直接磁化的流體/氣體的溫度和壓力。
[0084]d.受到比例閥(只要使用的情況下)開口控制的兩個流體之間的混合比。
[0085]e.正常、非磁化的流體/氣體和直接磁化的流體/氣體的混合流速。
[0086]本發(fā)明的主要特征可包括如下一個或多個或者全部:
[0087]1.使用直接磁化或處理的流體/氣體作為用于正常、非磁化的流體/氣體的磁化劑或磁處理劑。
[0088]2.使用儲存在直接磁化的流體/氣體中的磁場作為用于正常、非磁化的流體/氣體的處理方法。
[0089]3.在制備直接磁化的流體/氣體中使用具有特定通量密度的一維、二維或三維磁幾何形貌。在永磁體裝置的情況下，可以產(chǎn)生最高至三維的通量密度，這取決于磁體裝置之間的距離，磁體裝置的幾何形貌以及磁體裝置之間的相吸或相斥作用力。
[0090]4.在制備直接磁化的流體/氣體中使用任意磁裝置或者電磁裝置。這包括所用磁體的類型(NdFeb，或者任意其他磁體材料)，磁體的形狀(矩形、圓柱形或者任意其他形狀)，所用磁體的數(shù)量，裝置的三維配置，以及與裝置相關(guān)的其他相關(guān)參數(shù)。
[0091]5.在制備直接磁化的流體/氣體中使用數(shù)高斯至數(shù)特斯拉的范圍的通量密度
(Βχ> By、Bz) O
[0092]6.在制備直接磁化的流體/氣體中，在永磁體的情況下，采用無論是相吸形式或相斥形式的磁場。
[0093]7.在電磁場裝置的情況下，電流控制系統(tǒng)可以是直流電流源或者與可變電阻器串聯(lián)的直流電壓源。在采用交流電源的情況下，則可以使用變換器將其轉(zhuǎn)換為直流，然后用于前述兩種情形中的一種。
[0094]8.在產(chǎn)生直接磁化的流體/氣體期間和混合過程中,對直接磁化的流體/氣體的溫度、壓力和體積(水平)進行調(diào)節(jié)和控制。
[0095]9.在混合過程和存儲階段，對正常、非磁化的流體/氣體以及混合或間接磁化的流體/氣體的溫度、壓力和體積(水平)進行調(diào)節(jié)和控制。
[0096]10.附圖中任意位置所使用的加熱或冷卻元件表示根據(jù)實際需要對流體/氣體的溫度進行控制的加熱和/或冷卻系統(tǒng)。
[0097]11.在直接磁化的流體/氣體的制備過程中，用于工作流體/氣體的流控制系統(tǒng)可用于控制在磁場作用下移動的流體/氣體的流速。[0098]12.本發(fā)明的所有控制參數(shù)可以根據(jù)直列式傳感器數(shù)據(jù)進行控制，其可用于兩個處理階段(產(chǎn)生直接磁化的流體/氣體以及混合過程)。這些傳感器取決于流體/氣體和取決于應(yīng)用。例如，在燃料處理的情況下，使用直列式粘度和密度傳感器來觀察流體/氣體的物理參數(shù)的變化。如果工作流體/氣體是水，則我們可使用直列式pH和TDS傳感器或者任意其他傳感器。
[0099]13.對于磁場和流體/氣體流之間的角度，采用最常用的操作模式，其中，所述角度可以是90、0、180度，或者任意其他角度，這取決于磁場源以及流體/氣體在其中流動的管的形狀。 [0100]14.可以使用永磁體裝置(例如但不限于圖13-16)或者電磁場(其中，直流電流流過線圈，例如但不限于圖12)來產(chǎn)生用于制備直接磁化的流體/氣體的磁場。
[0101]15.在可變距離的永磁體裝置的情況下，控制兩個磁體之間的距離的致動機制可以是液壓、氣壓、電致動器，或者任意其他可能的機制。
[0102]16.管的形狀可以是直的、垂直-水平的、螺旋狀三維(彈簧)形狀，或者如圖17所示的任意其他形狀，流體/氣體在磁場作用下在所述管中流動。
[0103]17.在制備直接磁化的流體/氣體過程中，在磁場作用下的流體/氣體流在垂直流動的情況下可能受到重力的作用，或者可能是水平流動。
[0104]18.在磁場的作用下，管的內(nèi)芯采用圓形、正方形或者矩形截面，如圖17所示。
[0105]19.管的直徑可以是微觀水平或宏觀水平或者可以是微微尺寸至厘米尺寸的任意值，流體/氣體在磁場作用下在所述管中流動。
[0106]20.可以使用一次循環(huán)時間(在磁場中通過一次)或者可以持續(xù)循環(huán)一段特定的時間來產(chǎn)生直接磁化的流體/氣體。
[0107]21.直接磁化的流體/氣體與正常、非磁化的流體/氣體之間的混合比通常取決于工作流體/氣體，工作流體/氣體的操作溫度和壓力，三維空間的通量密度，流體/氣體流與施加的通量之間的角度，循環(huán)時間以及應(yīng)用。
[0108]22.在其儲存期間，直接磁化的流體/氣體以及混合或間接磁化的流體/氣體可以在特定壓力和溫度下保持特定的持續(xù)時間，以待后用。該過程對流體/氣體的磁記憶都起了控制作用。
[0109]23.正常、非磁化的流體/氣體和直接磁化的流體/氣體通常具有相同的化學結(jié)構(gòu)，但是在一些應(yīng)用中，它們可以具有不同的化學結(jié)構(gòu)。
