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變壓吸附裝置制造方法

文檔序號(hào):4923031閱讀:103來源:國知局
變壓吸附裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種變壓吸附裝置,包括:外殼,外殼的內(nèi)表面為弧面,外殼設(shè)置有至少一個(gè)進(jìn)氣口、至少一個(gè)排氣口、至少一個(gè)出氣口;轉(zhuǎn)子,轉(zhuǎn)子設(shè)置在外殼內(nèi),轉(zhuǎn)子上設(shè)置有至少兩個(gè)與上述外殼內(nèi)表面始終保持滑動(dòng)接觸的接觸端,轉(zhuǎn)子外表面與外殼內(nèi)表面在相鄰接觸端之間形成單獨(dú)腔體即氣腔,各氣腔由上述接觸端進(jìn)行分隔;吸附室,吸附室設(shè)置在轉(zhuǎn)子內(nèi)部,為轉(zhuǎn)子的一部分,與轉(zhuǎn)子一起旋轉(zhuǎn),上述吸附室內(nèi)部裝填分子篩,吸附室設(shè)置篩孔同氣腔連通。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:結(jié)構(gòu)簡單緊湊,不需要復(fù)雜的氣體管路,同步控制簡單,省去傳統(tǒng)裝置中相應(yīng)的電磁閥及其復(fù)雜的控制電路。
【專利說明】變壓吸附裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種變壓吸附裝置,主要應(yīng)用于氣體介質(zhì)分離的【技術(shù)領(lǐng)域】之中。
【背景技術(shù)】
[0002]變壓吸附法(簡稱PSA)作為一種氣體分離技術(shù)問世后,就受到各國工業(yè)界的關(guān)注,競相開發(fā)和研究,發(fā)展迅速。其工作原理是:利用吸附劑分子篩對(duì)不同氣體分子“吸附”性能的差異而將氣體混合物分開,吸附平衡后根據(jù)分子篩在不同壓力下對(duì)吸附氣體吸附量不同的特性,降低壓力使分子篩解除對(duì)吸附氣體的吸附,這一過程稱為再生。目前,變壓吸附裝置通常使用兩塔或多塔并聯(lián),這樣可以交替進(jìn)行加壓吸附和解壓再生,從而獲得連續(xù)的產(chǎn)品氣。
[0003]目前,市場上大多數(shù)的變壓吸附裝置,如圖3所示,主要都是通過傳統(tǒng)的壓縮機(jī)I’對(duì)氣體進(jìn)行壓縮后經(jīng)過管道2’進(jìn)入到吸附塔(罐)3’中利用分子篩進(jìn)行氣體的分離。管道2’上設(shè)置有閥門4’。
[0004]這種裝置存在以下幾點(diǎn)缺陷:分離式設(shè)計(jì)、零部件多、體積大、結(jié)構(gòu)松散、管耗閥損大、單位功率出氣率低,需要復(fù)雜的控制電路,同步控制困難,可靠性差,成本高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種結(jié)構(gòu)簡單緊湊,不需要復(fù)雜的氣體管路,同步控制簡單,省去傳統(tǒng)裝置中相應(yīng)的電磁閥及其復(fù)雜的控制電路的變壓吸附裝置。
[0006]本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的:一種變壓吸附裝置,包括:
[0007]外殼,所述外殼的內(nèi)表面為弧面,所述外殼設(shè)置有至少一個(gè)進(jìn)氣口、至少一個(gè)排氣口、至少一個(gè)用于排出被分離氣體的出氣口 ;
[0008]轉(zhuǎn)子,所述轉(zhuǎn)子設(shè)置在所述外殼內(nèi),所述轉(zhuǎn)子設(shè)置有至少兩個(gè)與所述外殼內(nèi)表面始終保持滑動(dòng)接觸的接觸端,所述轉(zhuǎn)子外表面與所述外殼內(nèi)表面在相鄰接觸端之間形成單獨(dú)腔體即氣腔,各氣腔由所述接觸端進(jìn)行分隔;
[0009]吸附室,所述吸附室設(shè)置在所述轉(zhuǎn)子內(nèi)部,為轉(zhuǎn)子的一部分,與轉(zhuǎn)子一起旋轉(zhuǎn),所述吸附室內(nèi)部裝填分子篩,且所述吸附室對(duì)應(yīng)各氣腔設(shè)置篩孔同氣腔連通。
