相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用

本申請(qǐng)要求具有2014年9月5日的提交日的題為“highporosityceriumandzirconiumcontainingoxide”的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)序列號(hào)62/046,491的權(quán)益，在此將其完整地引入本文作為參考。

背景技術(shù)：

根據(jù)定義，催化劑選擇性地改變化學(xué)反應(yīng)接近平衡的速率，但不改變?cè)撈胶?。催化劑常?guī)地用于提高利用原料制造新產(chǎn)物的效率以及提高材料破壞的速率，如同污染控制的情況一樣?；旧?，催化劑的特征在于其活性、選擇性和耐久性。為了使催化劑保持其高活性和選擇性，活性位點(diǎn)高度分散并且抵抗活性位點(diǎn)燒結(jié)(sintering)是合乎需要的。為了實(shí)現(xiàn)這一目的，活性材料通常分散和/或錨定在基材無(wú)機(jī)表面上，其即使在嚴(yán)苛的使用和老化條件下也保持其完整性。此外，這些活性位點(diǎn)載體表面也參與或增強(qiáng)所需反應(yīng)的某些方面。因此，這些載體表面被認(rèn)為是功能活化的載體表面，因?yàn)樗鼈兛蔀榇龠M(jìn)劑。然而，主要活性物質(zhì)直接參與反應(yīng)，這些促進(jìn)劑改變和改善活性物質(zhì)的性能。這些載體和/或促進(jìn)劑的特性在催化劑的效力方面起主要作用。如前所述，它們不僅為活性組分位點(diǎn)的分散提供穩(wěn)定的表面，而且它們的穩(wěn)定性有助于維持分散并且增強(qiáng)或改變這些活性位點(diǎn)的活性。此外，這些載體的孔隙度在反應(yīng)物向活性位點(diǎn)的傳質(zhì)和離開(kāi)活性位點(diǎn)的傳質(zhì)的增強(qiáng)或阻礙方面起主要作用。因此，它們影響所述催化劑的活性和選擇性。本發(fā)明的目的是描述具有增強(qiáng)的表面積、耐久性和孔隙度特性的這樣的功能載體。

氧化鈰長(zhǎng)久以來(lái)被認(rèn)作是汽車尾氣催化和用于水煤氣變換反應(yīng)的有效催化劑：

co+h2o→co2+h2o(1)

此外，其為氣體傳感器、用于固體氧化物燃料電池的電極、氧泵和電流計(jì)氧氣監(jiān)測(cè)器中的有效材料成分。在所有這些應(yīng)用中，鈰的氧化還原特性發(fā)揮主要作用：

盡管在ceo2顆粒的表面上的氧或氧空位的運(yùn)動(dòng)相對(duì)容易，但對(duì)于本體氧(bulkoxygen)不是這樣。因此，這些反應(yīng)中的本體氧參與相當(dāng)有限。將鋯引入至氧化鈰(iv)晶格或?qū)⑩嬕胫裂趸喚Ц裰性鰪?qiáng)且促進(jìn)氧活動(dòng)性。該事實(shí)已經(jīng)被汽車污染控制催化劑行業(yè)欣然采用，其中包含鈰和鋯氧化物(ceo2-zro2)的材料在用作活化涂層(washcoat)組分中是普遍存在的。已經(jīng)開(kāi)發(fā)出包含鈰和鋯氧化物的材料，其中在容許傳質(zhì)的時(shí)間相對(duì)長(zhǎng)的穩(wěn)態(tài)條件下存在對(duì)于體系的表面和本體氧的非常高的可達(dá)性(低的傳質(zhì)阻力)。然而，在物流的分子組成迅速變化且反應(yīng)速度要求相當(dāng)高的情況下，這些體系是不足的。即，盡管總的氧容量和可用性高，但是該氧傳遞至活性中心和從活性中心傳遞的速率相當(dāng)?shù)?受限的傳質(zhì))。

基于鈰和鋯氧化物(ceo2-zro2)的材料還用于催化應(yīng)用中作為分散活性金屬催化劑的載體以提高催化劑的活性，導(dǎo)致高的轉(zhuǎn)換數(shù)。為此，載體在即使在嚴(yán)苛的操作條件下(例如高溫和水熱環(huán)境)維持活性金屬催化劑的高分散狀態(tài)方面起到主要作用。在嚴(yán)苛的條件下不能保持其結(jié)構(gòu)完整性的載體可導(dǎo)致活性催化劑金屬位點(diǎn)的閉塞或燒結(jié)，其導(dǎo)致在每分子基礎(chǔ)上的催化劑的活性降低。由于這些催化劑的許多利用昂貴的貴金屬例如鉑、鈀和/或銠，所以催化劑金屬活性的喪失直接影響這樣的催化劑的成本，需要使用增加的貴金屬負(fù)載以保持所需的催化劑活性。與此平行地，使用結(jié)構(gòu)上穩(wěn)定的載體容許減少的貴金屬的使用，同時(shí)保持或改善催化劑活性。

除了上述維持載體的穩(wěn)定表面的要求之外，還要求其對(duì)于活性金屬的分散也具有盡可能高的表面積。換而言之，不僅需要維持載體的結(jié)構(gòu)完整性，而且需要維持高的表面積。通過(guò)提供這樣的高且穩(wěn)定的表面積，維持金屬的活性以及活性載體的功能性。

無(wú)論催化劑位點(diǎn)活性如何，容易的反應(yīng)物至活性位點(diǎn)的傳輸和反應(yīng)產(chǎn)物離開(kāi)活性位點(diǎn)的傳輸使得可用于進(jìn)一步的反應(yīng)是非常重要的。在不考慮催化劑選擇性的情況下，載體的寬且開(kāi)放的孔結(jié)構(gòu)是合乎需要的。在需要反應(yīng)分子或產(chǎn)物的選擇性的情況下，需要設(shè)計(jì)的孔隙度，其容許僅所需的反應(yīng)物到達(dá)活性位點(diǎn)且容許僅所需產(chǎn)物離開(kāi)活性位點(diǎn)。例如，這種類型的功能是眾所周知的且以沸石材料利用。因此，取決于所需反應(yīng)的類型，具有特定孔結(jié)構(gòu)的材料是有益的。

已經(jīng)報(bào)道了用于制造基于鈰和鋯氧化物(ceo2-zro2)的材料的多種合成方法。舉例而言，所述方法中有共沉淀、水熱、微乳液、溶膠-凝膠、溶液燃燒、電化學(xué)、固態(tài)反應(yīng)、機(jī)械-化學(xué)、化學(xué)氣相沉積和濺射方法。它們都被報(bào)道為取決于它們的使用用途提供特定的益處。例如，共沉淀方法典型地制造具有高達(dá)120m²/g的表面積和約0.73cm³/g的孔體積的納米結(jié)晶(100nm或更小)的基于鈰和鋯氧化物的材料。已經(jīng)制造了一些具有除了氧化鈰之外的額外的稀土氧化物的基于鈰和鋯的材料，但是它們具有有限的表面積穩(wěn)定性。

因此，本工作的目的在于描述滿足以上所需的特性的基于鈰和鋯氧化物(ceo2-zro2)的材料。即如下的催化劑/催化劑載體：具有高的表面積、在空氣和水熱和氧化還原條件下的穩(wěn)定表面、具有在嚴(yán)苛的老化條件下的穩(wěn)定的晶體學(xué)(結(jié)晶學(xué))特性、高且穩(wěn)定的孔隙度以及高的孔體積、具有選擇性的孔隙度、具有在較低溫度下的高的氧化還原活性、且具有低的傳質(zhì)阻力以及高的動(dòng)態(tài)氧儲(chǔ)存和釋放特性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本公開(kāi)內(nèi)容總體涉及包括鈰和鋯作為主要成分的催化劑/催化劑載體，其具有高的表面積，其當(dāng)經(jīng)受嚴(yán)苛的老化條件例如在高溫空氣、水熱和氧化還原條件下時(shí)具有穩(wěn)定的表面。它們還具有在嚴(yán)苛的老化條件下的穩(wěn)定的晶體學(xué)特性、高且穩(wěn)定的孔隙度以及高的孔體積、具有選擇性的孔隙度、具有在較低溫度下的高的氧化還原活性、且具有低的傳質(zhì)阻力以及高的動(dòng)態(tài)氧儲(chǔ)存和釋放特性。

