本發(fā)明涉及一種層疊及方法。

背景技術(shù)：

1、一般而言，可以通過(guò)涂層來(lái)改變玻璃板、薄膜等透明基材的光學(xué)屬性。傳統(tǒng)上，例如窗玻璃上的涂層應(yīng)盡可能反射紅外光，同時(shí)應(yīng)有一定的美觀性或光學(xué)透明度。例如，涂層玻璃板的透明度與反射性之間的平衡會(huì)導(dǎo)致復(fù)雜的參數(shù)關(guān)系，特別是采用多層疊加的層疊時(shí)。除了材料光學(xué)屬性外，還須考慮光學(xué)屬性的角度依賴和色散關(guān)系。因此，目前開(kāi)發(fā)了各種各樣適合特定預(yù)期用途的層疊。

2、市場(chǎng)中日益要求降低成本，例如通過(guò)簡(jiǎn)化制作工藝、加快供貨速度、降低材料進(jìn)價(jià)，還要求保證層疊質(zhì)量、化學(xué)與機(jī)械穩(wěn)健性和光學(xué)性能，而常規(guī)的層疊系統(tǒng)往往只能滿足部分要求。特別是要求提高光學(xué)性能的情況下，必須加大成本投入才有可能實(shí)現(xiàn)質(zhì)量保證。

3、在生產(chǎn)鏈中，可以根據(jù)預(yù)期光學(xué)屬性進(jìn)行一系列模擬來(lái)計(jì)算規(guī)格范圍內(nèi)盡量接近預(yù)期光學(xué)特征(又稱層規(guī)劃)的層疊(又稱多層體系或簡(jiǎn)稱層體系)。此類(lèi)模擬通常以模型為基礎(chǔ)，將各層的屬性參數(shù)化，在此基礎(chǔ)上計(jì)算整個(gè)層疊的光學(xué)屬性。通過(guò)這種方式計(jì)算出的層疊參數(shù)(例如層的化學(xué)成分、層數(shù)、層折射率、層序、層厚、層光密度等)可能隨之改變，直到計(jì)算出的光學(xué)屬性與預(yù)期光學(xué)屬性盡量吻合。結(jié)果獲得待制各層的參數(shù)，例如其化學(xué)成分、折射率、光密度和厚度。

4、傳統(tǒng)上，這一結(jié)果可用作制作層疊的指令變量。制作所需的層疊時(shí)，涂覆系統(tǒng)通常要根據(jù)該結(jié)果來(lái)進(jìn)行配置。

5、一般而言，制作層疊會(huì)遭遇各種干擾，致使其光學(xué)屬性偏離預(yù)期的光學(xué)屬性。為了保證質(zhì)量，可以對(duì)所制的層疊進(jìn)行光學(xué)測(cè)定，以便將其光學(xué)屬性與預(yù)期光學(xué)屬性進(jìn)行比較。如果這些光學(xué)屬性相差過(guò)大，則可對(duì)生產(chǎn)施加作用來(lái)補(bǔ)償干擾變量對(duì)層疊制作的影響。為此，類(lèi)似于層規(guī)劃，可以通過(guò)均衡計(jì)算來(lái)改變待制各層的參數(shù)，直到算出的光學(xué)屬性與測(cè)得的光學(xué)屬性盡量吻合。計(jì)算結(jié)果則是關(guān)于所成層疊狀態(tài)的說(shuō)明(例如各層的參數(shù)，如層厚)并可保存(又稱層驗(yàn)證)。通過(guò)比較上述結(jié)果，可以得出如何影響層疊制作的結(jié)論。

6、在此背景下，根據(jù)各種實(shí)施方案，人們認(rèn)識(shí)到這種常規(guī)方法不足以滿足對(duì)光學(xué)屬性(例如其公差)的高要求。人們還認(rèn)識(shí)到，即使層規(guī)劃和層驗(yàn)證基本相符，也可能與預(yù)期光學(xué)特征出現(xiàn)離差，而通過(guò)這種常規(guī)的層規(guī)劃和層驗(yàn)證卻無(wú)法進(jìn)一步減少離差，因此難以滿足層疊某些光譜屬性(例如一個(gè)或多個(gè)色值)的要求。