[0010]進(jìn)一步具體的,所述單獨(dú)腔體在每一個(gè)工作循環(huán)隨所述轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)依次經(jīng)過進(jìn)氣口、出氣口、排氣口。
[0011]進(jìn)一步的,所述轉(zhuǎn)子的中心與所述外殼中心不重合,所述轉(zhuǎn)子在旋轉(zhuǎn)過程中其中心繞外殼的中心轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0012]作為優(yōu)化的方案,所述變壓吸附裝置還包括位于外殼中心處的由電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)的具有外齒輪的中心軸,所述轉(zhuǎn)子中心處設(shè)置有內(nèi)齒輪,所述中心軸的外齒輪與所述轉(zhuǎn)子的內(nèi)齒輪相互嚙合,所述外齒輪的齒數(shù)小于所述內(nèi)齒輪的齒數(shù)。
[0013]作為進(jìn)一步優(yōu)化的方案,所述出氣口處設(shè)置有泄壓閥。
[0014]作為第一種優(yōu)化的實(shí)施方式,所述轉(zhuǎn)子順時(shí)針設(shè)置有三個(gè)與外殼內(nèi)表面始終保持滑動(dòng)接觸的接觸端:第一接觸端、第二接觸端、第三接觸端,所述轉(zhuǎn)子外表面與所述外殼內(nèi)表面之間形成三個(gè)氣腔,所述轉(zhuǎn)子的內(nèi)部對(duì)應(yīng)三個(gè)氣腔分別設(shè)置有吸附室:第一吸附室、第二吸附室、第三吸附室,其中第一吸附室位于第一接觸端和第二接觸端之間,第二吸附室位于第二接觸端和第三接觸端之間,第三吸附室位于第三接觸端和第一接觸端之間,所述外殼設(shè)置有I個(gè)出氣口,I個(gè)進(jìn)氣口和I個(gè)排氣口,初始位置時(shí),轉(zhuǎn)子的第一接觸端位于進(jìn)氣口的順時(shí)針側(cè)處,第三接觸端位于排氣口的逆時(shí)針側(cè)處,進(jìn)氣口和排氣口位于初始位置的第一接觸端和第三接觸端之間,且進(jìn)氣口位于排氣口順時(shí)針位置,出氣口正對(duì)第二接觸端。
[0015]上述實(shí)施方式中,所述外殼的內(nèi)表面的弧形軌跡由下列方程得到:
[0016]x=R*cos a+e*cos3 α ;
[0017]y=R*sin α+e*sin3 α ;
[0018]轉(zhuǎn)子的輪廓線由下列方程得到:
[0019]v=30+t*60
[0020]d=_3*e*sin(3*v)/R
[0021]u=2*v_asin (d)
[0022]x=2*e*cos(u)*cos(3*v)+R*cos(2*v)
[0023]y=2*e*sin(u)*cos(3*v)+R*sin(2*v)
[0024]上述公式中,R為創(chuàng)成半徑,e為轉(zhuǎn)子的中心與外殼中心的距離,a e [0°,360。],t為時(shí)間。
[0025]作為第二種優(yōu)化的實(shí)施方式,所述轉(zhuǎn)子順時(shí)針設(shè)置有四個(gè)與外殼內(nèi)表面始終保持滑動(dòng)接觸的接觸端:第一接觸端、第二接觸端、第三接觸端、第四接觸端,所述轉(zhuǎn)子外表面與所述外殼內(nèi)表面之間形成四個(gè)氣腔,所述轉(zhuǎn)子的內(nèi)部對(duì)應(yīng)四個(gè)氣腔分別設(shè)置有吸附室:第一吸附室、第二吸附室、第三吸附室、第四吸附室,其中第一吸附室位于第一接觸端和第二接觸端之間,第二吸附室位于第二接觸端和第三接觸端之間,第三吸附室位于第三接觸端和第四接觸端之間、第四吸附室位于第四接觸端和第一接觸端之間,所述外殼設(shè)置有I個(gè)出氣口,I個(gè)進(jìn)氣口和第一排氣口、第二排氣口,初始位置時(shí),轉(zhuǎn)子的第一接觸端位于進(jìn)氣口的順時(shí)針側(cè)處,第四接觸端位于第二排氣口的逆時(shí)針側(cè)處,進(jìn)氣口和第二排氣口位于初始位置的第一接觸端和第四接觸端之間,且進(jìn)氣口位于第二排氣口順時(shí)針位置,第一排氣口位于第三接觸端和第四接觸端之間,出氣口位于第二接觸端和第三接觸端之間,緊鄰第三接觸端。
