帶觸媒自動(dòng)還原裝置的鎳轉(zhuǎn)化爐的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于轉(zhuǎn)化爐領(lǐng)域，具體地說是一種帶觸媒自動(dòng)還原裝置的鎳轉(zhuǎn)化爐。
【背景技術(shù)】
[0002]轉(zhuǎn)化爐中，催化用的觸媒在使用一段時(shí)間后需要進(jìn)行還原，以保證催化的轉(zhuǎn)化率。目前，需要將觸媒取出進(jìn)行還原操作，操作過程十分復(fù)雜。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型提供一種帶觸媒自動(dòng)還原裝置的鎳轉(zhuǎn)化爐，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷。
[0004]本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn):
[0005]帶觸媒自動(dòng)還原裝置的鎳轉(zhuǎn)化爐，包括爐體和氫氣發(fā)生器，爐體包括轉(zhuǎn)換腔和還原腔，轉(zhuǎn)換腔位于還原腔下部，轉(zhuǎn)換腔和還原腔之間設(shè)置上隔離板，上隔離板上開設(shè)上通孔，上隔離板下部設(shè)置上電推桿，上電推桿的活塞桿上安裝水平的上隔離片，上隔離片能夠與上通孔配合；還原腔上設(shè)置吊機(jī)，吊機(jī)上設(shè)置拉繩，拉繩的端部設(shè)置機(jī)械手，轉(zhuǎn)換腔內(nèi)設(shè)置觸媒箱，機(jī)械手能夠與觸媒箱配合，觸媒箱能夠穿過上通孔；氫氣發(fā)生器的氫氣出氣口位于還原腔內(nèi)。
[0006]如上所述的帶觸媒自動(dòng)還原裝置的鎳轉(zhuǎn)化爐，所述的轉(zhuǎn)換腔上部設(shè)置下隔離板，下隔離板與上隔離板之間形成隔離腔，下隔離板的上開設(shè)下通孔，下隔離板上部設(shè)置下電推桿，下電推桿的活塞桿上安裝水平的下隔離片，下隔離片能夠與下通孔配合；觸媒箱能夠穿過下通孔。
[0007]如上所述的帶觸媒自動(dòng)還原裝置的鎳轉(zhuǎn)化爐，所述的轉(zhuǎn)換腔的底部設(shè)置限位板，限位板能夠與觸媒箱配合。
[0008]如上所述的帶觸媒自動(dòng)還原裝置的鎳轉(zhuǎn)化爐，所述的氫氣出氣口位于還原腔的下部，開口朝向斜上。
[0009]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:本實(shí)用新型當(dāng)觸媒箱需要還原操作時(shí)，通過上推桿將上隔離片打開，將機(jī)械手下落抓住觸媒箱，將觸媒箱提起至還原腔內(nèi)，再將還原腔封閉，向還原腔內(nèi)通入氫氣進(jìn)行還原反應(yīng)。本實(shí)用新型可以在爐體內(nèi)自動(dòng)完成觸媒的還原操作，無需將觸媒取出，操作方便。
【附圖說明】
[0010]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作一簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0011]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]附圖標(biāo)記:1轉(zhuǎn)換腔，2下電推桿，3隔離腔，4上電推桿，5上隔離板，6氫氣發(fā)生器，7氫氣出氣口，8吊機(jī)，9下隔離板，10拉繩，11還原腔，12機(jī)械手，13上通孔，14上隔離片，15下隔離片，16下通孔，17觸媒箱，18限位板。
【具體實(shí)施方式】
[0013]為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0014]帶觸媒自動(dòng)還原裝置的鎳轉(zhuǎn)化爐，如圖所示，包括爐體和氫氣發(fā)生器6，爐體包括轉(zhuǎn)換腔1和還原腔11，轉(zhuǎn)換腔1位于還原腔11下部，轉(zhuǎn)換腔1和還原腔11之間設(shè)置上隔離板5，上隔離板5上開設(shè)上通孔13，上隔離板5下部設(shè)置上電推桿4，上電推桿4的活塞桿上安裝水平的上隔離片14，上隔離片14能夠與上通孔13配合；還原腔11上設(shè)置吊機(jī)8，吊機(jī)8上設(shè)置拉繩10，拉繩10的端部設(shè)置機(jī)械手12，轉(zhuǎn)換腔1內(nèi)設(shè)置觸媒箱17，機(jī)械手12能夠與觸媒箱17配合，觸媒箱17能夠穿過上通孔13 ;氫氣發(fā)生器6的氫氣出氣口 7位于還原腔11內(nèi)。本實(shí)用新型當(dāng)觸媒箱需要還原操作時(shí)，通過上推桿將上隔離片打開，將機(jī)械手下落抓住觸媒箱，將觸媒箱提起至還原腔內(nèi)，再將還原腔封閉，向還原腔內(nèi)通入氫氣進(jìn)行還原反應(yīng)。本實(shí)用新型可以在爐體內(nèi)自動(dòng)完成觸媒的還原操作，無需將觸媒取出，操作方便。