7、就此而言，根據(jù)各種實(shí)施方案，人們認(rèn)識(shí)到，常規(guī)的層規(guī)劃和層驗(yàn)證方法尤其會(huì)受到如下限制：層規(guī)劃和層驗(yàn)證基本相符時(shí)，現(xiàn)有的自由度皆已耗盡，故不再有任何自由度可用于進(jìn)一步調(diào)整(例如優(yōu)化)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、根據(jù)本公開(kāi)各實(shí)施例，提出了解決上述問(wèn)題的方法以及由此產(chǎn)生的層疊。所述方法可用于各種應(yīng)用，例如涂覆透明襯底(如玻璃板、薄膜等)。

2、舉例而言，對(duì)一種或多種預(yù)期光學(xué)特征和/或預(yù)期光學(xué)特征在整個(gè)層疊上空間分布均勻性的要求要比層疊的其他屬性(例如層疊各層厚度的空間分布均勻性)更為重要。

3、本公開(kāi)各實(shí)施例涉及一種方法，利用該方法制作的層疊能夠滿足對(duì)一個(gè)或多個(gè)預(yù)期光學(xué)特征的更高要求。例如，所述方法能夠在襯底上形成層疊，使層疊在襯底上方的幾個(gè)區(qū)域中基本呈現(xiàn)預(yù)期光譜屬性。

4、下文涉及層疊相關(guān)的各個(gè)方面，包括：

5、-層疊模型(又稱關(guān)聯(lián)模型)，實(shí)現(xiàn)了層疊多個(gè)屬性之間的關(guān)聯(lián)，例如層疊光密度空間分布之間(例如表示為層厚和/或折射率空間分布)與一個(gè)或多個(gè)層疊光譜屬性的關(guān)聯(lián)；

6、-模型輸出(又稱預(yù)測(cè))，例如包含模型輸出的信息；

7、-關(guān)于目標(biāo)狀態(tài)(又稱參考狀態(tài))的預(yù)測(cè)；

8、-模型輸入(又稱要求)，例如包括輸入模型的信息；

9、-層疊預(yù)期屬性(又稱參考要求)；

10、-對(duì)層疊一種或多種屬性的要求(又稱參數(shù)目標(biāo)狀態(tài))，根據(jù)該要求可以影響(例如調(diào)節(jié)和/或控制)一個(gè)或多個(gè)成層工序；

11、-層疊目標(biāo)狀態(tài)，作為層疊一個(gè)或多個(gè)屬性的目標(biāo)狀態(tài)的函數(shù)或者至少與之關(guān)聯(lián)；

12、-層疊一種或多種可感測(cè)屬性(又稱屬性的實(shí)際狀態(tài))；

13、-層疊實(shí)際狀態(tài)，作為層疊一個(gè)或多個(gè)屬性的實(shí)際狀態(tài)的函數(shù)或者至少與之關(guān)聯(lián)；

14、-關(guān)于層疊結(jié)構(gòu)(又稱層結(jié)構(gòu)模型)、例如關(guān)于層疊光密度空間分布的指示(例如預(yù)測(cè))。

15、舉例而言，根據(jù)本公開(kāi)各實(shí)施例的方法(有別于常規(guī)方法)能夠在影響(例如控制和/或調(diào)節(jié))成層工序時(shí)，將關(guān)于層疊光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)與光譜屬性實(shí)際狀態(tài)進(jìn)行比較，并將其結(jié)果(又稱比較結(jié)果)予以考慮(參見(jiàn)圖11和圖12)。例如，可以基于比較結(jié)果來(lái)校正模型運(yùn)行。例如，可以基于比較結(jié)果來(lái)校正模型輸入和/或模型輸出。例如，可以基于比較結(jié)果來(lái)校正影響(例如控制和/或調(diào)節(jié))成層工序的目標(biāo)狀態(tài)。比較結(jié)果清楚表明了預(yù)測(cè)與現(xiàn)實(shí)之間的離差，從而表明模型失準(zhǔn)，這一點(diǎn)將會(huì)得到補(bǔ)償。