[0026]第二種優(yōu)化的實(shí)施方式中,所述外殼內(nèi)表面的弧形軌跡由下列方程得到:
[0027]x=e*cos( a )+R*cos(α/4)
[0028]Y=e*sin(α)+R*sin(α /4)
[0029]轉(zhuǎn)子的輪廓線由下列方程得到:
[0030]xr=e*cos β +e*cos ( α - β /3) +R*cos ( α /4- β /3)
[0031]yr=e*cos β +e*sin(α -β /3)+R*sin ( α /4- β /3)
η ,5 sin(a / 2) - K sin(3a /10)
[0032]/g(5/i / 8

5 cos(a/ 2) + K cos(3a /10)
[0033]上述公式中,a e [O。,360。],e為偏心距,R為創(chuàng)成半徑,K=R/e。
[0034]本發(fā)明的有益效果:[0035]本發(fā)明在結(jié)構(gòu)上與傳統(tǒng)的相比將吸附室設(shè)置于轉(zhuǎn)子的內(nèi)部,結(jié)構(gòu)更加緊湊,不再需要復(fù)雜的氣體管路,氣體管路的通斷由轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)動(dòng)的角度而決定,同步控制簡單,傳統(tǒng)裝置中相應(yīng)的電磁閥及其復(fù)雜的控制電路也可以減免,在氣體壓縮的同時(shí)也同步進(jìn)行了氣體的分離,完整實(shí)現(xiàn)了一體化的功能。整套裝置布局合理,結(jié)構(gòu)簡單緊湊,出氣率高,運(yùn)行可靠,成本低,是一種較佳的新型變壓吸附裝置。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0036]圖1-1至圖1-6為實(shí)施案例I發(fā)明變壓吸附裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0037]圖2-1至圖2-8為實(shí)施案例2發(fā)明變壓吸附裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0038]圖3是現(xiàn)有的變壓吸附裝置結(jié)構(gòu)原理示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0039]下面根據(jù)附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0040]實(shí)施案例1:
[0041]圖1-1至圖1-6為本發(fā)明變壓吸附裝置的結(jié)構(gòu)示意圖,參照?qǐng)D1-1,變壓吸附裝置,包括:外殼1、轉(zhuǎn)子2、吸附室32、吸附室34、吸附室36,其中,外殼I的內(nèi)表面10為弧面,其弧形軌跡由下列方程得到:
[0042]x=R*cos a +e*cos3 α ;
[0043]y=R*sin α+e*sin3 α ;
[0044]α e [O。,360° ]e=l.5R=10
[0045]外殼設(shè)置有進(jìn)氣口 12、排氣口 14以及出氣口 16,出氣口 16用于排出被分離氣體。轉(zhuǎn)子2的輪廓線由下列方程得到:
[0046]e=l.5R=10
[0047]v=30+t*60
[0048]d=_3*e*sin(3*v)/R
[0049]u=2*v_asin(d)
[0050]x=2*e*cos (u)*cos (3*v)+R*cos(2*v)
[0051 ] y=2*e*sin(u)*cos(3*v)+R*sin(2*v)
