技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種具有凹圖案的構(gòu)造體的制造方法、樹脂組合物、導(dǎo)電膜的形成方法、電子電路及電子器件，所述構(gòu)造體的制造方法包括下述步驟(i)及(ii)，所述構(gòu)造體具有相對于下述步驟(i)中獲得的涂膜的膜厚而薄5％以上且小于90％的膜厚的凹圖案。(i)使用包含具有酸解離性基的聚合體及酸產(chǎn)生劑的樹脂組合物，在構(gòu)造體的非平坦面上形成涂膜的步驟；以及(ii)通過對所述涂膜的一部分的既定部分進(jìn)行放射線照射而形成凹部的步驟。

技術(shù)研發(fā)人員：浜口仁;田中健朗;大喜多健三;栗山敬祐
受保護(hù)的技術(shù)使用者：JSR株式會社
技術(shù)研發(fā)日：2015.09.08
技術(shù)公布日：2017.08.18