現(xiàn)已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，當(dāng)特定的合成條件包括在包含包括鈰和鋯作為主要組分的氫氧化物的水的脫水期間仔細(xì)地選擇性的溫度和壓力條件時(shí)，氧化物結(jié)果具有催化劑/催化劑載體所需的特性。即，它們具有高的表面積，其在經(jīng)受嚴(yán)苛的老化條件例如在高溫空氣、水熱和氧化還原條件下時(shí)具有穩(wěn)定的表面。它們還具有在嚴(yán)苛的老化條件下的穩(wěn)定的晶體學(xué)特性、高且穩(wěn)定的孔隙度以及高的孔體積、具有選擇性孔隙度、具有在較低溫度下的高的氧化還原活性且具有低的傳質(zhì)阻力以及高的動(dòng)態(tài)氧儲(chǔ)存和釋放特性。

根據(jù)一些實(shí)施方案，組合物可包括氧化鋯和氧化鈰。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可包含除氧化鈰之外的一種或多種其它稀土氧化物。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可包含除氧化鈰和氧化釔之外的一種或多種其它氧化物。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的總孔體積：約0.65cc/g或更大、約0.71cc/g或更大、約0.85cc/g或更大、約0.99cc/g或更大、約1.00cc/g或更大、約1.07cc/g或更大、約1.11cc/g或更大、約1.17cc/g或更大、約1.30cc/g或更大、約1.33cc/g或更大、約1.40cc/g或更大、約1.43cc/g或更大、約1.46cc/g或更大、約1.58cc/g或更大、約1.67cc/g或更大、約1.96cc/g或更大、約2.00cc/g或更大、約2.20cc/g或更大、約2.33cc/g或更大、約2.60cc/g或更大、約3.00cc/g或更大、和約3.23cc/g或更大。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的總孔體積：約0.65cc/g或更大、約0.71cc/g或更大、約0.85cc/g或更大、約0.99cc/g或更大、約1.00cc/g或更大、約1.07cc/g或更大、約1.11cc/g或更大、約1.17cc/g或更大、約1.30cc/g或更大、約1.33cc/g或更大、約1.40cc/g或更大、約1.43cc/g或更大、約1.46cc/g或更大、約1.58cc/g或更大、約1.67cc/g或更大、約1.96cc/g或更大、約2.00cc/g或更大、約2.20cc/g或更大、約2.33cc/g或更大、約2.60cc/g或更大、約3.00cc/g或更大、約3.23cc/g或更大、及其組合。典型地，所述組合物可具有約0.7至約3.5cc/g、更典型地約0.65至約3.20cc/g的總孔體積。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收(hydrogenthermalprogramreductionuptake)：約250μmole/g或更大、約287μmole/g或更大、約600μmole/g或更大、約654μmole/g或更大、約900μmole/g或更大、約954μmole/g或更大、約966μmole/g或更大、約967μmole/g或更大、約1000μmole/g或更大、約1006μmole/g或更大、約1022μmole/g或更大、或約1163μmole/g或更大。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約250μmole/g或更大、約287μmole/g或更大、約600μmole/g或更大、約654μmole/g或更大、約900μmole/g或更大、約954μmole/g或更大、約966μmole/g或更大、約967μmole/g或更大、約1000μmole/g或更大、約1006μmole/g或更大、約1022μmole/g或更大、約1163μmole/g或更大、及其組合。典型地，所述組合物可具有如下的在約1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的氫熱程序還原吸收：約200至約1,500μmole/g、更典型地約250至約1,200μmole/g。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可具有在約1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、和約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可在約1000度煅燒10小時(shí)之后具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、及其組合。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有如下的在約1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的氫熱程序還原吸收：約0.5至約1.1的h2消耗/ceo2的摩爾比。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有如下的在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的氫熱程序還原吸收：約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可具有在約1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、和約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在約1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、及其組合。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可具有在1100攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約250μmole/g或更大、約287μmole/g或更大、約600μmole/g或更大、約654μmole/g或更大、約900μmole/g或更大、約954μmole/g或更大、約966μmole/g或更大、約967μmole/g或更大、約1100μmole/g或更大、約1006μmole/g或更大、約1022μmole/g或更大、或約1163μmole/g或更大。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1100攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約250μmole/g或更大、約287μmole/g或更大、約600μmole/g或更大、約654μmole/g或更大、約900μmole/g或更大、約954μmole/g或更大、約966μmole/g或更大、約967μmole/g或更大、約1100μmole/g或更大、約1006μmole/g或更大、約1022μmole/g或更大、約1163μmole/g或更大、及其組合。典型地，所述組合物可具有如下的在約1100攝氏度煅燒10小時(shí)之后的氫熱程序還原吸收：約200至約1,500μmole/g、更典型地約250至約1,200μmole/g。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可具有在約1100攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、和約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在約1100度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、及其組合。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有如下的在約1100攝氏度煅燒10小時(shí)之后的氫熱程序還原吸收：約0.5至約1.1的h2消耗/ceo2的摩爾比。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有如下的在1100攝氏度煅燒10小時(shí)之后的氫熱程序還原吸收：約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可具有在約1100攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、和約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在約1100攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、及其組合。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約250μmole/g或更大、約287μmole/g或更大、約600μmole/g或更大、約654μmole/g或更大、約900μmole/g或更大、約954μmole/g或更大、約966μmole/g或更大、約967μmole/g或更大、約1200μmole/g或更大、約1006μmole/g或更大、約1022μmole/g或更大、或約1163μmole/g或更大。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約250μmole/g或更大、約287μmole/g或更大、約600μmole/g或更大、約654μmole/g或更大、約900μmole/g或更大、約954μmole/g或更大、約966μmole/g或更大、約967μmole/g或更大、約1200μmole/g或更大、約1006μmole/g或更大、約1022μmole/g或更大、約1163μmole/g或更大、及其組合。典型地，所述組合物可具有如下的在約1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的氫熱程序還原吸收：約200至約1,500μmole/g、更典型地約250至約1,200μmole/g。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可具有在約1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、和約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在約1200度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、及其組合。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有如下的在約1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的氫熱程序還原吸收：約0.5至約1.1的h2消耗/ceo2的摩爾比。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有如下的在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的氫熱程序還原吸收：約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可具有在約1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、和約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在約1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、及其組合。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的bet和表觀表面積(視表面積)的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.4m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.0m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.1m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.5m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約5.3m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約26m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約28m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約29m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約53m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約54m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約58m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約63m²/g或更大。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.4m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.0m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.1m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.5m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約5.3m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的24m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約26m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約28m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約29m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約53m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約54m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約58m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約63m²/g或更大、及其組合。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有如下的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.0至約6.0m²/g。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有如下的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9至約5.2m²/g。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可如下的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.0至約6.0m²/g。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有如下的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9至約5.2m²/g。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有如下的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約20m²/g至約30m²/g。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有如下的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g至約29m²/g。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有如下的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約45m²/g至約70m²/g。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有如下的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g至約65m²/g。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有2.00cc/g或更大的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有1.30cc/g或更大的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的0.65cc/g或更大的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的1.00cc/g或更大的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的1.4cc/g或更大的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有2.00cc/g或更大或1.30cc/g或更大之一的總孔體積，并且在所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的0.65cc/g或更大、1.00cc/g或更大、1.4cc/g或更大之一的總孔體積，并且一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.6至約2.00cc/g的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65至約2.00cc/g的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.6至約2.00cc/g之一的總孔體積，并且所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后具有約0.6至約2.00cc/g的總孔體積，并且所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65至約2.00cc/g之一的總孔體積，并且所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后具有約0.65至約2.00cc/g的總孔體積，并且所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的0.65cc/g或更大的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的1.00cc/g或更大的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的1.4cc/g或更大的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有2.00cc/g或更大或1.30cc/g或更大之一的總孔體積，并且所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的0.65cc/g或更大、1.00cc/g或更大、1.4cc/g或更大之一的總孔體積，并且一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.6至約2.00cc/g的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65至約2.00cc/g的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.6至約2.00cc/g之一的總孔體積，并且所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.6至約2.00cc/g的總孔體積，并且所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65至約2.00cc/g之一的總孔體積，并且所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65至約2.00cc/g的總孔體積，并且所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的0.65cc/g或更大的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的1.00cc/g或更大的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的1.4cc/g或更大的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有2.00cc/g或更大或1.30cc/g或更大之一的總孔體積，并且所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的0.65cc/g或更大、1.00cc/g或更大、1.4cc/g或更大之一的總孔體積，并且一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.6至約2.00cc/g的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65至約2.00cc/g的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.6至約2.00cc/g之一的總孔體積，并且所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.6至約2.00cc/g的總孔體積，并且所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65至約2.00cc/g之一的總孔體積，并且所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65至約2.00cc/g的總孔體積，并且所述組合物中包含的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。

