本發(fā)明涉及工業(yè)廢氣處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，更加具體的，涉及脫硫塔。

背景技術(shù)：

二氧化硫氣體污染的治理一直是世界大多數(shù)國家環(huán)境保護的重點，其所產(chǎn)生污染物更是造成我國生態(tài)環(huán)境破壞的最大污染源，目前已經(jīng)成為了我國空氣污染治理的當(dāng)務(wù)之急。

目前現(xiàn)有的脫硫塔內(nèi)設(shè)置除霧器，除霧器是由外形曲折的葉片以一定的間距通過卡具、支架等組裝而成，葉片之間形成若干偏折的煙氣通道。

目前存在的問題是除霧器在長期運行過程中，在除霧器本體上的堵塞結(jié)垢情況仍舊會比較嚴(yán)重，造成脫硫系統(tǒng)阻力增大，煙囪排煙攜帶過量漿液的不良后果。

針對上述缺陷，本申請人在本申請申請日前提交的名稱為“脫硫塔”的專利中公開了一種脫硫塔結(jié)構(gòu)，參見圖1，包括脫硫塔本體1，在所述脫硫塔本體1內(nèi)設(shè)置有除霧器2，所述除霧器2包括間隔設(shè)置的葉片3和限位所述葉片的支承框架4，在所述支承框架4上設(shè)置有使得所述葉片可沿著所述支承框架縱向滑移的滑槽，在滑槽上方設(shè)置有擋片，所述擋片上設(shè)置有復(fù)位機構(gòu)以使得其具有脫離滑槽的趨勢，在所述擋片一側(cè)設(shè)置有頂桿，在所述頂桿的側(cè)面設(shè)置有配合所述擋片的擋片槽，在所述支承框架上方設(shè)置有電磁鐵7，在所述除霧器上方的兩側(cè)設(shè)置有用于沖洗所述葉片的噴淋頭8，所述葉片3具有被所述電磁鐵吸引的上端部。

通過將葉片上升至除霧器支撐框架的上方，從而使得上升的葉片不被其它葉片遮擋，然而啟動位于上升葉片兩側(cè)的噴淋頭，從而無死角的清理所述葉片。

然而上述技術(shù)方案在實際試驗過程中，發(fā)現(xiàn)，由于位于被升上去的葉片兩側(cè)的噴淋頭5為了將葉片兩側(cè)的污垢清除需要設(shè)置較大的噴射壓力，在噴出的清潔水與葉片表面接觸時，容易導(dǎo)致葉片受力過大而造成變形甚至發(fā)生折彎，此外在葉片兩側(cè)受力不平衡時，也時有該上端從電磁鐵處脫落的問題發(fā)生。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，本發(fā)明提供了改進型脫硫塔。

本發(fā)明是通過如下技術(shù)方案實現(xiàn)的：改進型脫硫塔，包括脫硫塔本體，在所述脫硫塔本體內(nèi)設(shè)置有除霧器，所述除霧器包括間隔設(shè)置的葉片和限位所述葉片的支承框架，在所述支承框架上設(shè)置有使得所述葉片可沿著所述支承框架縱向滑移的滑槽，在滑槽上方設(shè)置有擋片，所述擋片上設(shè)置有復(fù)位機構(gòu)以使得其具有脫離滑槽的趨勢，在所述擋片一側(cè)設(shè)置有頂桿，在所述頂桿的側(cè)面設(shè)置有配合所述擋片的擋片槽，在所述支承框架上方設(shè)置有電磁鐵，在所述除霧器上方的兩側(cè)設(shè)置有用于沖洗所述葉片的噴淋頭，所述葉片具有被所述電磁鐵吸引的上端部，還具有檢測被上升葉片位置的檢測機構(gòu)，所述檢測機構(gòu)發(fā)射被上升葉片的位置信號，還包括控制位于除霧器上方兩側(cè)噴淋頭噴射強度的控制單元，所述發(fā)射器連接所述控制單元，控制單元接受發(fā)射器發(fā)送的位置信息，進而根據(jù)上述位置信息，控制位于除霧器上方兩側(cè)噴淋頭噴射強度，從而使得葉片兩側(cè)的受到的噴射水的強度基本相同。

上述技術(shù)方案中，所述頂桿的一端設(shè)置同步帶輪，所述同步帶輪通過一雙層帶輪驅(qū)動。

上述技術(shù)方案中，所述葉片包括在其側(cè)壁上設(shè)置的滑軌，所述滑軌與滑槽配合。

上述技術(shù)方案中，所述電磁鐵為條狀，且具有兩條，兩條所述電磁鐵間隔設(shè)置。

本發(fā)明具有如下有益效果：本發(fā)明保證了葉片兩側(cè)受力平衡，進而避免了其被水流沖擊而導(dǎo)致變形甚至彎折的風(fēng)險。

附圖說明

圖1為背景技術(shù)中的脫硫塔結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為本發(fā)明的俯視示意圖。