[0110]24.本發(fā)明的可能的應(yīng)用可以包括但不限于，對流體/氣體進行直接磁處理的常規(guī)應(yīng)用，例如農(nóng)業(yè)目的的水處理，用于水垢的水處理，用于降低鹽度的水處理，用于建筑的水處理，燃料處理，柴油處理，汽油處理，煤油處理，燃油處理，噴氣燃料處理以及所有其他現(xiàn)有的磁處理方法。
[0111]應(yīng)用情況
[0112]將根據(jù)本發(fā)明的方法和設(shè)備用于柴油機燃料處理。在該例子中，對于磁處理裝置中使用的各個磁體分別使用一對尺寸為15*10*6cm的矩形NdFeb磁體裝置,如圖13-16所示。圖18顯示了對于相吸情況下，在磁體寬度和長度上的中點的磁通量密度(Bx、By、Bz)與磁體之間的內(nèi)部距離的關(guān)系。圖19顯示了對于相斥情況下，在磁體寬度和長度上的中點的磁通量密度(Bx、By、Bz)與磁體之間的內(nèi)部距離的關(guān)系。為了處理目的，在相吸情況下操作磁體，并且分開2cm的距離。首先，柴油處理36小時，然后根據(jù)各種混合比，將該直接磁化的柴油與正常柴油混合。混合或間接磁化的柴油的熱含量結(jié)果以及相應(yīng)的粘度和密度見表
I?；旌媳葹轶w積比，總樣品體積為I升。
[0113]雖然上述應(yīng)用情況包含許多特異性，但是它們不應(yīng)理解為對本發(fā)明的限制，而僅僅是本發(fā)明現(xiàn)有優(yōu)選實施方式的代表。上述本發(fā)明的實施方式僅僅是示例性的。因此，本發(fā)明的范圍僅受所附權(quán)利要求的范圍限制。
[0114]
【權(quán)利要求】
1.一種對流體和/或氣體進行間接磁處理的方法，所述方法包括: a.提供正常、非磁化的流體/氣體，對所述正常的流體/氣體施加具有特定通量密度和幾何形貌的直接磁場或電磁場，以得到第一直接磁化的流體/氣體； b.提供第二正常、非磁化的流體/氣體；以及 c.混合所述第一直接磁化的流體/氣體和第二正常、非磁化的流體/氣體，以得到第三混合或間接磁化的流體/氣體，該第三混合或間接磁化的流體/氣體也經(jīng)過磁處理，并且比第一直接磁化的流體/氣體和第二正常、非磁化的流體/氣體更有效。
2.如權(quán)利要求1所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，所述第一流體/氣體是經(jīng)過直接磁處理或電磁處理的直接磁化的流體/氣體，而所述第二流體/氣體是未通過任何直接磁場/電磁場的正常、非磁化的流體/氣體，其中，在所述第三混合或間接磁化的流體/氣體中，第一直接磁化的流體/氣體對第二正常、非磁化的流體/氣體進行間接磁處理，第三混合或間接磁化的流體/氣體以間接的方式受到完全處理。
3.如前述任一項權(quán) 利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，用于產(chǎn)生直接磁化的流體/氣體的處理單元可以是永磁體裝置或者采用線圈和受控制的電流/電壓源的電磁裝置，其中，在所述處理單元中的磁場或電磁場可以是任意維度和幾何形貌(一維、二維、三維磁場);通量密度(Bx、By、Bz)可以在數(shù)高斯至數(shù)特斯拉的范圍內(nèi)；磁場的特性可以是相吸形式或者相斥形式(在永磁體裝置的情況下)；并且磁場與流體/氣體流之間所要求的角度可以是任意角度，如90、0、180度，或者任意其他所需的角度。
4.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，當流體/氣體循環(huán)時，在處理單元中，對直接磁化的流體/氣體進行施加具有特定通量密度和幾何形貌的磁場或電磁場的過程。
5.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，產(chǎn)生直接磁化的流體/氣體的過程包括: a.首先，在處理容器中填充正常、非磁化的流體/氣體；以及 b.接著，進行受控制的流動通過處理單元的循環(huán)過程，該循環(huán)過程輸出其流體回到處理容器。
6.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，產(chǎn)生直接磁化的流體/氣體的過程包括: a.首先，在處理容器中填充正常、非磁化的流體/氣體；以及 b.接著，進行受控制的流動的循環(huán)過程，其中處理容器同時接收通過處理單元的第一受控流和直接來自處理容器的第二受控流。
7.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，產(chǎn)生直接磁化的流體/氣體的過程包括: a.首先，在正常流體容器中填充正常、非磁化的流體/氣體；以及 b.接著，進行受控制地流動到第二處理容器的過程，所述第二處理容器從處理單元接收受控流。