根據(jù)一些實(shí)施方案，對(duì)于所述組合物，下列的兩個(gè)或更多個(gè)可為成立的(真的)：所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的總孔體積：約0.65cc/g或更大、約0.71cc/g或更大、約0.85cc/g或更大、約0.99cc/g或更大、約1.00cc/g或更大、約1.07cc/g或更大、約1.11cc/g或更大、約1.17cc/g或更大、約1.30cc/g或更大、約1.33cc/g或更大、約1.40cc/g或更大、約1.43cc/g或更大、約1.46cc/g或更大、約1.58cc/g或更大、約1.67cc/g或更大、約1.96cc/g或更大、約2.00cc/g或更大、約2.20cc/g或更大、約2.33cc/g或更大、約2.60cc/g或更大、約3.00cc/g或更大、或約3.23cc/g或更大、及其組合；所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約250μmole/g或更大、約287μmole/g或更大、約600μmole/g或更大、約654μmole/g或更大、約900μmole/g或更大、約954μmole/g或更大、約966μmole/g或更大、約967μmole/g或更大、約1000μmole/g或更大、約1006μmole/g或更大、約1022μmole/g或更大、或約1163μmole/g或更大、及其組合；和所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.4m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.0m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.1m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.5m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約5.3m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約26m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約28m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約29m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約53m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約54m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約58m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大、或在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約63m²/g或更大、及其組合。

根據(jù)一些實(shí)施方案，對(duì)于所述組合物，下列的兩個(gè)或更多個(gè)可為成立的：所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的總孔體積：約0.65cc/g或更大、約0.71cc/g或更大、約0.85cc/g或更大、約0.99cc/g或更大、約1.00cc/g或更大、約1.07cc/g或更大、約1.11cc/g或更大、約1.17cc/g或更大、約1.30cc/g或更大、約1.33cc/g或更大、約1.40cc/g或更大、約1.43cc/g或更大、約1.46cc/g或更大、約1.58cc/g或更大、約1.67cc/g或更大、約1.96cc/g或更大、約2.00cc/g或更大、約2.20cc/g或更大、約2.33cc/g或更大、約2.60cc/g或更大、約3.00cc/g或更大、或約3.23cc/g或更大、及其組合；所述組合物可在1000攝氏度(和/或1100和/或1200攝氏度)煅燒10小時(shí)之后具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原摩爾比吸收：約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比、及其組合；和所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.4m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.0m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.1m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.5m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約5.3m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約26m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約28m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約29m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約53m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約54m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約58m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約63m²/g或更大、及其組合。

根據(jù)一些實(shí)施方案，對(duì)于所述組合物，下列的兩個(gè)或更多個(gè)可為成立的：所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的總孔體積：約0.7至約3.5cc/g和約0.65至約3.20cc/g；所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約0.5至約1.1摩爾比的h2消耗/ceo2和約0.54至約0.99摩爾比的h2消耗/ceo2；和所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.0至約6.0m²/g、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9至約5.2m²/g、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約20m²/g至約30m²/g、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g至約29m²/g、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約45m²/g至約70m²/g、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g至約65m²/g、及其組合。

根據(jù)一些實(shí)施方案，對(duì)于所述組合物，下列的兩個(gè)或更多個(gè)可為成立的：所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的總孔體積：約0.7至約3.5cc/g和約0.65至約3.20cc/g；所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的的氫熱程序還原吸收：約200至約1,500μmole/g、更典型地約250至約1,200μmole/g；和所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.0至約6.0m²/g、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9至約5.2m²/g、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約20m²/g至約30m²/g、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g至約29m²/g、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約45m²/g至約70m²/g、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g至約65m²/g、及其組合。

根據(jù)一些實(shí)施方案，對(duì)于所述組合物，下列的兩個(gè)或更多個(gè)可為成立的：所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的總孔體積：約0.65cc/g或更大、約0.71cc/g或更大、約0.85cc/g或更大、約0.99cc/g或更大、約1.00cc/g或更大、約1.07cc/g或更大、約1.11cc/g或更大、約1.17cc/g或更大、約1.30cc/g或更大、約1.33cc/g或更大、約1.40cc/g或更大、約1.43cc/g或更大、約1.46cc/g或更大、約1.58cc/g或更大、約1.67cc/g或更大、約1.96cc/g或更大、約2.00cc/g或更大、約2.20cc/g或更大、約2.33cc/g或更大、約2.60cc/g或更大、約3.00cc/g和更大、或約3.23cc/g或更大；所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的氫熱程序還原吸收：約250μmole/g或更大、約287μmole/g或更大、約600μmole/g或更大、約654μmole/g或更大、約900μmole/g或更大、約954μmole/g或更大、約966μmole/g或更大、約967μmole/g或更大、約1000μmole/g或更大、約1006μmole/g或更大、約1022μmole/g和更大、或約1163μmole/g或更大；和所述組合物可具有包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.4m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.0m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.1m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.5m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約5.3m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約26m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約28m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約29m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約53m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約54m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約58m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約63m²/g或更大。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和選自在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.0至約6.0m²/g、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9至約5.2m²/g、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的20m²/g至約30m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有選自在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g至約29m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和選自在氧化環(huán)境中在1000攝氏度(和/或1200攝氏度)煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約45m²/g至約70m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有選自在氧化環(huán)境中在1000攝氏度(和/或1100和/或1200攝氏度)煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g至約65m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有：包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的總孔體積：約3.00cc/g或更大和2.00cc/g或更大；以及包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.4m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.0m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.1m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.5m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約5.3m²/g或更大、及其組合。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.3cc/g或更大的總孔體積、和包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.4m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.0m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.1m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.5m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約5.3m²/g或更大、及其組合。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和選自如下的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.0至約6.0m²/g、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9至約5.2m²/g、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約20m²/g至約30m²/g。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有選自在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g至約29m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和選自在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約45m²/g至約70m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有選自在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g至約65m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和包括選自由以下組成的組和/或選自基本上由以下組成的組的一種或多種的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.4m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約2.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約3.9m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.0m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.1m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.5m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約4.6m²/g或更大、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約5.3m²/g或更大、及其組合。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和選自如下的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.0至約6.0m²/g、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9至約5.2m²/g、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的20m²/g至約30m²/g。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有選自在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g至約29m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和選自在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約45m²/g至約70m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有選自在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g至約65m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.00cc/g或更大的總孔體積、和選自如下的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.0至約6.0m²/g、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9至約5.2m²/g、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約20m²/g至約30m²/g。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有選自在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g至約29m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.00cc/g或更大的總孔體積、和選自在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約45m²/g至約70m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有選自在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g至約65m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.40cc/g或更大的總孔體積、和選自如下的bet和表觀表面積的一種或多種：在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.0至約6.0m²/g、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)或更長(zhǎng)的時(shí)間段之后的約1.9至約5.2m²/g、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約20m²/g至約30m²/g。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有選自在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g至約29m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.40cc/g或更大的總孔體積、和選自在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約45m²/g至約70m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有選自在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g至約65m²/g的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約600μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約1000μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約600μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約1000μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約600μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約1000μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約600μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約1000μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約600μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約1000μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約600μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約1000μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約600μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約1000μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約600μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約1000μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在1100和/或1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約600μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約1000μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約600μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約1000μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約600μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約1000μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約600μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約1000μmole/g或更大的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.55或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.58或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.59或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.67或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.99或更多的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、約bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1000攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1000攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1100攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約3.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約2.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g之一或更大的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.30cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約0.65cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原、約0.65cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、約bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.00cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.00cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約250、600或1000μmole/g的一種或多種或更大的氫熱程序還原吸收和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約1.40cc/g或更大的總孔體積、在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99之一或更大的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約50m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約55m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約60m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約24m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在1200攝氏度煅燒10小時(shí)之后的約0.54至約0.99的h2消耗/ceo2的摩爾比的氫熱程序還原吸收、約1.40cc/g或更大的總孔體積、和在氧化環(huán)境中在1200攝氏度煅燒10小時(shí)的時(shí)間段之后的約27m²/g或更大的bet和表觀表面積的一種或多種。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可包含一種或多種其它稀土氧化物。在一些實(shí)施方案中，一種或多種稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭、以及氧化釔和氧化釹的一種或兩種。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可包含約1.5至約6重量％的氧化鑭。

