本實(shí)用新型涉及工程機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種酸洗除雜裝置用攪拌裝置。

背景技術(shù)：

制備單晶硅所用到的原料為硅料。由于硅料中含有金屬和金屬氧化物等雜質(zhì)，在制備單晶硅的過程中，會(huì)影響單晶硅的純度。因此需要對(duì)硅料進(jìn)行酸洗，去除硅料中的雜質(zhì)。傳統(tǒng)的硅料酸洗除雜是將硅料放入含酸液的酸洗池中靜止浸泡，這種方法是最簡(jiǎn)易且節(jié)約成本的方式。但靜止過程中硅料的表面和酸反應(yīng)、酸的處理能力需要長(zhǎng)時(shí)間慢慢釋放。為了減少酸洗時(shí)間，一般會(huì)人工翻料或在酸洗池中增加攪拌裝置攪拌酸液，以縮短浸泡時(shí)間并能起到均勻處理的作用。由于酸液有較強(qiáng)的腐蝕性，人工翻料存在較大的安全隱患。如果是通過攪拌裝置攪拌硅料，由于硅料一般為塊狀或片狀，且硅料的質(zhì)地堅(jiān)硬，因此對(duì)攪拌裝置的葉片要求很高。為了攪拌充分，現(xiàn)有技術(shù)的攪拌裝置的葉片多為片狀，但是片狀的葉片損耗的功率較大并且攪拌過程中帶動(dòng)的硅料有限必須經(jīng)過長(zhǎng)時(shí)間攪拌。同時(shí)由于攪拌阻力較大，攪拌葉片和轉(zhuǎn)軸等容易斷裂。因此也有專利采用離心式的攪拌技術(shù)對(duì)硅料進(jìn)行攪拌。這種方式模擬洗衣機(jī)的洗衣過程，通過反復(fù)的停止和啟動(dòng)來實(shí)現(xiàn)攪拌，但是硅料與硅料之間在受離心力過程中會(huì)相對(duì)靜止，并不能起到很好的攪拌效果，而硅料停止后又會(huì)對(duì)料斗內(nèi)壁產(chǎn)生較大沖擊，容易損壞料斗。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

因此，有必要提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、攪拌充分的酸洗除雜裝置用攪拌裝置。

一種酸洗除雜裝置用攪拌裝置，包括攪拌葉片、攪拌轉(zhuǎn)軸、驅(qū)動(dòng)裝置，攪拌葉片的一端與攪拌轉(zhuǎn)軸固定連接，且攪拌葉片與攪拌轉(zhuǎn)軸垂直，攪拌轉(zhuǎn)軸在水平方向上與驅(qū)動(dòng)裝置的轉(zhuǎn)軸固定連接；所述攪拌葉片的延長(zhǎng)線垂直指向攪拌轉(zhuǎn)軸的軸線，攪拌葉片為桿狀，攪拌葉片的頂端為楔形，且將攪拌葉片分排沿著攪拌轉(zhuǎn)軸的延伸方向排列設(shè)置，每排中的攪拌葉片數(shù)量相同，排與排之間的間距相同，相鄰兩排錯(cuò)開排布，每排至少設(shè)置一個(gè)攪拌葉片，同一排的攪拌葉片的間距相同。

優(yōu)選的，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括電機(jī)、電機(jī)罩、電機(jī)支架，電機(jī)的轉(zhuǎn)軸與攪拌轉(zhuǎn)軸固定連接，電機(jī)的下端與電機(jī)支架的上端固定連接，電機(jī)罩設(shè)置在電機(jī)支架上并將電機(jī)罩住，電機(jī)支架的下端固定在地面上。

優(yōu)選的，同一排中的攪拌葉片的長(zhǎng)度相同，相鄰排中的攪拌葉片的長(zhǎng)度不同，以對(duì)硅料進(jìn)行分層攪拌。

優(yōu)選的，所述攪拌葉片的頂端頂端為楔形面且水平方向設(shè)置兩個(gè)攪拌頭，攪拌頭相正對(duì)的垂直設(shè)置在攪拌葉片的兩側(cè)。

優(yōu)選的，相鄰排的攪拌葉片的頂端的楔形面角度相差15度，以使不同排的攪拌葉片間的楔形面互成角度，能夠?qū)⒐枇蠑嚢璧母浞帧?/p>

優(yōu)選的，所述攪拌葉片與攪拌轉(zhuǎn)軸的上半圓柱體面固定連接，以使外界的料斗行進(jìn)至酸洗除雜裝置用攪拌裝置的下方時(shí)不受攪拌葉片的阻擋。

優(yōu)選的，設(shè)置五排攪拌葉片，其中第三排的攪拌葉片的長(zhǎng)度是900mm，第二排中的攪拌葉片及第四排攪拌葉片的長(zhǎng)度均為750mm，第一排攪拌葉片及第五排攪拌葉片的長(zhǎng)度均為600mm。

有益效果：上述酸洗除雜裝置用攪拌裝置采用桿狀的攪拌葉片，且攪拌葉片的頂端為楔形，能夠較為容易的插入硅料中，因此攪拌更加均勻充分。同時(shí)攪拌葉片插入硅料中的阻力較小，所以耗費(fèi)的功率較小。