16、下述內(nèi)容涉及上文描述和附圖描繪的各種實(shí)例。

17、例1.一種方法，包括：基于關(guān)于層疊的(至少一個(gè))光譜屬性的實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)與(至少一個(gè))光譜屬性的(例如感測(cè))實(shí)際狀態(tài)的比較(例如比較結(jié)果)，確定表示層疊的光密度空間分布目標(biāo)狀態(tài)或?qū)盈B的(至少一個(gè))所得光譜屬性的要求的指示(例如物質(zhì)(層)結(jié)構(gòu))，該預(yù)測(cè)是基于層疊模型，該模型實(shí)現(xiàn)指示與層疊的(至少一個(gè))光譜屬性之間的關(guān)聯(lián)；以及基于所述指示來(lái)控制執(zhí)行器，以影響用于形成層疊的數(shù)個(gè)成層工序中的至少一個(gè)成層工序(又稱涂覆工序)，例如，通過(guò)該成層工序(例如在第一襯底上)形成層疊；優(yōu)選地，基于驅(qū)控執(zhí)行器的結(jié)果，通過(guò)數(shù)個(gè)成層工序(例如在第二襯底上)形成附加層疊。

18、例2.一種方法，包括：確定關(guān)于層疊實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)，包含關(guān)于層疊光密度空間分布實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)和關(guān)于層疊光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)，該關(guān)于層疊實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)是基于層疊實(shí)際狀態(tài)和層疊模型，該模型實(shí)現(xiàn)層疊的空間分布與光譜屬性之間的關(guān)聯(lián)；基于關(guān)于層疊實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)與(例如傳感器測(cè)得的)光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的比較(例如比較結(jié)果)來(lái)確定校正模型；基于校正模型和關(guān)于層疊實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)，確定表示層疊的光密度空間分布目標(biāo)狀態(tài)或所得層疊光譜屬性要求的指示；基于該指示來(lái)控制執(zhí)行器，以影響用于形成層疊的數(shù)個(gè)成層工序中的至少一個(gè)成層工序(又稱涂覆工序)。

19、例3.根據(jù)例1或例2所述配置，其中，所述光譜屬性對(duì)應(yīng)于色彩空間的至少一個(gè)坐標(biāo)和/或至少一個(gè)色值(例如代表或由之代表)。

20、例4.根據(jù)例3所述配置，其中，所述色彩空間是基于色彩模型(例如色彩外觀模型)。

21、例5.根據(jù)例4所述配置，其中，根據(jù)色彩模型(例如色彩外觀模型)的色彩空間為如下色彩空間之一：cielab色彩空間、rlab色彩空間、llab色彩空間、ciecam色彩空間(例如ciecam02色彩空間、ciecam16色彩空間等)、ipt色彩空間、cam02-ucs色彩空間、cam16-ucs色彩空間、ictcp色彩空間、jzazbz色彩空間、srlab2色彩空間、oklab色彩空間等。

22、例6.根據(jù)例1至例5之一所述配置，其中，比較結(jié)果表示關(guān)于光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)與光譜屬性實(shí)際狀態(tài)之間的離差。

23、例7.根據(jù)例1至例6之一所述配置，還包括：基于比較來(lái)確定模型輸出和/或模型輸入的校正；其中，基于校正來(lái)確定指示；且/或還包括：優(yōu)選地，基于層疊的光密度參考空間分布以及/或者光譜屬性和/或?qū)盈B光密度空間分布的參考要求，通過(guò)變差計(jì)算來(lái)確定關(guān)于層疊光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)。