根據(jù)一些實(shí)施方案是制備組合物的方法，其包括將水溶性鋯和鈰鹽以適當(dāng)比例、任選地與一種或多種除鈰之外的水溶性稀土鹽組合的步驟。該方法還可包括將水溶性鋯和鈰鹽和任選地一種或多種除鈰之外的水溶性稀土鹽溶解在蒸餾去離子水中以形成包含金屬的溶液的步驟。該方法還可包括向包含金屬的溶液中添加過(guò)氧化氫的步驟。在一些實(shí)施方案中，該方法還可包括在向包含金屬的溶液中添加過(guò)氧化氫之后，向包含金屬的溶液中添加堿例如氨水。在一些實(shí)施方案中，該方法還可包括在向包含金屬的溶液中添加過(guò)氧化氫之后，通過(guò)向包含金屬的溶液中添加堿例如氨水或?qū)饘俚娜芤禾砑又翂A例如氨水溶液中或同時(shí)添加包含金屬的溶液和堿例如氨水而使至少大部分金屬在包含金屬的溶液中沉淀。該方法還可包括從包含金屬的溶液中分離沉淀的金屬。在一些實(shí)施方案中，該方法可包括在從包含金屬的溶液中分離沉淀的金屬之后，將沉淀的金屬首先用蒸餾去離子水洗滌，在水洗滌之后，用醇例如乙醇或異丙醇洗滌。在一些實(shí)施方案中，經(jīng)洗滌的沉淀的金屬可分散在醇例如乙醇或異丙醇中并且裝填至反應(yīng)器容器。根據(jù)一些實(shí)施方式，在裝填反應(yīng)器容器之后，可用惰性氣體(例如氬氣或氮?dú)?吹掃經(jīng)裝填的反應(yīng)器容器，之后用惰性氣體對(duì)經(jīng)裝填的反應(yīng)器容器加壓，并且將反應(yīng)器容器自生地加壓至約25巴(在150攝氏度的溫度下)。在一些實(shí)施方案中，在將反應(yīng)器容器自生地加壓之后，該方法可包括在將反應(yīng)器加熱至約150攝氏度的溫度的同時(shí)對(duì)反應(yīng)器進(jìn)行排出(排氣)且保持約7至約10巴的反應(yīng)器容器壓力。該方法還可包括，在將反應(yīng)器溫度保持在150攝氏度的同時(shí)將加壓的反應(yīng)器排出至約1巴，直到將基本上所有的乙醇從反應(yīng)器和沉淀的金屬排出。在一些實(shí)施方案中，該方法可包括以下步驟：在將基本上所有的醇從反應(yīng)器和沉淀的金屬排出之后，在約950攝氏度在氧化環(huán)境中煅燒沉淀的金屬約5小時(shí)以形成所述組合物。在一些實(shí)施方案中，該方法可包括在氧化環(huán)境中分別在約1000、約1100、或1200攝氏度之一進(jìn)一步煅燒所述組合物約10小時(shí)以進(jìn)行測(cè)試和/或老化。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可包含除氧化鈰之外的一種或多種其它稀土氧化物。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可包含約5至約20重量％的除氧化鈰之外的一種或多種稀土氧化物。

根據(jù)一些實(shí)施方案，除氧化鈰之外的一種或多種其它稀土氧化物可為氧化鑭。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可包含約1.5至約6重量％的氧化鑭。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可包含除氧化鈰或氧化釔之外的一種或多種其它稀土氧化物。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可包含約0.1至約30重量％的除氧化鈰或氧化釔之外的一種或多種其它稀土氧化物。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可包含約5至約20重量％的除氧化鈰或氧化釔之外的一種或多種其它稀土氧化物。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可包含約4至約9重量％的除氧化鈰或氧化釔之外的一種或多種其它稀土氧化物。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可包含氧化鋯。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可包含約1至約99重量％的氧化鋯。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可包含約60至約85重量％的氧化鋯。

根據(jù)一些實(shí)施方案，所述組合物可包含氧化鈰。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可包含約1至約99重量％的氧化鈰。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可包含約5至約30重量％的氧化鈰。

從本文所包含的配置、實(shí)施方案和方面的公開(kāi)內(nèi)容，這些和其它優(yōu)點(diǎn)將變得明晰。

如本文中使用的，“至少一種(個(gè))”、“一種(個(gè))或多種(個(gè))”、和“和/或”為開(kāi)放式表述，其在操作中是連接性和分離性的。例如，表述“a、b和c的至少一種”、“a、b、或c的至少一種”、“a、b、和c的一種或多種”、“a、b、或c的一種或多種”和“a、b、和/或c”各自意為單獨(dú)的a、單獨(dú)的b、單獨(dú)的c、a和b一起、a和c一起、b和c一起、或a、b和c一起。當(dāng)在以上表述中的a、b、和c的每一個(gè)指代一個(gè)要素例如x、y、和z或一類要素例如x1-xn、y1-ym、和z1-zo，所述短語(yǔ)意圖指代選自x、y和z的單一要素、選自相同類別的要素的組合(例如，x1和x2)以及選自兩種或更多種類別的要素的組合(例如，y1和zo)。

注意，術(shù)語(yǔ)“一種(個(gè))(不定冠詞，a，an)”實(shí)體指代該實(shí)體的一個(gè)或多個(gè)。這樣，術(shù)語(yǔ)“一種(個(gè))”、“一種(個(gè))或多種(個(gè))”和“至少一種(個(gè))”在此可互換地使用。還注意，術(shù)語(yǔ)“包括”、“包含”、和“具有”可互換地使用。

如本文中使用的術(shù)語(yǔ)“意為”應(yīng)根據(jù)35u.s.c.，section112，paragraph6被賦予其最廣泛的可能解釋。因此，包括術(shù)語(yǔ)“意為”的權(quán)利要求應(yīng)涵蓋本文所闡明的所有結(jié)構(gòu)、材料或作用(動(dòng)作)、以及其所有等同物。另外，結(jié)構(gòu)、材料或作用及其等同物應(yīng)包括在發(fā)明內(nèi)容、附圖說(shuō)明、具體實(shí)施方式、摘要和權(quán)利要求本身中描述的所有那些。

除非另有解釋，否則所有組分或組合物水平是關(guān)于該組分或組合物的活性部分，且不包括雜質(zhì)，例如殘留溶劑或副產(chǎn)物，其可存在于這樣的組分或組合物的市售來(lái)源中。