圖4為頂桿驅(qū)動示意圖。

圖5為擋片從遮擋滑槽至擋片遠(yuǎn)離滑槽。

圖6為葉片的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖7為擋片槽在頂桿上分布的一具體示例。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖與具體實施方式對本發(fā)明作進一步詳細(xì)描述：參見圖2至圖7，改進型脫硫塔，包括脫硫塔本體1，在所述脫硫塔本體1內(nèi)設(shè)置有除霧器2，所述除霧器2包括間隔設(shè)置的葉片3和限位所述葉片3的支承框架4，其中葉片3的間距保持在任意一葉片3在豎直方向滑移時，不與其相鄰葉片之間干涉。

在所述支承框架4上設(shè)置有使得所述葉片3可沿著所述支承框架縱向滑移的滑槽40，所述葉片3包括在其側(cè)壁上設(shè)置的滑軌30，所述滑軌30與滑槽40配合，所述滑軌30在所述側(cè)壁的豎直方向延伸且覆蓋整個葉片3的縱向。

在滑槽40上方設(shè)置有擋片5，所述擋片5上設(shè)置有復(fù)位機構(gòu)以使得其具有脫離滑槽40的趨勢，在所述擋片5一側(cè)設(shè)置有頂桿6，在所述頂桿6的側(cè)面設(shè)置有配合所述擋片5的擋片槽60，具體的，所述擋片槽60沿著所述頂桿的縱向間隔分布，其縱向的位置滿足對準(zhǔn)擋片5，并且各個擋片槽60在圓周方向具有相同的間隔角度，此外頂桿6上具有一縱向區(qū)域不具有擋片槽60分布，在除霧器正常工作時，頂桿保持該區(qū)域與擋片5正對，此時所有擋片5均不位于擋片槽60內(nèi)，因此所有擋片5均保持在遮蓋滑槽位置。然后當(dāng)每次轉(zhuǎn)動特定角度后，便保持均只有一個擋片5滑入擋片槽60內(nèi)。具體的參見圖6，例如：當(dāng)如本申請中示出的當(dāng)葉片的數(shù)量設(shè)置有9片（附圖葉片數(shù)量僅為示意，實際使用時基本大于該值）時，將頂桿6分出270度的空間B用于設(shè)置9個滑槽，每個滑槽彼此間隔的角度為30°，頂桿上預(yù)留90度的縱向區(qū)域A不設(shè)置滑槽。所述頂桿6的一端設(shè)置同步帶輪61，所述同步帶輪61通過一雙層帶輪9驅(qū)動（保證兩同步帶輪61行程一致性）。

在所述支承框架4上方設(shè)置有電磁鐵7，所述電磁鐵7為條狀，且具有兩條，兩條所述電磁鐵7間隔設(shè)置。在所述除霧器2上方的兩側(cè)設(shè)置有用于沖洗所述葉片的噴淋頭8，所述葉片具有被所述電磁鐵7吸引的上端部。

本發(fā)明首先在正常使用時，電磁鐵不通電，并且擋片5均被頂桿頂靠，使得葉片無法活動。當(dāng)需要進行葉片清洗時，首先打開電磁鐵的開關(guān)，使得電磁鐵通電得磁，然后控制驅(qū)動所述同步帶輪61，每當(dāng)同步帶輪控制頂桿轉(zhuǎn)動特定角度時，葉片的擋片變脫離滑槽，此時該葉片被電磁鐵吸引沿著滑上升至除霧器支撐框架的上方，從而使得上升的葉片不被其它葉片遮擋，然而啟動位于上升葉片兩側(cè)的噴淋頭，從而無死角的清理所述葉片。

還具有檢測被上升葉片位置的檢測機構(gòu)100，所述檢測機構(gòu)100發(fā)射被上升葉片的位置信號，檢測機構(gòu)具體的，可以設(shè)置為壓敏式的傳感器，其位于葉片的下端部，當(dāng)葉片上升時，其下端部架空，傳感器藉由此得到被上升葉片的位置，檢測機構(gòu)也可以為其它形式，上述檢測機構(gòu)屬于本領(lǐng)域常規(guī)選擇，在實施例中不加以贅述。還包括控制位于除霧器上方兩側(cè)噴淋頭8噴射強度的控制單元200，所述發(fā)射器連接所述控制單元，控制單元接受發(fā)射器發(fā)送的位置信息，進而根據(jù)上述位置信息，控制位于除霧器上方兩側(cè)噴淋頭噴射強度，從而使得葉片兩側(cè)的受到的噴射水的強度基本相同。