24、例8.根據(jù)例1至例7之一所述配置，還包括：基于比較以及表示光譜屬性的參考要求和/或?qū)盈B的光密度空間分布的用戶輸入來(lái)確定光譜屬性要求；其中，如果所述指示表示層疊的光密度空間分布目標(biāo)狀態(tài)，則所述指示基于所述要求來(lái)確定。

25、例9.根據(jù)示例8所述配置，其中，所述指示還基于通過(guò)模型基于用戶輸入確定的層疊光密度參考空間分布。

26、例10.根據(jù)例1至例9之一所述配置，還包括：優(yōu)選地，基于(所述)層疊光密度參考空間分布和/或(所述)光譜屬性和/或?qū)盈B光密度空間分布的參考要求，通過(guò)(例如用模型實(shí)施)變差計(jì)算(例如均衡計(jì)算)來(lái)確定關(guān)于層疊光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)。

27、例11.根據(jù)例1至例10之一結(jié)合例1所述配置，其中，確定指示是基于關(guān)于層疊光密度空間分布實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)，這是通過(guò)模型優(yōu)選地基于光譜屬性實(shí)際狀態(tài)來(lái)確定。

28、例12.根據(jù)例11所述配置，其中，基于關(guān)于光密度空間分布實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)和/或光譜屬性以及任選地基于要求，通過(guò)(例如用模型實(shí)施)變差計(jì)算(例如均衡計(jì)算)來(lái)確定所述指示。

29、例13.根據(jù)例2至例12之一結(jié)合例2所述配置，基于關(guān)于光密度空間分布實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)和/或光譜屬性以及任選地基于要求，通過(guò)(例如用模型實(shí)施)變差計(jì)算(例如均衡計(jì)算)來(lái)確定校正模型。

30、例14.根據(jù)例13所述配置，其中，所述變差計(jì)算(例如均衡計(jì)算)是基于通過(guò)模型確定的層疊光密度參考空間分布以及/或者光譜屬性和/或?qū)盈B光密度空間分布的參考要求。

31、例15.根據(jù)例1至例14之一所述配置，還包括：確定層疊中幾何形狀(例如層厚)影響光譜屬性的至少一層；其中，將變差計(jì)算應(yīng)用于(例如僅應(yīng)用于)至少一層的幾何形狀和/或使層疊的其余層保持不變；且/或通過(guò)至少一個(gè)成層工序形成至少一層。

32、例16.根據(jù)例15所述配置，還包括：基于確定層疊中幾何形狀(例如層厚)影響光譜屬性的至少一層的結(jié)果來(lái)選擇至少一個(gè)成層工序(例如作為調(diào)控成層工序)。

33、例17.根據(jù)例1至例13之一結(jié)合例11所述配置，其中，基于通過(guò)模型確定的層疊光密度參考空間分布以及/或者光譜屬性和/或?qū)盈B光密度空間分布的參考要求，通過(guò)(例如用模型實(shí)施)變差計(jì)算(例如均衡計(jì)算)確定關(guān)于層疊光密度空間分布實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)。

34、例18.根據(jù)例13、14或17之一所述配置，其中，將(例如用模型實(shí)施)變差計(jì)算應(yīng)用于(例如僅應(yīng)用于)層疊中一層或多層的幾何形狀和/或使層疊的其余層保持不變。

35、例19.根據(jù)例1至例18之一所述配置，其中，層疊光密度空間分布包含如下信息：層疊中一層或多層的幾何形狀(例如指示為層厚)；和/或?qū)盈B中一層或多層的光密度(例如指示為折射率)。

36、例20.根據(jù)例1至例19之一所述配置，其中，層疊包括多層，其中每層通過(guò)數(shù)個(gè)成層工序中的一個(gè)成層工序來(lái)形成。