除非另有說(shuō)明，否則所有百分?jǐn)?shù)和比例均按總組合物重量計(jì)算。

應(yīng)理解，在整個(gè)本公開(kāi)內(nèi)容中給出的每個(gè)最大數(shù)值界限被認(rèn)為包括每一個(gè)較低的數(shù)字界限作為替代，如同這樣的較低的數(shù)字界限在本文中明確寫(xiě)出一樣。在整個(gè)本公開(kāi)內(nèi)容中給出的每個(gè)最小數(shù)值界限被認(rèn)為包括每一個(gè)較高的數(shù)值界限作為替代，如同這樣的較高的數(shù)字界限在本文中明確寫(xiě)出一樣。在整個(gè)本公開(kāi)內(nèi)容中給出的每個(gè)數(shù)值范圍被認(rèn)為包括落在這樣的較寬數(shù)值范圍內(nèi)的每一個(gè)較窄的數(shù)值范圍，如同這樣的較窄的數(shù)值范圍在本文中明確寫(xiě)出一樣。舉例而言，短語(yǔ)約2至約4包括整數(shù)和/或整數(shù)范圍約2至約3、約3至約4和每個(gè)可能的基于實(shí)數(shù)(例如，無(wú)理數(shù)和/或有理數(shù))的范圍例如約2.1至約4.9、約2.1至約3.4等。

以上是公開(kāi)內(nèi)容的簡(jiǎn)化概述以提供對(duì)本公開(kāi)內(nèi)容的一些方面的理解。本概述不是對(duì)本公開(kāi)內(nèi)容及其各方面、實(shí)施方案和配置的廣泛或詳盡的綜述。其既不意圖確定本公開(kāi)內(nèi)容的關(guān)鍵或決定要素，也不意圖描繪本公開(kāi)內(nèi)容的范圍，而是用于以簡(jiǎn)化形式呈現(xiàn)本公開(kāi)內(nèi)容的所選擇的概念作為下面給出的更詳細(xì)描述的介紹。如將理解的，本公開(kāi)內(nèi)容的其他方面、實(shí)施方案和配置單獨(dú)或組合地利用以上闡述或下面詳細(xì)描述的特征的一個(gè)或多個(gè)是可能的。而且，雖然根據(jù)示例性實(shí)施方案呈現(xiàn)本公開(kāi)內(nèi)容，但是應(yīng)當(dāng)理解，可單獨(dú)地要求保護(hù)本公開(kāi)內(nèi)容的單獨(dú)方面。

附圖說(shuō)明

引入說(shuō)明書(shū)中和構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分的附圖示出本公開(kāi)內(nèi)容的實(shí)施方案，并且與以上給出的公開(kāi)內(nèi)容的一般描述以及以下給出的詳細(xì)描述一起用于解釋本公開(kāi)內(nèi)容的原理。

圖1顯示根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的一些實(shí)施方案的組合物的h2熱程序還原組分；和

圖2顯示根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的一些實(shí)施方案的累積和微分孔體積分布。

具體實(shí)施方式

本公開(kāi)內(nèi)容描述了具有解決以上所提及的需求的性質(zhì)的組合物。因此，本公開(kāi)內(nèi)容的目標(biāo)是提供具有大且熱穩(wěn)定的表面積、高且熱穩(wěn)定的孔隙度、大的孔開(kāi)口、高的本體氧活動(dòng)性的基于鈰和鋯的氧化物(其被可逆地還原和氧化)，以及提供用于合成這樣的氧化物的方法。根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的一些實(shí)施方案，所述組合物可為顆粒形式，其具有在氧化環(huán)境中在約1000攝氏度煅燒約10小時(shí)之后可為約50m²/g或更大的表面積。在一些實(shí)施方案中，所述顆粒可具有在氧化環(huán)境中在約1100攝氏度煅燒約10小時(shí)之后的24m²/g或更大的表面積。

根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的一些實(shí)施方案，所述組合物可包括氧化物(多種氧化物)。所述氧化物可為顆粒形式。此外，所述組合物可具有約1.33cc/g或更大的孔體積。在一些實(shí)施方案中，所述組合物可具有在氧化環(huán)境中在約1100攝氏度煅燒約10小時(shí)之后的約0.65cc/g或更大的孔體積。

根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的一些實(shí)施方案，氧化物可為顆粒形式。在一些實(shí)施方案中，顆?？删哂锌组_(kāi)口。在一些實(shí)施方案中，孔開(kāi)口可為約至約在一些實(shí)施方案中，孔開(kāi)口在氧化環(huán)境中在約1100攝氏度煅燒約10小時(shí)之后可為約至約2μm。典型地，孔開(kāi)口可具有雙峰分布。第一峰(模式，眾數(shù))可具有約至約的中值。第二峰(模式，眾數(shù))可為相當(dāng)寬的并且可具有約1.2μm至約2.5μm的中值。更典型地，孔開(kāi)口在氧化環(huán)境中在約1100攝氏度煅燒約10小時(shí)之后可具有至1μm的中值。

根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的一些實(shí)施方案，氧化物可為可包含氧化鈰(iv)的顆粒的形式。而且，如通過(guò)溫度程序還原(程序升溫還原，tpr)測(cè)量的，氧化鈰(iv)可具有約0.5或更大的h2/ceo2的消耗比。

根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的一些實(shí)施方案，氧化物可為顆粒形式，其可具有在小于約400攝氏度的溫度的有(h2)熱程序還原組分。此外，氧化物可具有在大于約400攝氏度的溫度的氫(h2)熱程序還原組分值。

根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的一些實(shí)施方案為用于制造組合物的方法。典型地，所述組合物可包括兩種或更多種金屬氧化物。所述方法可包括通過(guò)在中等(適當(dāng)?shù)?攪拌下使兩種或更多種金屬的水溶性鹽與堿組合來(lái)獲得沉淀物的步驟。兩種或更多種金屬的水溶性鹽可為任何形式的兩種或更多種金屬鹽。典型地，兩種或更多種金屬鹽各自具有大于約2g/l的水溶解度(水溶性)。更典型地，兩種或更多種金屬鹽各自具有大于約5g/l的水溶解度，或甚至更典型地大于約10g/l的水溶解度。更甚至，典型地兩種或更多種金屬鹽包括硝酸鹽。所述方法可包括洗滌所獲得的沉淀物的步驟。此外，所述方法可包括將沉淀物分散于醇溶液中以形成醇分散體的步驟。在一些實(shí)施方案中，所述方法可包括將所述醇分散體裝填至反應(yīng)器。此外，所述方法可包括提高包含于反應(yīng)器中的醇分散體的溫度和壓力的一個(gè)或兩者的步驟。典型地，將所述醇分散體提高至約150℃或更高的溫度和提高至約1巴或更高的壓力。所述方法的一些實(shí)施方案包括在維持所述溫度的同時(shí)將壓力降低至大氣壓力的步驟。所述方法的一些實(shí)施方案可包括降低溫度的步驟。此外，所述方法可包括收取新鮮的組合物的步驟。在一些實(shí)施方案中，所述方法可包括煅燒所述新鮮的組合物的步驟。典型地，所述新鮮的組合物可在約300攝氏度或更高的溫度下煅燒。更典型地，所述新鮮的組合物可在約300攝氏度或更高的溫度下在氧化氣氛、還原氣氛、惰性氣氛或這些氣氛的相繼組合的一種下煅燒。

本公開(kāi)內(nèi)容的性質(zhì)和目的通過(guò)以下實(shí)施例進(jìn)一步說(shuō)明，其僅提供用于說(shuō)明目的而非限制由權(quán)利要求所限定的本公開(kāi)內(nèi)容。提供以下實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本公開(kāi)內(nèi)容的一些方面、實(shí)施方案和配置，并且所述實(shí)施例不解釋為對(duì)如在所附權(quán)利要求中闡述的本公開(kāi)內(nèi)容的限制。所有的份和百分比均以重量計(jì)，除非另有說(shuō)明。