[0052]轉(zhuǎn)子2設(shè)置在外殼I內(nèi)并可旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)子2設(shè)置有三個(gè)與外殼內(nèi)表面10始終保持滑動(dòng)接觸的接觸端,轉(zhuǎn)子2與外殼內(nèi)表面10在相鄰接觸端之間形成單獨(dú)腔體即氣腔,氣腔隨轉(zhuǎn)子2旋轉(zhuǎn)依次經(jīng)過進(jìn)氣口 12、出氣口 16、排氣口 14。
[0053]吸附室32、吸附室34、吸附室36設(shè)置在轉(zhuǎn)子2內(nèi)部,成為轉(zhuǎn)子一部分,并可與轉(zhuǎn)子一起旋轉(zhuǎn),每個(gè)吸附室設(shè)置篩孔同氣腔連通,每個(gè)吸附室內(nèi)部分別裝填有分子篩。
[0054]具體地,在本實(shí)施案例中,外殼I設(shè)置有I個(gè)出氣口 16,I個(gè)進(jìn)氣口 12和I個(gè)排氣口 14,進(jìn)氣口 12及排氣口 14設(shè)置在外殼I的左側(cè),出氣口 16設(shè)置在外殼I的右側(cè)。出氣口 16處設(shè)置有泄壓閥160。
[0055]轉(zhuǎn)子2設(shè)置有3個(gè)接觸端,分別記為接觸端21、接觸端23、接觸端25,通過3個(gè)接觸端分隔有3個(gè)吸附室,分別記為吸附室32、吸附室34和吸附室36。
[0056]在本實(shí)施案例中,轉(zhuǎn)子2的中心與外殼I中心不重合,轉(zhuǎn)子2在旋轉(zhuǎn)過程中其中心繞外殼I的中心轉(zhuǎn)動(dòng)。更具體地,外殼I中心處設(shè)置有外齒輪100,轉(zhuǎn)子2中心處設(shè)置有內(nèi)齒輪200,外齒輪100與內(nèi)齒輪200相互嚙合,外齒輪100的齒數(shù)小于內(nèi)齒輪200的齒數(shù)。
[0057]本發(fā)明,變壓吸附裝置,其工作過程為:
[0058]參照?qǐng)D1-1,圖1-1為初始階段,轉(zhuǎn)子2的接觸端21位于進(jìn)氣口 12的順時(shí)針側(cè)處,接觸端25位于排氣口 14的逆時(shí)針側(cè)處,即吸附室36、接觸端21、接觸端25與外殼內(nèi)表面10所構(gòu)成的氣腔A處于新階段的進(jìn)氣過程與上一階段的排氣過程中,內(nèi)齒輪200和外齒輪100旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)轉(zhuǎn)子2順時(shí)針旋轉(zhuǎn),隨著接觸端25順時(shí)針移動(dòng)越過排氣口 14后,氣腔A開始全部進(jìn)入進(jìn)氣狀態(tài)。在此過程中,氣腔A的容積逐漸增大。
[0059]參照?qǐng)D1-2,圖1-2為氣腔A容積最大階段,隨著轉(zhuǎn)子2的順時(shí)針旋轉(zhuǎn),此時(shí)氣腔A的容積達(dá)到最大,接觸端25越過進(jìn)氣口 12,接觸端21滑動(dòng)至右側(cè),氣腔A完全封閉,已完成進(jìn)氣過程。隨著轉(zhuǎn)子2繼續(xù)順時(shí)針旋轉(zhuǎn),氣腔A的容積將逐漸減小。
[0060]參照?qǐng)D1-3,圖1-3為壓縮過程并準(zhǔn)備出氣階段,接觸端21滑動(dòng)至出氣口 16,隨著轉(zhuǎn)子2的繼續(xù)順時(shí)針旋轉(zhuǎn),氣腔A的容積進(jìn)一步減小,氣腔A繼續(xù)壓縮容積,氣腔A內(nèi)的氣體壓力逐漸增大,當(dāng)壓力高于分子篩的吸附壓力后,分子篩開始吸附對(duì)應(yīng)氣體。經(jīng)過一段時(shí)間后當(dāng)對(duì)應(yīng)氣體全部吸附完成且氣腔A內(nèi)氣體壓力高于泄壓閥160的閾值時(shí),泄壓閥160打開,氣腔A內(nèi)未被吸附室36吸附的氣體開始通過出氣口 16輸出。
[0061]參照?qǐng)D1-4,圖1-4為氣腔A容積最小階段,隨著轉(zhuǎn)子2的繼續(xù)順時(shí)針旋轉(zhuǎn),氣腔A的容積逐漸減小,此階段氣腔A的容積達(dá)到最小,保持持續(xù)由出氣口 16出氣。