37、例21.根據(jù)例1至例20之一所述配置，還包括：基于(例如采用)層疊的光響應(yīng)(例如光譜)來(lái)確定光譜屬性實(shí)際狀態(tài)。

38、例22.根據(jù)例1至例21之一所述配置，其中，至少一個(gè)涂覆工序?yàn)榛瘜W(xué)氣相沉積工序或物理氣相沉積工序。

39、例23.一種計(jì)算機(jī)程序，該計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)使處理器實(shí)施根據(jù)例1至例22之一所述的方法。

40、例24.一種存儲(chǔ)有指令的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，所述指令被處理器執(zhí)行時(shí)使處理器實(shí)施根據(jù)例1至例22之一所述的方法。

41、例25.一種控制器，包括：一個(gè)或多個(gè)處理器，配置為實(shí)施根據(jù)例1至例22之一所述的方法；以及一個(gè)或多個(gè)存儲(chǔ)器，包含表示模型的數(shù)據(jù)。

42、例26.一種真空涂覆組件，包括：根據(jù)例25所述的控制器；多個(gè)涂覆裝置，用于執(zhí)行數(shù)個(gè)涂覆工序；以及執(zhí)行器(例如，耦接到或集成到多個(gè)涂覆裝置中的一個(gè)或多個(gè)涂覆裝置，例如，至少用于執(zhí)行調(diào)控成層工序的涂覆裝置)；優(yōu)選地，多個(gè)涂覆裝置中的每個(gè)涂覆裝置配置為執(zhí)行多個(gè)涂覆工序中的至少一個(gè)涂覆工序。

43、例27.根據(jù)例26的真空涂覆組件任選地還包括：真空腔室，其中布置有多個(gè)涂覆裝置。

44、例28.根據(jù)例26或例27所述的真空涂覆組件，任選地還可包括：傳感器組件(例如包括光源和光學(xué)傳感器)，用于檢測(cè)層疊的光響應(yīng)(例如光譜)；其中，光譜屬性實(shí)際狀態(tài)和/或關(guān)于光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)和/或關(guān)于光密度空間分布實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)是基于(例如采用)光響應(yīng)來(lái)確定。

45、例29.一種系統(tǒng)，包括：根據(jù)例27或例28所述的真空涂覆組件；以及傳感器組件(例如包括光源和光學(xué)傳感器)，用于檢測(cè)層疊的光響應(yīng)(例如光譜)；其中，光譜屬性實(shí)際狀態(tài)和/或關(guān)于光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)和/或關(guān)于光密度空間分布實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)是基于(例如采用)光響應(yīng)來(lái)確定。

46、例30.一種層疊(或例1至例28之一制作層疊的用途)，包括：第一區(qū)域(或第一表面)和第二區(qū)域(或第二表面)；以及沿某一方向上下排列的數(shù)層，其中一層或多層(例如每層)為介電層(例如氧化物層和/或氮化物層)和/或至少部分透明層；其中，第一區(qū)域和第二區(qū)域在層疊的光譜屬性實(shí)際狀態(tài)下基本相符；其中，第一區(qū)域和第二區(qū)域在所述數(shù)層中至少一個(gè)第一層沿所述方向的層厚實(shí)際狀態(tài)下彼此不同；優(yōu)選地，第一區(qū)域和第二區(qū)域在所述數(shù)層中一個(gè)或多個(gè)第二層沿所述方向的層厚實(shí)際狀態(tài)下基本相符；且/或優(yōu)選地，數(shù)層中一個(gè)或多個(gè)第二層沿路徑的層厚方差小于參考值。