實(shí)施例1：60重量％zro2；30重量％ceo2；6重量％la2o3；4重量％y2o3。

通過(guò)下列方法合成具有約60重量％zro2、約30重量％ceo2、約6重量％la2o3、和約4重量％y2o3的氧化物當(dāng)量組成的混合氧化物。以適當(dāng)?shù)谋壤M合硝酸氧鋯、硝酸鈰(iii)、硝酸鑭和硝酸釔的溶液以實(shí)現(xiàn)鋯、鈰、鑭和鐿的目標(biāo)元素組成。然后，添加蒸餾的去離子水以實(shí)現(xiàn)約100克/升的金屬的總的基于氧化物的相對(duì)濃度。在該調(diào)整之后，將約10ml的過(guò)氧化氫(h2o2，約32重量％)添加至溶液。然后，緩慢地將該溶液添加至連續(xù)攪拌的氨水溶液(約1000ml的約4.5摩爾(濃度)的nh4oh)。將反應(yīng)溫度保持在約25攝氏度。然后，將所得的沉淀物過(guò)濾并且在55攝氏度用蒸餾的去離子水徹底洗滌。然后，用約1200ml乙醇(約99％)洗滌經(jīng)過(guò)濾的固體。在這最后的步驟之后，在攪拌的parr反應(yīng)器型號(hào)4530中將固體過(guò)濾并分散在乙醇(約99％)中至約675ml的總體積。然后，用氬氣充分吹掃包含所得的漿料的反應(yīng)器。在該吹掃步驟之后，用氬氣將反應(yīng)器加壓至約10巴。隨后，加熱反應(yīng)器直至自生地產(chǎn)生的壓力達(dá)到約25巴(在約150攝氏度的溫度下)，在這時(shí)，在持續(xù)加熱至約150攝氏度的同時(shí)，反應(yīng)器壓力通過(guò)排出而降低并且通過(guò)排出而維持在約7至約10巴。在那時(shí)，通過(guò)排出將反應(yīng)器壓力降低至約1巴，并且在約150攝氏度的溫度維持加熱，直至所有乙醇被基本上從材料和反應(yīng)器清除。然后，將反應(yīng)器冷卻至室溫，并且將所得的粉末材料在空氣中在約950攝氏度煅燒約5小時(shí)。將所得的材料定義作為新鮮狀態(tài)的材料。然后，將新鮮的材料進(jìn)一步分別在空氣中在約1000、約1100、和約1200攝氏度之一下煅燒約10小時(shí)(參見(jiàn)表)以用于測(cè)試(定義作為老化條件)。

實(shí)施例2：60重量％zro2；30重量％ceo2；6重量％la2o3；4重量％y2o3。

通過(guò)下列方法合成具有于約60重量％zro2、約30重量％ceo2、約6重量％la2o3、和約4重量％y2o3的氧化物當(dāng)量組成的混合氧化物。以適當(dāng)?shù)谋壤M合硝酸氧鋯、硝酸鈰(iii)、硝酸鑭和硝酸釔的溶液以實(shí)現(xiàn)鋯、鈰、鑭和鐿的目標(biāo)元素組成。然后，添加蒸餾的去離子水以實(shí)現(xiàn)約100克/升的金屬的總的基于氧化物的相對(duì)濃度。在該調(diào)整之后，將約10ml的過(guò)氧化氫(h2o2，約32重量％)添加至溶液。然后，緩慢地將該溶液添加至連續(xù)攪拌的氨水溶液(約1000ml的約4.5摩爾(濃度)的nh4oh)。將反應(yīng)溫度保持在約25攝氏度。然后，將所得的沉淀物過(guò)濾并且在55攝氏度用蒸餾的去離子水徹底洗滌。然后，用約1200ml乙醇(約99％)洗滌經(jīng)過(guò)濾的固體。在這最后的步驟之后，在攪拌的parr反應(yīng)器型號(hào)4530中將固體過(guò)濾并分散在乙醇(約99％)中至約675ml的總體積。然后，用氬氣充分吹掃包含所得的漿料的反應(yīng)器。在該吹掃步驟之后，用氬氣將反應(yīng)器加壓至約10巴。隨后，加熱反應(yīng)器直至自生地產(chǎn)生的壓力達(dá)到約30巴的最大壓力(在約180攝氏度)，更具體地在約20至約25巴的壓力(在約180攝氏度)，在這時(shí)，在持續(xù)加熱以保持約180攝氏度的同時(shí)，反應(yīng)器壓力通過(guò)排出而降低并且維持在約17至約25巴的壓力。在那時(shí)，將反應(yīng)器排出至1巴和繼續(xù)加熱且維持在180攝氏度的溫度直至所有乙醇被基本上從材料和反應(yīng)器中清除。然后，將反應(yīng)器冷卻至室溫并且將所得的粉末材料在空氣中在約950攝氏度煅燒約5小時(shí)。將所得的材料定義作為新鮮狀態(tài)的材料。然后，將新鮮的材料進(jìn)一步分別在空氣中在約1000、約1100、和約1200攝氏度之一下煅燒約10小時(shí)(參見(jiàn)表)以用于測(cè)試(定義作為老化條件)。

實(shí)施例3：60重量％zro2；30重量％ceo2；6重量％la2o3；4重量％y2o3。

通過(guò)下列方法合成具有約60重量％zro2、約30重量％ceo2、約6重量％la2o3、和約4重量％y2o3的氧化物當(dāng)量組成的混合氧化物。以適當(dāng)?shù)谋壤M合硝酸氧鋯、硝酸鈰(iii)、硝酸鑭和硝酸釔的溶液以實(shí)現(xiàn)鋯、鈰、鑭和鐿的目標(biāo)元素組成。然后，添加蒸餾的去離子水以實(shí)現(xiàn)約100克/升的金屬的總的基于氧化物的相對(duì)濃度。在該調(diào)整之后，將約10ml的過(guò)氧化氫(h2o2，約32重量％)添加至溶液。然后，緩慢地將該溶液添加至連續(xù)攪拌的氨水溶液(約1000ml的約4.5摩爾(濃度)的nh4o4)。將反應(yīng)溫度保持在約25攝氏度。然后，將所得的沉淀物過(guò)濾并且在55攝氏度用蒸餾的去離子水徹底洗滌。然后，用約1200ml的乙醇(約99％)洗滌經(jīng)過(guò)濾的固體。在這最后的步驟之后，在攪拌的parr反應(yīng)器型號(hào)4530中將固體過(guò)濾并分散在乙醇(約99％)中至約675ml的總體積。然后，用氬氣充分吹掃包含所得的漿料的反應(yīng)器。在該吹掃步驟之后，用氬氣將反應(yīng)器加壓至約10巴。隨后，加熱反應(yīng)器直至自生地產(chǎn)生的壓力達(dá)到約50巴的最大壓力(在約200攝氏度)，更具體地在約40至約50巴的壓力(在約200攝氏度)，在這時(shí)，在約200攝氏度持續(xù)加熱的同時(shí)，反應(yīng)器壓力通過(guò)排出而降低并且維持在約25至約35巴的壓力。在那時(shí)，將反應(yīng)器排出至約1巴并且繼續(xù)加熱并且將溫度維持在約200攝氏度直至所有乙醇被基本上從材料和反應(yīng)器中清除。然后，將反應(yīng)器冷卻至室溫并且將所得的粉末材料在空氣中在約950攝氏度煅燒約5小時(shí)。將所得的材料定義作為新鮮狀態(tài)的材料。然后，將新鮮的材料進(jìn)一步分別在空氣中在約1000、約1100、和約1200攝氏度之一下煅燒約10小時(shí)(參見(jiàn)表)以用于測(cè)試(定義作為老化條件)。