8.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，根據(jù)預定的混合比，進行第一直接磁化的流體/氣體和第二正常、非磁化的流體/氣體之間的混合過程。
9.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，所述混合包括: a.首先，使得第一直接磁化的流體/氣體沉積到混合容器的底部；以及 b.接著，使得第二正常、非磁化的流體/氣體沉積到所述第一直接磁化的流體/氣體的頂部上； c.該過程可以進行一次或者重復多次。
10.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，所述混合包括: a.首先，使得第二正常、非磁化的流體/氣體沉積到混合容器的底部；以及 b.接著，使得第一直接磁化的流體/氣體沉積到所述第二正常、非磁化的流體/氣體的頂部上； c.該過程可以進行一次或者重復多次。
11.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，所述混合包括: a.提供用于接收第一直接磁化的流體/氣體的第一容器； b.提供用于接收第二正常、非磁化的流體/氣體的第二容器；以及 c.提供用于接收第三混合或間接磁化的流體/氣體的第三容器，該第三容器與第一和第二容器相連，用于同時接收第一直接磁化的流體/氣體的第一受控流和第二正常、非磁化流體/氣體的第二受控流。
12.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，所述混合包括: a.提供直列式磁處理單元，用于向第二正常、非磁化的流體/氣體施加具有如權(quán)利要求3所述的具有特定通量密度和幾何形貌的磁場或電磁場，以立即得到第一直接磁化的流體/氣體；以及 b.提供用于正常、非磁化的流體/氣體的第一容器，該第一容器與處理單元和用于混合或間接磁化的流體/氣體的第二容器相連；其中，所述處理單元從第一容器接收第二正常、非磁化的流體/氣體的受控流并向第二流體/氣體施加磁場或電磁場；并且其中，第二容器同時從處理單元接收第一直接磁化的流體/氣體的第一受控流和從第一容器接收第二正常、非磁化的液體的第二受控流。
13.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，所述混合包括: a.提供用于接收第二正常、非磁化的流體/氣體的第一容器； b.提供用于接收第一直接磁化的流體/氣體的第二較小容器；以及 c.提供用于接收混合或間接磁化的流體/氣體的第三容器；其中，所述第二較小容器從第一容器接收第二正常、非磁化的流體/氣體的受控流，并向第三容器輸出包含第一直接磁化的流體/氣體和第二正常、非磁化的流體/氣體的混合或間接磁化的流體/氣體的流。
14.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行間接磁處理的方法，所述方法包括使用第一直接磁化的流體/氣體作為磁化劑或磁處理劑，對正常、非磁化的流體/氣體進行磁化。
15.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，所述使用第一直接磁化的流體/氣體作為磁化劑或磁處理劑，對第二正常、非磁化的流體/氣體進行磁化包括根據(jù)預定的混合比混合第一流體/氣體和第二流體/氣體。
16.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，所述直接磁化的流體/氣體在混合過程中直接使用，或者短暫存儲或長期存儲，以在以后的混合過程中使用。
17.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，所述混合或間接磁化的流體/氣體直接用于預期用途，或者短暫存儲或長期存儲，以在以后用于預期用途。
18.如前述任一項權(quán)利要求所述的對流體/氣體進行處理的方法，其特征在于，第一直接磁化的流體/氣體和第二正常、非磁化的流體/氣體具有相似的化學結(jié)構(gòu)，或者可具有略為不同的化學結(jié)構(gòu)。
19.一種對流體/氣體進行間接磁處理的方法，其中，混合或間接磁化的流體/氣體用作磁化劑或磁處理劑，根 據(jù)混合比，對正常、非磁化的流體/氣體進行不止一次的磁化。
【文檔編號】C10G32/02GK103748194SQ201280024065
【公開日】2014年4月23日 申請日期:2012年5月16日 優(yōu)先權(quán)日:2011年5月19日
【發(fā)明者】Z·阿波－哈默爾 申請人:環(huán)境和水質(zhì)能源專業(yè)處理有限公司