立式輥磨機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及根據(jù)權(quán)利要求1的前序部分所述的立式輥磨機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]立式研磨機(jī)(或者也稱為立式輥磨機(jī))為人們所熟知(W02005/028112A1，DE3100341A1)。所述立式研磨機(jī)在研磨機(jī)殼體的上部區(qū)域具有繞垂直軸線轉(zhuǎn)動、用于對氣流中向上輸送的細(xì)料-氣體混合物進(jìn)行分類的分類筐。
[0003]在加工方面，由于此類立式研磨機(jī)需要日益增大的吞吐量，因此諸如研磨臺、研磨輥、分類筐等部件均采用越來越大的尺寸。因此，由于部件的尺寸，在某種程度上使得部件不再作為一個單元、而是相反地僅能作為子分割單元(其一旦到達(dá)了立式輥磨機(jī)的使用地，就必須組合在一起或焊接在一起)來制造。
[0004]除了這些方面以外，還需要越來越大的氣體體積和相應(yīng)的風(fēng)扇，以便例如能夠經(jīng)由環(huán)形間隙將熱的氣體作為運(yùn)輸及干燥氣體吹入，特別是能夠?qū)崿F(xiàn)研磨顆粒經(jīng)過輥磨機(jī)的整個高度而至分類筐處的向上輸送。
[0005]另一種有助于對難以分散開的材料混合物的成分進(jìn)行分離和輸出的立式研磨機(jī)(DE19718668C2)在其研磨殼體的上部區(qū)域中水平分類器，其繞水平軸轉(zhuǎn)動，并以此有助于從研磨和分類處理中輸出細(xì)料。
[0006]因此，可以假設(shè)已經(jīng)知道在立式輥磨機(jī)中使用一個或多個水平分類器。
[0007]然而在能量方面，此類構(gòu)造還具有如下問題:即，為輸送過度研磨的研磨材料顆粒而提供了較大的氣體體積，以便能夠?qū)⑦@些顆粒大致經(jīng)過立式研磨機(jī)殼體的整個高度而運(yùn)送到設(shè)置在上部區(qū)域中的水平分類器中。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]因此，本發(fā)明的目的在于以如下方式設(shè)計(jì)一種立式研磨機(jī)，具體說是立式輥磨機(jī):即，即使在立式研磨機(jī)日漸大型并且吞吐量更高的情況下，尤其是分類器部件能夠以一個單元或多個單元來實(shí)現(xiàn)，并且可以避免運(yùn)輸及干燥氣體所需的能源的大幅增加。
[0009]根據(jù)本發(fā)明，該目的可以通過權(quán)利要求1所述的特征來實(shí)現(xiàn)。本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例將在從屬權(quán)利要求中要求保護(hù)。
[0010]可以看出，本發(fā)明的基本核心思想在于極大地縮短了過度研磨的材料顆粒通向分類器的傳輸路徑，從而針對所需的壓力和氣體體積而不會出現(xiàn)更高的能量需求。
[0011]一方面，這通過使設(shè)置在研磨機(jī)殼體上部區(qū)域中的分類筐偏移并且替代地將更小型的分類器(具體說是水平分類器或輕度傾斜的分類器)設(shè)置在輥的附近來實(shí)現(xiàn)。
[0012]可以看出，本發(fā)明的又一基本思想在于，針對由研磨輥過度研磨的研磨材料，設(shè)置用于在氣流中將更細(xì)化的研磨材料顆粒向上輸送的引導(dǎo)單元，其中所述引導(dǎo)單元有助于向各個水平分類器的螺旋式進(jìn)料。
[0013]由于水平分類器或那種具有傾斜旋轉(zhuǎn)軸的更小型分類器的更小型結(jié)構(gòu)單元(其中這些分類器設(shè)置在輥的附近)，因此以這種方式設(shè)計(jì)的具有旋轉(zhuǎn)式研磨臺和至少兩個在研磨盤上滾動的固定式研磨輥的立式輥磨機(jī)帶來了就所需的運(yùn)輸及干燥氣體而言更有效的能源利用，甚至是能源的節(jié)約。
[0014]為了更好地對在氣流中向上輸送的研磨材料顆粒進(jìn)行輸送，這種相應(yīng)的水平分類器與彎曲的引導(dǎo)單元的組合減少或避免了(視情況而定)被過度研磨的研磨材料顆粒的內(nèi)部再循環(huán)，從而能夠?qū)崿F(xiàn)能耗降低。
[0015]將風(fēng)力分類器或水平分類器以及引導(dǎo)單元有利地分配給每個研磨輥，從而廣泛地避免再循環(huán)流動。
[0016]然而也可以想到，代替向每個研磨輥單獨(dú)分配水平分類器的做法，還可以將例如兩個研磨輥的上升氣體-研磨材料顆粒流匯集到一起。因此，在具有四個研磨輥的研磨機(jī)的示例中，還可以想到具有兩個水平分類器的構(gòu)造，其中各個水平分類器分配給兩個成一對組合在一起的研磨輥。