[0062]參照?qǐng)D1-5,圖1-5為準(zhǔn)備排氣階段,隨著轉(zhuǎn)子2的繼續(xù)順時(shí)針旋轉(zhuǎn),接觸端25慢慢靠近出氣口 16,氣腔A的體積逐漸增大,氣腔A內(nèi)氣體壓力逐漸降低,當(dāng)氣腔A內(nèi)氣體壓力低于泄壓閥160的閾值時(shí),泄壓閥160開始閉合。隨著轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)動(dòng),氣腔A內(nèi)氣體壓力繼續(xù)降低,當(dāng)氣腔A內(nèi)氣體壓力低于分子篩解吸附壓力后分子篩開始解吸附氣體。此時(shí),吸附室36內(nèi)已吸附的氣體開始進(jìn)入氣腔A,接觸端21滑動(dòng)至排氣口 14的逆時(shí)針側(cè)處,氣腔A進(jìn)入準(zhǔn)備排氣的階段。
[0063]參照?qǐng)D1-6,圖1-6為排氣階段,接觸端21越過排氣口 14,接觸端25滑過出氣口16,氣腔A充滿了由吸附室36解吸附出的氣體,氣腔A全部進(jìn)入排氣階段。
[0064]繼續(xù)參照?qǐng)D1-1,此時(shí)完成了一個(gè)氣腔及相應(yīng)吸附室的工作循環(huán)過程。
[0065]實(shí)施案例2:
[0066]圖2-1至圖2-8為本發(fā)明變壓吸附裝置的結(jié)構(gòu)示意圖,參照?qǐng)D2-1,變壓吸附裝置,包括:外殼10、轉(zhuǎn)子20、吸附室320、吸附室340、吸附室360、吸附室380,其中,外殼10的內(nèi)表面100為弧面,其弧形軌跡由下列方程得到:
[0067]x=e*cos( a )+R*cos(α/4)
[0068]Y=e*sin(α)+R*sin(α /4)
[0069]α e [O。,360。],e 為偏心距,e=12,R 為創(chuàng)成半徑,R=96。
[0070]外殼設(shè)置有進(jìn)氣口 120、第二排氣口 140與第一排氣口 160以及出氣口 180,出氣口 180用于排出被分離氣體;轉(zhuǎn)子20的輪廓線由下列方程得到:
[0071 ] xr=e*cos β +e*cos(α -β /3)+R*cos(α /4- β /3)
[0072] yr=e*cos β +e*sin(α -β /3)+R*sin(α /4- β /3)[0073]
【權(quán)利要求】
1.一種變壓吸附裝置,其特征在于,包括: 外殼,所述外殼的內(nèi)表面為弧面,所述外殼設(shè)置有至少一個(gè)進(jìn)氣口、至少一個(gè)排氣口、至少一個(gè)用于排出被分離氣體的出氣口; 轉(zhuǎn)子,所述轉(zhuǎn)子設(shè)置在所述外殼內(nèi),所述轉(zhuǎn)子設(shè)置有至少兩個(gè)與所述外殼內(nèi)表面始終保持滑動(dòng)接觸的接觸端,所述轉(zhuǎn)子外表面與所述外殼內(nèi)表面在相鄰接觸端之間形成單獨(dú)腔體即氣腔,各氣腔由所述接觸端進(jìn)行分隔; 吸附室,所述吸附室設(shè)置在所述轉(zhuǎn)子內(nèi)部,為轉(zhuǎn)子的一部分,與轉(zhuǎn)子一起旋轉(zhuǎn),所述吸附室內(nèi)部裝填分子篩,且所述吸附室對(duì)應(yīng)各氣腔設(shè)置篩孔同氣腔連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的變壓吸附裝置,其特征在于,所述單獨(dú)腔體在每一個(gè)工作循環(huán)隨所述轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)依次經(jīng)過進(jìn)氣口、出氣口、排氣口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的變壓吸附裝置,其特征在于,所述轉(zhuǎn)子的中心與所述外殼中心不重合,所述轉(zhuǎn)子在旋轉(zhuǎn)過程中其中心繞外殼的中心轉(zhuǎn)動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的變壓吸附裝置,其特征在于,所述變壓吸附裝置還包括位于外殼中心處的由電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)的具有外齒輪的中心軸,所述轉(zhuǎn)子中心處設(shè)置有內(nèi)齒輪,所述中心軸的外齒輪與所述轉(zhuǎn)子的內(nèi)齒輪相互嚙合,所述外齒輪的齒數(shù)小于所述內(nèi)齒輪的齒數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的變壓吸附裝置,其特征在于,所述出氣口處設(shè)置有泄壓閥。