[0015]具體而言，為了增加還原過程安全性，本實(shí)施例所述的轉(zhuǎn)換腔1上部設(shè)置下隔離板9，下隔離板9與上隔離板5之間形成隔離腔3，下隔離板9的上開設(shè)下通孔16，下隔離板9上部設(shè)置下電推桿2，下電推桿2的活塞桿上安裝水平的下隔離片15，下隔離片15能夠與下通孔16配合；觸媒箱17能夠穿過下通孔16。通過隔離腔3能夠有效隔離轉(zhuǎn)換腔1和還原腔11，上通孔13和下電推桿2均位于隔離腔3內(nèi)，無論是轉(zhuǎn)換操作還是還原操作，均可以保護(hù)隔離腔3內(nèi)的設(shè)備。
[0016]具體的，為了保持觸媒箱17復(fù)位后位置一致，本實(shí)施例所述的轉(zhuǎn)換腔1的底部設(shè)置限位板18，限位板18能夠與觸媒箱17配合。
[0017]進(jìn)一步的，為了提高還原效果，本實(shí)施例所述的氫氣出氣口 7位于還原腔11的下部，開口朝向斜上。
[0018]最后應(yīng)說明的是:以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而非對其限制；盡管參照前述實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可以對前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實(shí)用新型各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.帶觸媒自動(dòng)還原裝置的鎳轉(zhuǎn)化爐，其特征在于:包括爐體和氫氣發(fā)生器(6)，爐體包括轉(zhuǎn)換腔(1)和還原腔(11)，轉(zhuǎn)換腔(1)位于還原腔(11)下部，轉(zhuǎn)換腔(1)和還原腔(11)之間設(shè)置上隔離板(5)，上隔離板(5)上開設(shè)上通孔(13)，上隔離板(5)下部設(shè)置上電推桿(4)，上電推桿(4)的活塞桿上安裝水平的上隔離片(14)，上隔離片(14)能夠與上通孔(13)配合；還原腔(11)上設(shè)置吊機(jī)(8)，吊機(jī)(8)上設(shè)置拉繩(10)，拉繩(10)的端部設(shè)置機(jī)械手(12 )，轉(zhuǎn)換腔(1)內(nèi)設(shè)置觸媒箱(17 )，機(jī)械手(12 )能夠與觸媒箱(17 )配合，觸媒箱(17 )能夠穿過上通孔(13 );氫氣發(fā)生器(6 )的氫氣出氣口( 7 )位于還原腔(11)內(nèi)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶觸媒自動(dòng)還原裝置的鎳轉(zhuǎn)化爐，其特征在于:所述的轉(zhuǎn)換腔(1)上部設(shè)置下隔離板(9)，下隔離板(9)與上隔離板(5)之間形成隔離腔(3)，下隔離板(9)的上開設(shè)下通孔(16)，下隔離板(9)上部設(shè)置下電推桿(2)，下電推桿(2)的活塞桿上安裝水平的下隔離片(15)，下隔離片(15)能夠與下通孔(16)配合；觸媒箱(17)能夠穿過下通孔(16)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶觸媒自動(dòng)還原裝置的鎳轉(zhuǎn)化爐，其特征在于:所述的轉(zhuǎn)換腔(1)的底部設(shè)置限位板(18)，限位板(18)能夠與觸媒箱(17)配合。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶觸媒自動(dòng)還原裝置的鎳轉(zhuǎn)化爐，其特征在于:所述的氫氣出氣口( 7)位于還原腔(11)的下部，開口朝向斜上。
【專利摘要】帶觸媒自動(dòng)還原裝置的鎳轉(zhuǎn)化爐，包括爐體和氫氣發(fā)生器，爐體包括轉(zhuǎn)換腔和還原腔，轉(zhuǎn)換腔位于還原腔下部，轉(zhuǎn)換腔和還原腔之間設(shè)置上隔離板，上隔離板上開設(shè)上通孔，上隔離板下部設(shè)置上電推桿，上電推桿的活塞桿上安裝水平的上隔離片，上隔離片能夠與上通孔配合；還原腔上設(shè)置吊機(jī)，吊機(jī)上設(shè)置拉繩，拉繩的端部設(shè)置機(jī)械手，轉(zhuǎn)換腔內(nèi)設(shè)置觸媒箱，機(jī)械手能與觸媒箱配合，觸媒箱能穿過上通孔；氫氣發(fā)生器的氫氣出氣口位于還原腔內(nèi)。當(dāng)觸媒箱需要還原操作時(shí)，通過上推桿將上隔離片打開，將機(jī)械手下落抓住觸媒箱，將觸媒箱提起至還原腔內(nèi)，再將還原腔封閉，向還原腔內(nèi)通入氫氣進(jìn)行還原反應(yīng)。在爐體內(nèi)自動(dòng)完成觸媒的還原操作，無需將觸媒取出，操作方便。
【IPC分類】C22B23/02, B01J38/10, B01J8/00, C22B7/00
【公開號(hào)】CN205073978
【申請?zhí)枴緾N201520677278
【發(fā)明人】孫彩霞, 孫娜, 司明鑫
【申請人】孫彩霞, 孫娜, 司明鑫
【公開日】2016年3月9日
【申請日】2015年9月5日