1.一種級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于包括至少1層構(gòu)件，所述的構(gòu)件包括若干經(jīng)向柵條和若干緯向柵條，各個(gè)所述的經(jīng)向柵條的間距大于等于5mm且小于等于500mm，各個(gè)所述的緯向柵條的間距大于等于5mm且小于等于500mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于包括：
第一構(gòu)件，其包括若干第一經(jīng)向柵條和若干第一緯向柵條，各個(gè)所述的第一經(jīng)向柵條的間距大于等于5mm且小于80mm，各個(gè)所述的第一緯向柵條的間距大于等于5mm且小于80mm；
第二構(gòu)件，其置于所述的第一構(gòu)件上方，還包括若干第二經(jīng)向柵條和若干第二緯向柵條，各個(gè)所述的第二經(jīng)向柵條的間距為大于等于80mm且小于等于500mm，各個(gè)所述的第二緯向柵條的間距大于等于80mm且小于等于500mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于所述第一構(gòu)件的高度為20mm～200mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于所述第二構(gòu)件的高度為30mm～700mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于所述第二構(gòu)件與所述第一構(gòu)件的孔徑比為2.5∶1～25∶1。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于包括：
第一構(gòu)件，其包括若干第一經(jīng)向柵條和若干第一緯向柵條，各個(gè)所述的第一經(jīng)向柵條的間距大于等于5mm且小于20mm，各個(gè)所述的第一緯向柵條的間距大于等于5mm且小于20mm；
第二構(gòu)件，其置于所述的第一構(gòu)件上方，還包括若干第二經(jīng)向柵條和若干第二緯向柵條，各個(gè)所述的第二經(jīng)向柵條的間距為大于等于20mm且小于80mm，各個(gè)所述的第二緯向柵條的間距大于等于20mm且小于80mm；
第三構(gòu)件，其置于所述的第二構(gòu)件上方，還包括若干第三經(jīng)向柵條和若干第三緯向柵條，各個(gè)所述的第三經(jīng)向柵條的間距為大于等于80mm且小于等于500mm，各個(gè)所述的第三緯向柵條的間距大于等于80mm且小于等于500mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于所述第一構(gòu)件的高度為20mm～100mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于所述第二構(gòu)件的高度為30mm～200mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于所述第三構(gòu)件的高度為40mm～700mm。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于所述第二構(gòu)件與所述第一構(gòu)件的孔徑比為2.5∶1～25∶1，所述第三構(gòu)件與所述第二構(gòu)件的孔徑比為2.5∶1～25∶ 1。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于還包括第四構(gòu)件，其置于所述第一構(gòu)件的下方。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于所述的第四構(gòu)件呈斗狀。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于所述構(gòu)件的高度為20mm～1000mm。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于各個(gè)所述的構(gòu)件相疊，至少構(gòu)成2層以上，各個(gè)構(gòu)件上設(shè)置通孔，且通孔的孔徑比為2.5∶1～25∶1。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于各個(gè)所述的構(gòu)件相疊，至少構(gòu)成2層以上，各個(gè)所述構(gòu)件的層間距小于等于1000mm。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置，其特征在于所述的構(gòu)件還包括通孔，所述的通孔由第一邊沿、第二邊沿、第三邊沿和第四邊沿圍成，所述的第一邊沿和所述的第二邊沿的交角為30°～90°，所述的第二邊沿和所述的第三邊沿的交角為90°～150°，所述的第三邊沿和所述的第四邊沿的交角為30°～90°，所述的第四邊沿和所述的第一邊沿的交角為90°～150°。
17.一種用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于包括權(quán)利要求1～16之一所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于還包括
反應(yīng)區(qū)，包括第一容腔、投料口和蓋體，蓋體蓋于投料口；
氣液分布區(qū)，設(shè)于所述的反應(yīng)區(qū)之下，包括第二容腔、集氣室、1個(gè)以上氣體分布管和通氣口；所述的第二容腔與所述的第一容腔連通，所述的集氣室設(shè)于所述的第二容腔內(nèi)，各個(gè)所述的氣體分布管的一端布置于所述的集氣室的外周，所述的通氣口置于所述的集氣室之下；
所述的級(jí)聯(lián)氧化反應(yīng)裝置置于所述的第一容腔內(nèi)。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于所述氣體分布管的數(shù)量為1件～32件。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于還包括密封機(jī)構(gòu)，分別設(shè)于所述的蓋體和所述的投料口處。
21.根據(jù)權(quán)利要求18所述的用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于
所述的投料口，其開口處的器壁上開設(shè)密封槽體，所述的密封槽體包括第一槽體側(cè)壁和第二槽體側(cè)壁，所述的第一槽體側(cè)壁與開口的距離大于所述的第二槽體側(cè)壁與開口的距離；
所述的蓋體，其徑向外緣至少延及或覆蓋所述的第二槽體側(cè)壁；
液體，其盛于所述的密封槽體內(nèi)。
22.根據(jù)權(quán)利要求18所述的用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于
所述的投料口，其開口處的器壁上開設(shè)密封槽體，所述的密封槽體包括第一槽體側(cè)壁和第二槽體側(cè)壁，所述的第一槽體側(cè)壁與開口的距離大于所述的第二槽體側(cè)壁與開口的距離；
所述的蓋體，其上設(shè)置密封件，所述的密封件置于密閉槽體內(nèi)，并與所述的第一槽體側(cè)壁和所述的第二槽體側(cè)壁分別形成第一腔室和第二腔室，所述的第一腔室和所述的第二腔室相通；
液體，其盛于所述的密封槽體內(nèi)。
23.根據(jù)權(quán)利要求18所述的用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于還包括液體內(nèi)循環(huán)管，其兩端開口，設(shè)于氧化反應(yīng)裝置的器壁內(nèi)側(cè)，一端置于所述的反應(yīng)區(qū)，另一端置于所述的氣液分布區(qū)。