附圖說明

圖1為酸洗除雜裝置用攪拌裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為酸洗除雜裝置用攪拌裝置的攪拌葉片的局部放大圖。

圖3為酸洗除雜裝置用攪拌裝置與外界料斗配合的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：酸洗除雜裝置用攪拌裝置1、攪拌葉片10、楔形面101、攪拌頭102、攪拌轉(zhuǎn)軸20、驅(qū)動(dòng)裝置30、電機(jī)301、電機(jī)罩302、電機(jī)支架303、料斗2。

具體實(shí)施方式

請(qǐng)參看圖1，酸洗除雜裝置用攪拌裝置1包括攪拌葉片10、攪拌轉(zhuǎn)軸20、驅(qū)動(dòng)裝置30，攪拌葉片10的一端與攪拌轉(zhuǎn)軸20固定連接，且攪拌葉片10與攪拌轉(zhuǎn)軸20垂直，攪拌轉(zhuǎn)軸20在水平方向上與驅(qū)動(dòng)裝置30的轉(zhuǎn)軸固定連接；所述攪拌葉片10的延長(zhǎng)線垂直指向攪拌轉(zhuǎn)軸20的軸線，攪拌葉片10為桿狀，攪拌葉片10的頂端為楔形面，攪拌葉片10的數(shù)量及長(zhǎng)度根據(jù)實(shí)際情況來設(shè)置，且將攪拌葉片10分排沿著攪拌轉(zhuǎn)軸20的延伸方向排列設(shè)置，每排中的攪拌葉片10數(shù)量相同，排與排之間的間距相同，相鄰兩排錯(cuò)開排布，每排至少設(shè)置一個(gè)攪拌葉片10，同一排的攪拌葉片10的間距相同，同一排中的攪拌葉片10的長(zhǎng)度相同，相鄰排中的攪拌葉片10的長(zhǎng)度不同，排數(shù)為奇數(shù)，能夠成對(duì)且相互對(duì)稱的排中的攪拌葉片202的長(zhǎng)度相同。例如，設(shè)置五排攪拌葉片10，其中第三排的攪拌葉片的長(zhǎng)度是900mm，對(duì)稱的第二排中的攪拌葉片及第四排攪拌葉片的長(zhǎng)度均為750mm，對(duì)稱的第一排攪拌葉片及第五排攪拌葉片的長(zhǎng)度均為600mm。

為了方便攪拌，同一排的攪拌葉片10需要較大間隙，攪拌葉片10之間的硅料會(huì)有漏攪的隱患，而相鄰兩排的攪拌葉片10錯(cuò)開排布能夠?qū)⑶耙慌怕嚨墓枇线M(jìn)行攪拌，保證了攪拌的充分性。由于第一排的攪拌葉片至第三排的攪拌葉片逐漸加長(zhǎng)，所以在對(duì)硅料的攪拌過程中能夠逐漸深入，進(jìn)一步減小了攪拌過程中的阻力。另外，由于硅料一般為塊狀或者片狀，桿狀的攪拌葉片10能夠?qū)⒉迦牍枇祥g的縫隙中，使硅料能夠被攪拌起來。攪拌葉片10的頂端為楔形，因此更容易插入硅料且攪拌葉片10的頂端不容易被硅料磨損變形；相鄰排的攪拌葉片10的頂端的楔形面間相差15度，以使不同排的攪拌葉片10間的楔形面互成角度，能夠?qū)⒐枇蠑嚢璧母浞帧?/p>

所述驅(qū)動(dòng)裝置30包括電機(jī)301、電機(jī)罩302、電機(jī)支架303，電機(jī)301的轉(zhuǎn)軸與攪拌轉(zhuǎn)軸20固定連接，電機(jī)301的下端與電機(jī)支架303的上端固定連接，電機(jī)罩302設(shè)置在電機(jī)支架303上并將電機(jī)301罩住，電機(jī)支架303的下端固定在底面上。在本實(shí)施方式中，電機(jī)301為雙向減速電機(jī)，在低俗攪拌過程中能夠?qū)崟r(shí)調(diào)節(jié)電機(jī)301的轉(zhuǎn)向及轉(zhuǎn)速，以使攪拌更加充分。

請(qǐng)參看圖2，所述攪拌葉片10的頂端的水平方向設(shè)置兩個(gè)攪拌頭102，攪拌頭102相正對(duì)的垂直設(shè)置在攪拌葉片10的兩側(cè)。攪拌葉片10的頂端的兩側(cè)設(shè)置攪拌頭102能夠更有效的攪動(dòng)硅料。所述攪拌葉片10與攪拌轉(zhuǎn)軸20的上半圓柱體面固定連接，以使外界的料斗行進(jìn)至酸洗除雜裝置用攪拌裝置1的下方時(shí)不受攪拌葉片10的阻擋。

請(qǐng)參看圖3，使用時(shí)，外界的料斗2沿軌道行進(jìn)至酸洗除雜裝置用攪拌裝置1的下方，酸洗除雜裝置用攪拌裝置1的攪拌葉片10與料斗2相匹配，酸洗除雜裝置用攪拌裝置1在對(duì)硅料充分?jǐn)嚢韬螅捎谥挥兴嵯闯s裝置用攪拌裝置1的上半圓柱體面設(shè)置有攪拌葉片，料斗2能夠較為容易的退出酸洗除雜裝置用攪拌裝置1。