本技術(shù)涉及廢氣處理設(shè)備領(lǐng)域，更具體地說，它涉及光催化氧化凈化設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、光催化氧化凈化設(shè)備是一種利用光催化技術(shù)進行空氣或水污染物凈化的裝置，它將可見光或紫外光輻射到光催化劑上，通過光催化劑的活性氧化反應(yīng)，將有機物、有害氣體和細菌等污染物分解、氧化成無害物質(zhì)，光催化氧化凈化設(shè)備在室內(nèi)空氣凈化、水處理、vocs去除等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。

2、光催化氧化凈化設(shè)備會在兩端安裝催化板，通過在殼體開設(shè)開槽，催化板通過開槽處插入完成安裝，催化板與殼體之間密封性較差，會有少量有害氣體從開槽處泄漏。

3、因此需要提出新的方案來解決這個問題。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本實用新型的目的在于提供光催化氧化凈化設(shè)備。

2、本實用新型的上述技術(shù)目的是通過以下技術(shù)方案得以實現(xiàn)的：光催化氧化凈化設(shè)備，包括機體和安裝在機體兩端的催化板，所述機體的兩端均開設(shè)有開槽，兩個所述開槽位于機體的同一側(cè)，所述催化板穿過開槽，所述催化板的一端設(shè)有封閉塊，所述封閉塊上套設(shè)有用于抵觸開槽槽壁的密封環(huán)，所述封閉塊上滑動有若干用于擠壓密封環(huán)的擠壓塊。

3、本實用新型進一步設(shè)置為：所述封閉塊上設(shè)有控制塊，所述控制塊呈棱臺狀，所述擠壓塊的截面呈梯形，所述控制塊與擠壓塊的斜面互相貼合，所述控制塊的厚度小于擠壓塊的厚度，所述擠壓塊抵觸密封環(huán)。

4、本實用新型進一步設(shè)置為：所述控制塊上開設(shè)有若干通孔，所述通孔內(nèi)穿設(shè)有螺栓，所述封閉塊上開設(shè)有與通孔位置對應(yīng)的螺紋孔，所述螺栓穿過通孔并與螺紋孔螺紋連接。

5、本實用新型進一步設(shè)置為：所述封閉塊上開設(shè)有若干滑動槽，所述擠壓塊上固定連接有滑動條，所述滑動條在滑動槽內(nèi)滑動。

6、本實用新型進一步設(shè)置為：所述滑動槽的截面呈t形，所述滑動條的截面與滑動槽的截面相同。

7、本實用新型進一步設(shè)置為：所述機體的內(nèi)壁上開設(shè)有若干用于容納催化板的定位槽。

8、本實用新型進一步設(shè)置為：所述定位槽的截面為梯形，所述定位槽的槽底面積小于定位槽開口的面積，所述催化板遠離封閉塊的一端設(shè)有卡接部，所述卡接部與定位槽貼合卡接。

9、本實用新型進一步設(shè)置為：所述密封環(huán)采用硅橡膠制成。

10、綜上所述，本實用新型具有以下有益效果：

11、通過在催化板上設(shè)置封閉塊，從而可以對開槽進行封閉，并且在封閉塊上套設(shè)有密封環(huán)，同時封閉塊上滑動有用于擠壓密封環(huán)的擠壓塊，從而提高了催化板安裝入機體時的密封性，通過采用硅橡膠制成密封環(huán)，使得密封環(huán)具有較好的耐臭氧性。

技術(shù)特征：

1.光催化氧化凈化設(shè)備，包括機體(1)和安裝在機體(1)兩端的催化板(2)，其特征在于：所述機體(1)的兩端均開設(shè)有開槽(3)，兩個所述開槽(3)位于機體(1)的同一側(cè)，所述催化板(2)穿過開槽(3)，所述催化板(2)的一端設(shè)有封閉塊(4)，所述封閉塊(4)上套設(shè)有用于抵觸開槽(3)槽壁的密封環(huán)(5)，所述封閉塊(4)上滑動有若干用于擠壓密封環(huán)(5)的擠壓塊(6)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光催化氧化凈化設(shè)備，其特征在于：所述封閉塊(4)上設(shè)有控制塊(7)，所述控制塊(7)呈棱臺狀，所述擠壓塊(6)的截面呈梯形，所述控制塊(7)與擠壓塊(6)的斜面互相貼合，所述控制塊(7)的厚度小于擠壓塊(6)的厚度，所述擠壓塊(6)抵觸密封環(huán)(5)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光催化氧化凈化設(shè)備，其特征在于：所述控制塊(7)上開設(shè)有若干通孔(8)，所述通孔(8)內(nèi)穿設(shè)有螺栓(9)，所述封閉塊(4)上開設(shè)有與通孔(8)位置對應(yīng)的螺紋孔(10)，所述螺栓(9)穿過通孔(8)并與螺紋孔(10)螺紋連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光催化氧化凈化設(shè)備，其特征在于：所述封閉塊(4)上開設(shè)有若干滑動槽(11)，所述擠壓塊(6)上固定連接有滑動條(12)，所述滑動條(12)在滑動槽(11)內(nèi)滑動。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光催化氧化凈化設(shè)備，其特征在于：所述滑動槽(11)的截面呈t形，所述滑動條(12)的截面與滑動槽(11)的截面相同。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光催化氧化凈化設(shè)備，其特征在于：所述機體(1)的內(nèi)壁上開設(shè)有若干用于容納催化板(2)的定位槽(13)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光催化氧化凈化設(shè)備，其特征在于：所述定位槽(13)的截面為梯形，所述定位槽(13)的槽底面積小于定位槽(13)開口的面積，所述催化板(2)遠離封閉塊(4)的一端設(shè)有卡接部(14)，所述卡接部(14)與定位槽(13)貼合卡接。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光催化氧化凈化設(shè)備，其特征在于：所述密封環(huán)(5)采用硅橡膠制成。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了光催化氧化凈化設(shè)備，涉及廢氣處理設(shè)備領(lǐng)域，旨在解決催化板安裝入機體的密封性較差，容易導致有害氣體泄漏，其技術(shù)方案要點是：包括機體和安裝在機體兩端的催化板，機體的兩端均開設(shè)有開槽，開槽位于機體的同一側(cè)，催化板穿過開槽，催化板的一端設(shè)有封閉塊，封閉塊上套設(shè)有用于抵觸開槽槽壁的密封環(huán)，封閉塊上滑動有若干用于擠壓密封環(huán)的擠壓塊。本技術(shù)通過在催化板上設(shè)置封閉塊，從而可以對開槽進行封閉，并且在封閉塊上套設(shè)有密封環(huán)，同時封閉塊上滑動有用于擠壓密封環(huán)的擠壓塊，從而提高了催化板安裝入機體時的密封性，通過采用硅橡膠制成密封環(huán)，使得密封環(huán)具有較好的耐臭氧性。

技術(shù)研發(fā)人員：徐金榮
受保護的技術(shù)使用者：紹興上虞區(qū)佑晟包裝有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240320
技術(shù)公布日：2024/12/19