實(shí)施例4：72.2重量％zro2；20.8重量％ceo2；1.7重量％la2o3；5.3重量％nd2o3。

通過(guò)下列方法合成具有約72.2重量％zro2、約20.8重量％ceo2、約1.7重量％la2o3、和約5.3重量％y2o3的氧化物當(dāng)量組成的混合氧化物。以適當(dāng)?shù)谋壤M合硝酸氧鋯、硝酸鈰(iii)、硝酸鑭和硝酸釔的溶液以實(shí)現(xiàn)鋯、鈰、鑭和釹的目標(biāo)元素組成。然后，添加蒸餾的去離子水以實(shí)現(xiàn)約100克/升的金屬的總的基于氧化物的相對(duì)濃度。在該調(diào)整之后，將約7ml的過(guò)氧化氫(h2o2，約32重量％)添加至溶液。然后，緩慢地將該溶液添加至連續(xù)攪拌的氨水溶液(約1000ml的約4.5摩爾(濃度)的nh4oh)。將反應(yīng)溫度保持在約25攝氏度的溫度。然后，將所得的沉淀物過(guò)濾并且在約55攝氏度的溫度用蒸餾的去離子水徹底洗滌。然后，用約1200ml的乙醇(約99％)洗滌經(jīng)過(guò)濾的固體。在這最后的步驟之后，在攪拌的parr反應(yīng)器型號(hào)4530中將固體過(guò)濾并分散在乙醇(約99％)中至約675ml的總體積。然后，用氬氣充分吹掃包含所得的漿料的反應(yīng)器。在該吹掃步驟之后，用氬氣將反應(yīng)器加壓至約10巴。隨后，加熱反應(yīng)器直至自生地產(chǎn)生的壓力達(dá)到約140巴，在此時(shí)，在持續(xù)加熱至約300攝氏度的溫度的同時(shí)，反應(yīng)器壓力通過(guò)排出而維持在約130至約140巴的壓力。在那時(shí)，將反應(yīng)器排出至約1巴并且繼續(xù)加熱直到基本上所有乙醇被從材料和反應(yīng)器中消除。然后，將反應(yīng)器冷卻至室溫并且將所得的粉末材料在空氣中在約950攝氏度的溫度下煅燒約5小時(shí)。將所得的材料定義作為新鮮狀態(tài)的材料。然后，將新鮮的材料進(jìn)一步分別在空氣中在約1000、約1100、和約1200攝氏度之一下煅燒約10小時(shí)(參見(jiàn)表)以用于測(cè)試(定義作為老化條件)。

實(shí)施例5：60重量zro2；30重量％ceo2；6重量％la2o3；4重量％y2o3。

通過(guò)與實(shí)施例4中所述的相同方法合成具有約60重量％zro2、約30重量％ceo2、約6重量％la2o3、和約4重量％y2o3的氧化物當(dāng)量組成的混合氧化物。評(píng)價(jià)結(jié)果在表中給出。

實(shí)施例6：84重量％zro2；5重量％ceo2；2.5重量％la2o3；8.5wt％nd2o3。

通過(guò)與實(shí)施例4中所述的相同方法合成具有約84重量％zro2、約5重量％ceo2、約2.5重量％la2o3、和約8.5重量％nd2o3的氧化物當(dāng)量組成的混合氧化物。評(píng)價(jià)結(jié)果在表中給出。

實(shí)施例7：40重量％zro2；50重量％ceo2；5重量％la2o3；5重量％y2o3。

通過(guò)與實(shí)施例4中所述的相同方法合成具有約40重量％zro2、約50重量％ceo2、約5重量％la2o3、和約5重量％y2o3的氧化物當(dāng)量組成的混合氧化物。評(píng)價(jià)結(jié)果在表中給出。

實(shí)施例8：60重量％zro2；30重量％ceo2；6重量％la2o3；4重量％y2o3。

通過(guò)下列方法合成具有約60重量％zro2、約30重量％ceo2、約6重量％la2o3、和約4重量％y2o3的氧化物當(dāng)量組成的混合氧化物。以適當(dāng)?shù)谋壤M合硝酸氧鋯、硝酸鈰(iii)、硝酸鑭和硝酸釔的溶液以實(shí)現(xiàn)鋯、鈰、鑭和鐿的目標(biāo)元素組成。然后，添加蒸餾的去離子水以實(shí)現(xiàn)約100克/升的金屬的總的基于氧化物的相對(duì)濃度。在該調(diào)整之后，將約10ml的過(guò)氧化氫(h2o2，約32重量％)添加至溶液。然后，緩慢地將該溶液添加至連續(xù)攪拌的氨水溶液(約1000ml的約4.5摩爾(濃度)的nh4oh)。將反應(yīng)溫度保持在約25攝氏度的溫度。然后，將所得的沉淀物過(guò)濾并且在約55攝氏度的溫度用蒸餾的去離子水徹底洗滌。然后，用約1200ml的乙醇(約70％)洗滌經(jīng)過(guò)濾的固體。在這最后的步驟之后，在攪拌的parr反應(yīng)器型號(hào)4530中將固體過(guò)濾并分散在乙醇(約70％)中至約675ml的總體積。然后，用氬氣充分吹掃包含所得的漿料的反應(yīng)器。在該吹掃步驟之后，用氬氣將反應(yīng)器加壓至約10巴的壓力。隨后，加熱反應(yīng)器直至自生地產(chǎn)生的壓力達(dá)到約140巴，在這時(shí)，在持續(xù)加熱至約300攝氏度的溫度的同時(shí)，反應(yīng)器壓力通過(guò)排出而維持在130至約140巴的自生壓力。在那時(shí)，將反應(yīng)器排出至約1巴并且繼續(xù)加熱直至所有乙醇被基本上從材料和反應(yīng)器中清除。然后，將反應(yīng)器冷卻至室溫并且將所得的粉末材料在空氣中在約950攝氏度煅燒約5小時(shí)。將所得的材料定義作為新鮮狀態(tài)的材料。然后，將新鮮的材料進(jìn)一步分別在空氣中在約1000、約1100、和約1200攝氏度之一下煅燒約10小時(shí)(參見(jiàn)表)以用于測(cè)試(定義作為老化條件)。

實(shí)施例9：60重量％zro2；30重量％ceo2；6重量％la2o3；4重量％y2o3。

通過(guò)下列方法合成具有約60重量％zro2、約30重量％ceo2、約6重量％la2o3、和約4重量％y2o3的氧化物當(dāng)量組成的混合氧化物。以適當(dāng)?shù)谋壤M合硝酸氧鋯、硝酸鈰(iii)、硝酸鑭和硝酸釔的溶液以實(shí)現(xiàn)鋯、鈰、鑭和鐿的目標(biāo)元素組成。然后，添加蒸餾的去離子水以實(shí)現(xiàn)約100克/升的金屬的總的基于氧化物的相對(duì)濃度。在該調(diào)整之后，將約10ml的過(guò)氧化氫(h2o2，約32重量％)添加至溶液。然后，緩慢地將該溶液添加至連續(xù)攪拌的氨水溶液(約1000ml的約4.5摩爾(濃度)的nh4oh)。將反應(yīng)溫度保持在約25攝氏度的溫度。然后，將所得的沉淀物過(guò)濾并且在約55攝氏度的溫度用蒸餾的去離子水徹底洗滌。然后，用約1200ml的異丙醇(約99％)洗滌經(jīng)過(guò)濾的固體。在這最后的步驟之后，在攪拌的parr反應(yīng)器型號(hào)4530中將固體過(guò)濾并分散在異丙醇(約99％)中至約675ml的總體積。然后，用氬氣充分吹掃包含所得的漿料的反應(yīng)器。在該吹掃步驟之后，用氬氣將反應(yīng)器加壓至約10巴。隨后，加熱反應(yīng)器直至自生地產(chǎn)生的壓力達(dá)到約140巴，在這時(shí)，在持續(xù)加熱至約300攝氏度的溫度的同時(shí)，反應(yīng)器壓力通過(guò)排出而維持在約130至約140巴。在那時(shí)，將反應(yīng)器排出至約1巴并且繼續(xù)加熱直到基本上所有異丙醇被從材料和反應(yīng)器中消除。然后，將反應(yīng)器冷卻至室溫并且將所得的粉末材料在空氣中在約950攝氏度煅燒約5小時(shí)。將所得的材料定義作為新鮮狀態(tài)的材料。然后，將新鮮的材料進(jìn)一步分別在空氣中在約1000、約1100、和約1200攝氏度之一下煅燒約10小時(shí)(參見(jiàn)表)以用于測(cè)試(定義作為老化條件)。