47、例31.一種層疊(或例1至例28之一制作層疊的用途)，包括：沿路徑(例如垂直于層疊運(yùn)動(dòng)的傳送方向，例如相對(duì)于一個(gè)或多個(gè)用于形成層疊的涂覆裝置)間隔的第一區(qū)域(或第一表面)和第二區(qū)域(或第二表面)；沿路徑橫向排列的數(shù)層，其中一層或多層(例如每層)為介電層(例如氧化物層和/或氮化物層)和/或至少部分透明層；其中，沿路徑的層疊空間分布光譜屬性的方差(例如相對(duì)方差)小于參考值，例如基本不變；其中，數(shù)層中至少一個(gè)(即一個(gè)或多個(gè))第一層沿路徑的層厚方差(例如相對(duì)方差)大于參考值；優(yōu)選地，數(shù)層中至少一個(gè)第二層沿路徑的層厚方差(例如相對(duì)方差)小于參考值。

48、這里，變量(例如光譜屬性、層厚等)方差尤指期望值的歸一化值(又稱變差系數(shù)或相對(duì)方差)。變差系數(shù)是相對(duì)離散度，與變量的度量單位無(wú)關(guān)。變差系數(shù)就是變量方差與變量期望值之商。例如，變量平均值可作期望值。有關(guān)方差的描述可類(lèi)推適用于變差系數(shù)，反之亦然。

49、例32.根據(jù)例1至例31之一所述配置，其中，所述指示表示層疊光密度空間分布目標(biāo)狀態(tài)或所得層疊光譜屬性的要求的變化(例如隨時(shí)間變化)；且/或，光密度空間分布目標(biāo)狀態(tài)和/或所得層疊光譜屬性要求為時(shí)間相關(guān)。

50、例33.根據(jù)例1至例32之一所述配置，其中，所述指示表示層疊光密度空間分布目標(biāo)狀態(tài)或所得層疊光譜屬性要求的時(shí)間相關(guān)性。

51、例34.根據(jù)例1至例33之一所述配置，其中，所述指示為時(shí)間相關(guān)，優(yōu)選地在成層工序的(例如不間斷)使用時(shí)段內(nèi)。

52、例35.根據(jù)例33或例34之一所述配置，其中，所述時(shí)間相關(guān)性(例如指示、目標(biāo)狀態(tài)和/或要求的時(shí)間相關(guān)性)是基于成層工序的(例如不間斷)使用時(shí)段。

53、例36.根據(jù)例1至例35之一所述配置，其中，形成層疊期間，例如成層工序的(例如不間斷)使用時(shí)段期間，多次確定指示。

54、例37.根據(jù)例1至例36之一所述配置，其中，關(guān)于層疊光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)是基于光譜屬性實(shí)際狀態(tài)和/或通過(guò)模型來(lái)確定。

55、例38.根據(jù)例1至例37之一所述配置，其中，所述層疊具有數(shù)層或由數(shù)層構(gòu)成，其中，層疊的光譜屬性實(shí)際狀態(tài)包括(或包含)或至少基于該數(shù)層的光譜屬性實(shí)際狀態(tài)。

56、例39.根據(jù)例1至例38之一所述配置，其中，所述層疊具有數(shù)層或由數(shù)層構(gòu)成，其中，層疊的光密度空間分布目標(biāo)狀態(tài)是包括(或包含)或至少基于該數(shù)層的光密度空間分布目標(biāo)狀態(tài)。

57、例40.根據(jù)例1至例39之一所述配置，其中，層疊具有數(shù)層或由數(shù)層構(gòu)成，層疊的光譜屬性要求包括(或包含)或至少基于該數(shù)層的光譜屬性要求。

58、例41.根據(jù)例1至例40之一所述配置，其中，所述層疊具有數(shù)層或由數(shù)層構(gòu)成，關(guān)于層疊光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)包括(或包含)或至少基于關(guān)于該數(shù)層光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)。

59、例42.根據(jù)例1至例41之一所述配置，其中，層疊(例如至少數(shù)層)制成之后(又稱實(shí)際層疊)記錄光譜屬性實(shí)際狀態(tài)和/或確定其預(yù)測(cè)。