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的變壓吸附裝置,其特征在于:所述轉(zhuǎn)子順時(shí)針設(shè)置有三個(gè)與外殼內(nèi)表面始終保持滑動(dòng)接觸的接觸端:第一接觸端、第二接觸端、第三接觸端,所述轉(zhuǎn)子外表面與所述外殼內(nèi)表面之間形成三個(gè)氣腔,所述轉(zhuǎn)子的內(nèi)部對(duì)應(yīng)三個(gè)氣腔分別設(shè)置有吸附室:第一吸附室、第二吸附室、第三吸附室,其中第一吸附室位于第一接觸端和第二接觸端之間,第二吸附室位于第二接觸端和第三接觸端之間,第三吸附室位于第三接觸端和第一接觸端之間,所述外殼設(shè)置有I個(gè)出氣口,I個(gè)進(jìn)氣口和I個(gè)排氣口,初始位置時(shí),轉(zhuǎn)子的第一接觸端位于進(jìn)氣口的順時(shí)針側(cè)處,第三接觸端位于排氣口的逆時(shí)針側(cè)處,進(jìn)氣口和排氣口位于初始位置的第一接觸端和第三接觸端之間,且進(jìn)氣口位于排氣口順時(shí)針位置,出氣口正對(duì)第二接觸端。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的變壓吸附裝置,其特征在于:所述外殼的內(nèi)表面的弧形軌跡由下列方程得到:
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的變壓吸附裝置,其特征在于:所述轉(zhuǎn)子順時(shí)針設(shè)置有四個(gè)與外殼內(nèi)表面始終保持滑動(dòng)接觸的接觸端:第一接觸端、第二接觸端、第三接觸端、第四接觸端,所述轉(zhuǎn)子外表面與所述外殼內(nèi)表面之間形成四個(gè)氣腔,所述轉(zhuǎn)子的內(nèi)部對(duì)應(yīng)四個(gè)氣腔分別設(shè)置有吸附室:第一吸附室、第二吸附室、第三吸附室、第四吸附室,其中第一吸附室位于第一接觸端和第二接觸端之間,第二吸附室位于第二接觸端和第三接觸端之間,第三吸附室位于第三接觸端和第四接觸端之間、第四吸附室位于第四接觸端和第一接觸端之間,所述外殼設(shè)置有I個(gè)出氣口,I個(gè)進(jìn)氣口和第一排氣口、第二排氣口,初始位置時(shí),轉(zhuǎn)子的第一接觸端位于進(jìn)氣口的順時(shí)針側(cè)處,第四接觸端位于第二排氣口的逆時(shí)針側(cè)處,進(jìn)氣口和第二排氣口位于初始位置的第一接觸端和第四接觸端之間,且進(jìn)氣口位于第二排氣口順時(shí)針位置,第一排氣口位于第三接觸端和第四接觸端之間,出氣口位于第二接觸端和第三接觸端之間,緊鄰第三接觸端。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的變壓吸附裝置,其特征在于:所述外殼內(nèi)表面的弧形軌跡由下列方程得到:
X=Gcos( a )+Rcos(α /4)
Y=e*sin(α)+R*sin(α /4) 轉(zhuǎn)子的輪廓線由下列方程得到:

【文檔編號(hào)】B01D53/047GK103432863SQ201310413453
【公開日】2013年12月11日 申請(qǐng)日期:2013年9月10日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月10日
【發(fā)明者】周小山, 孫明, 雷激 申請(qǐng)人:周小山, 孫明, 雷激
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