[0017]與流動有關(guān)的改進(jìn)還可以通過將各個風(fēng)力分類器設(shè)置為在相應(yīng)的研磨輥的前方偏移的方式來實(shí)現(xiàn)。在結(jié)構(gòu)方面，如圖1所示，風(fēng)力分類器可因此相對于引導(dǎo)穿過各個研磨輥中心的縱軸而偏移，其中這發(fā)生在過度研磨的研磨材料所出現(xiàn)的研磨輥后方的方向上。各個風(fēng)力分類器相對于相應(yīng)研磨輥偏移的構(gòu)造具有的優(yōu)點(diǎn)是:出現(xiàn)在研磨輥后方的(可以這樣說)過度研磨的研磨材料的研磨材料顆粒可以更好地通過用于在氣流中向上輸送細(xì)化的研磨材料的引導(dǎo)單元來向上帶動，并且可以通過更有針對性的方式輸送到所分配的水平分類器中。
[0018]為了提高對向上輸送的研磨材料顆粒的傳送，引導(dǎo)單元構(gòu)造為彎曲式引導(dǎo)板或者以彎曲方式延伸的收集通道，用以將顆粒螺旋式輸送到風(fēng)力分類器的分類筐中。在流體動力學(xué)方面，與相應(yīng)的風(fēng)力分類器的分類筐具有相同旋轉(zhuǎn)方向的研磨材料顆粒的輸送由此可經(jīng)由相對短的距離來實(shí)現(xiàn)，從而實(shí)現(xiàn)對研磨材料顆粒的良好分類。
[0019]只要針對向上傳輸?shù)难心ゲ牧项w粒提供了彎曲的收集通道，則該通道在向著風(fēng)力分類器方向上的橫截面將減小，由此考慮到該區(qū)域中增加的流動速度和作用于此處的離心力，可以實(shí)現(xiàn)對粗料的一種預(yù)先分類。包括被風(fēng)力分類器的分類筐拒收的粗顆粒在內(nèi)，這些粗料向設(shè)置在風(fēng)力分類器下方的再循環(huán)單元移動，并且再次輸送到研磨處理中。再循環(huán)單元有利地形成為漏斗狀錐體，由此拒收的粗料被饋送回向著中心(優(yōu)選地大約在研磨臺的中間)傾斜的再循環(huán)單元上。
[0020]風(fēng)力分類器或水平分類器的構(gòu)造可通過可構(gòu)建的簡單方式、經(jīng)由用于氣體-細(xì)料流的常規(guī)內(nèi)側(cè)中央排氣管線來進(jìn)行連接，從而使得進(jìn)料管足以用于向下游單元(諸如旋風(fēng)分離器或灰塵過濾器)輸送氣體-細(xì)料流。
[0021]根據(jù)整個立式研磨機(jī)的設(shè)計(jì)，各個風(fēng)力分類器可以配備針對分類氣體-細(xì)料混合物的獨(dú)立的向外排放管線。通過這種劃分形式，可以采取對不同期望級別的研磨材料顆粒的獨(dú)立制備。
[0022]盡管整合了多個風(fēng)力或水平分類器，但在立式研磨機(jī)的構(gòu)造中可以實(shí)現(xiàn)中央的研磨材料進(jìn)給，使得盡管存在多個風(fēng)力分類器，但不會出現(xiàn)增加成本的資源。
[0023]這種設(shè)計(jì)有水平構(gòu)造或傾斜風(fēng)力分類器(具體說是，分別分配給研磨輥的風(fēng)力分類器)的立式研磨機(jī)有利于縮短過度研磨的研磨材料顆粒的傳輸路徑。根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案，能夠大幅度改進(jìn)研磨處理和為此所需的能量資源，這尤其是因?yàn)榱⑹窖心C(jī)的整體高度更小且更低，并且盡可能大范圍地避免了對過度研磨的研磨材料顆粒的再循環(huán)。與立式研磨機(jī)上部區(qū)域中的靜態(tài)分類器相比，水平式或傾斜式風(fēng)力分類器提高了對細(xì)化材料顆粒的分類。
[0024]由于使過度研磨的研磨材料顆粒向上的傳輸路徑縮短，因此，即使在圍繞研磨臺的環(huán)形間隙內(nèi)的葉片環(huán)的情況下，也可以降低氣體體積和所需的壓力，從而實(shí)現(xiàn)能源節(jié)約。
【附圖說明】
[0025]下面使用示意性實(shí)施例來對本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)的說明。
[0026]圖1示出了立式研磨機(jī)的局部剖面，該區(qū)域中設(shè)置有研磨臺、位于研磨臺上的研磨輥，以及設(shè)置在輥附近的水平分類器。所示的剖面大約對應(yīng)于90°的剖面，其也可以是相對于研磨輥的外輪廓的大約140°的剖面?；谘心ヅ_的旋轉(zhuǎn)軸，示出了研磨輥及其內(nèi)側(cè)視圖，而圖1的左側(cè)區(qū)示出了在研磨臺邊緣及環(huán)形間隙的區(qū)域中的具有示意性搖臂構(gòu)造的第二研磨輥的側(cè)視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0027]圖1示意性地以局部剖視圖示出了根據(jù)本發(fā)明的立式輥磨機(jī)I。
[0028]該詳細(xì)的剖視圖通過在兩個相鄰的研磨輥4( 二者偏移大約90° )的垂直軸線之間成大約90°的圓弧段剖面來顯示立式輥磨機(jī)I。因此，整個圓弧段剖面在某種程度上要更大，大約為140°。
[0029]在下部區(qū)域中顯