60、例43.根據(jù)例1至例42之一所述配置，其中，基于完全制成的層疊來(lái)記錄光譜屬性實(shí)際狀態(tài)和/或確定其預(yù)測(cè)。

61、例44.根據(jù)例1至例43之一所述配置，其中，襯底涂覆有層疊(未示出)，其中，當(dāng)數(shù)個(gè)成層工序處于根據(jù)指示驅(qū)控致動(dòng)器的結(jié)果狀態(tài)下，通過(guò)數(shù)個(gè)成層工序來(lái)涂覆附加襯底。

62、例45.根據(jù)例1至例44之一所述配置，其中，層疊模型實(shí)現(xiàn)指示與層疊光譜屬性之間的至少部分(即部分或完全)非線性關(guān)聯(lián)。

63、例46.根據(jù)例1至例45之一所述配置，其中，所述關(guān)聯(lián)具有非線性分量(例如映射)。

64、例47.根據(jù)例1至例46之一所述配置，其中，所述模型配置為將指示(例如光密度空間分布目標(biāo)狀態(tài))映射到層疊光譜屬性。

65、例48.根據(jù)例1至例47之一所述配置，其中，所述關(guān)聯(lián)考慮到層疊光譜屬性對(duì)指示(例如光密度空間分布目標(biāo)狀態(tài))的非線性依賴。

66、例49.根據(jù)例1至例48之一所述配置，其中，確定指示時(shí)不采用例如在層疊制作過(guò)程中測(cè)得且/或在層疊暴露于真空時(shí)測(cè)得的(例如不完整)層疊的測(cè)量值。

67、例50.根據(jù)例1至例49之一所述配置，其中，當(dāng)層疊暴露于大氣壓力時(shí)記錄光譜屬性實(shí)際狀態(tài)。

68、例51.根據(jù)例1至例50之一所述配置，其中，通過(guò)光學(xué)測(cè)量(例如完全制成)層疊來(lái)記錄層疊的光譜屬性實(shí)際狀態(tài)。

69、例52.根據(jù)例1至例51之一所述配置，其中，所述指示僅基于完整的層疊；且/或，基于關(guān)于光密度空間分布實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)和/或光譜屬性以及任選地基于要求，通過(guò)變差計(jì)算來(lái)確定信息。

70、例53.根據(jù)例1至例52之一所述配置，其中，關(guān)于光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)作為或至少基于模型的輸出，該輸出例如進(jìn)一步包括例如關(guān)于層疊光密度空間分布實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)，該預(yù)測(cè)例如通過(guò)變差計(jì)算來(lái)確定。

71、例54.根據(jù)例1至例53之一所述配置，其中，關(guān)于光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)是基于關(guān)于層疊光密度空間分布實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)和/或通過(guò)變差計(jì)算來(lái)確定。

72、例55.根據(jù)例1至例54之一所述配置，其中，基于指示與層疊光密度空間分布實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)的比較來(lái)控制執(zhí)行器，以影響用于形成層疊的數(shù)個(gè)成層工序中的至少一個(gè)成層工序，例如，所述預(yù)測(cè)對(duì)應(yīng)于關(guān)于光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)(例如作為光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的基礎(chǔ))和/或通過(guò)模型來(lái)確定，例如與關(guān)于光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)一起確定。

73、例56.根據(jù)例1至例55之一所述配置，其中，關(guān)于層疊光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)表示通過(guò)光學(xué)檢測(cè)來(lái)確定光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的層疊相同實(shí)際層數(shù)。

74、例57.根據(jù)例1至例56之一所述配置，其中，關(guān)于層疊光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)和層疊光譜屬性實(shí)際狀態(tài)涉及層疊相同狀態(tài)，例如具有數(shù)個(gè)層(例如所制層)的層疊。

75、例58.根據(jù)例1至例57之一所述配置，其中，關(guān)于光譜屬性實(shí)際狀態(tài)的預(yù)測(cè)為模型輸出或至少基于模型輸出。