實(shí)施例10：60重量zro2；30重量ceo2：6重量％la2o3：4重量％y2o3

通過(guò)下列方法合成具有約60重量％zro2、約30重量％ceo2、約6重量％la2o3、和約4重量％y2o3的氧化物當(dāng)量組成的混合氧化物。以適當(dāng)?shù)谋壤M合硝酸氧鋯、硝酸鈰銨(硝酸高鈰銨)、硝酸鑭和硝酸釔的溶液以實(shí)現(xiàn)鋯、鈰、鑭和釹的目標(biāo)元素組成。然后，添加蒸餾的去離子水以實(shí)現(xiàn)約100克/升的金屬的總的基于氧化物的相對(duì)濃度。然后，緩慢地將該溶液添加至連續(xù)攪拌的氨水溶液(約1000ml的約4.5摩爾(濃度)的nh4oh)。將反應(yīng)溫度保持在約25攝氏度的溫度。然后，將所得的沉淀物過(guò)濾并且在約55攝氏度的溫度用蒸餾的去離子水徹底洗滌。然后，用約1200ml的乙醇(約99％)洗滌經(jīng)過(guò)濾的固體。在這最后的步驟之后，在攪拌的parr反應(yīng)器型號(hào)4530中將固體過(guò)濾并分散在乙醇(約99％)中至約675ml的總體積。然后，用氬氣充分吹掃包含所得的漿料的反應(yīng)器。在該吹掃步驟之后，用氬氣將反應(yīng)器加壓至約10巴。隨后，加熱反應(yīng)器直至自生地產(chǎn)生的壓力達(dá)到約140巴，在這時(shí)，在持續(xù)加熱至約300攝氏度的溫度的同時(shí)，反應(yīng)器壓力通過(guò)排出而維持在約130至約140巴的壓力。在那時(shí)，將反應(yīng)器排出至約1巴并且繼續(xù)加熱直到基本上所有乙醇被從材料和反應(yīng)器中消除。然后，將反應(yīng)器冷卻至室溫并且將所得的粉末材料在空氣中在約950攝氏度的溫度下煅燒約5小時(shí)。然后，將新鮮的材料進(jìn)一步分別在空氣中在約1000、約1100、和約1200攝氏度之一下煅燒約10小時(shí)(參見(jiàn)表)以用于測(cè)試(定義作為老化條件)。圖1顯示在約100至約1100攝氏度的溫度范圍的h2熱程序還原組分；在300到500攝氏度之間，兩個(gè)組分是明顯的，其中一個(gè)組分在400攝氏度或更低的溫度，以及另一個(gè)在大于400攝氏度的溫度。

使用micromeriticsautoporeiv9500系統(tǒng)測(cè)量孔隙度和總孔體積。在astm國(guó)際測(cè)試方法d4284-07中概述的程序如下；樣品大小為0.5克，汞接觸角為130°，汞表面張力為0.485n/m(4845d/cm)。最佳壓力增加是逐步(步進(jìn)式)增加，具有10秒/步的停留時(shí)間。另外的細(xì)節(jié)在以下給出。實(shí)施例1所得的新鮮的材料的累積孔體積分布的圖解實(shí)例示于圖2中，其顯示對(duì)于實(shí)施例1的新鮮的材料的累積和微分孔體積分布。

通過(guò)使用micromeriticsasap2000系統(tǒng)和氮?dú)庠诩s77開(kāi)爾文下測(cè)定材料的表觀表面積。使用astm國(guó)際測(cè)試方法d3663-03(reapproved2008)中概述的程序，但是有一個(gè)重要的例外。眾所周知，“bet表面積”測(cè)定對(duì)于包含微孔隙度的材料是不可能的。認(rèn)識(shí)到表面積是一個(gè)近似，報(bào)道的值被標(biāo)為“表觀表面積”值，而不是“bet表面積”值。按照普遍接受的程序，表觀表面積的測(cè)定，bet方程的應(yīng)用被限于其中方程的術(shù)語(yǔ)na(1-p/po)隨p/po連續(xù)增加的壓力范圍。樣品的除氣在約300攝氏度在氮?dú)庀逻M(jìn)行約2小時(shí)。

使用空氣作為氧化劑氣體且使用氫氣作為還原氣體采用altamirainstrumentsami-390溫度程序還原(tpr)設(shè)備進(jìn)行各樣品的還原性。所述系統(tǒng)使用在氧化鋁上的1％co3o4上的1％re作為基線材料進(jìn)行校準(zhǔn)。使用的測(cè)量程序如下。首先，將0.05克的1000攝氏度老化的樣品放在tpr機(jī)器樣品管中。然后，將樣品管連接至設(shè)備，并且在25cc/分鐘流動(dòng)的o2/he(10：90體積％)氣氛中在400℃將樣品預(yù)氧化15分鐘。在該處理之后，在相同的氣流下容許樣品冷卻。一旦冷卻至約100℃，將氣流改變?yōu)榫哂?5cc/分鐘的流速的h2/ar混合物(5：95體積％)。然后，在同時(shí)用tcd檢測(cè)器監(jiān)控系統(tǒng)輸出時(shí)，將溫度以10℃/分鐘升至1000℃。計(jì)算樣品中相對(duì)于ceo2摩爾當(dāng)量含量的h2總消耗。

表

可使用本公開(kāi)內(nèi)容的許多變型和修改?？商峁┍竟_(kāi)內(nèi)容的一些特征而不提供其它特征。

本公開(kāi)內(nèi)容在各方面、實(shí)施方案和配置中包括基本上如本文所描繪和描述的組分、方法、過(guò)程、系統(tǒng)和/或設(shè)備，包括各方面、實(shí)施方案、配置、子組合及其子集。在了解本公開(kāi)內(nèi)容之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解如何制造和使用各方面、方面、實(shí)施方案和配置。本公開(kāi)內(nèi)容在各個(gè)方面、實(shí)施方案和配置中包括在不存在本文中或在其各方面、實(shí)施方案和配置中未描繪和/或描述的項(xiàng)目的情況下提供設(shè)備和方法，包括在不存在如可已在先前的設(shè)備或過(guò)程中使用的這樣的項(xiàng)目的情況下，例如用于改善性能、實(shí)現(xiàn)容易些和/或降低實(shí)施成本。

為了說(shuō)明和描述的目的已經(jīng)呈現(xiàn)了對(duì)本公開(kāi)內(nèi)容的上述討論。前述內(nèi)容不意圖將本公開(kāi)內(nèi)容限于本文所公開(kāi)的形式。例如在前面的具體實(shí)施方式中，為了簡(jiǎn)化本公開(kāi)內(nèi)容的目的，本發(fā)明內(nèi)容的各特征被一起集合于一個(gè)或多個(gè)方面、實(shí)施方案和配置中。本公開(kāi)內(nèi)容的方面、實(shí)施方案和配置的特征可在除上述討論的那些之外的替代方面、實(shí)施方案和配置中組合。公開(kāi)內(nèi)容的該方法不被解釋為反映以下意圖：所要求保護(hù)的公開(kāi)內(nèi)容需要比在各權(quán)利要求中明確敘述的更多特征。相反，如所述權(quán)利要求所反映的，本發(fā)明的方面在于單一前述公開(kāi)的方面、實(shí)施方案和配置的所有特征。因此，所附權(quán)利要求被并入具體實(shí)施方式中，其中各權(quán)利要求獨(dú)立地作為本公開(kāi)內(nèi)容的單獨(dú)的優(yōu)選實(shí)施方案。

此外，盡管對(duì)本公開(kāi)的描述包括對(duì)一個(gè)或多個(gè)方面、實(shí)施方案或配置以及一些變型和修改的描述，但是在理解本公開(kāi)內(nèi)容之后，其它變型、組合和修改在本公開(kāi)內(nèi)容的范圍內(nèi)，例如可在本領(lǐng)域技術(shù)人員的那些技術(shù)和知識(shí)之內(nèi)。意圖獲得以下權(quán)利：其包括在容許范圍內(nèi)的替代方面、實(shí)施方案和配置，包括所要求保護(hù)的那些的替代的、可互換的和/或等同的結(jié)構(gòu)、功能、范圍或步驟，無(wú)論這樣的替代的、可互換的和/或等同的結(jié)構(gòu)、功能、范圍或步驟在本文中是否公開(kāi)，并且不意圖向公眾奉獻(xiàn)任何可獲得專利的主題。