專(zhuān)利名稱(chēng)：耐高溫高壓萃取池的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種萃取池，尤其涉及一種耐高溫高壓萃取池。
背景技術(shù)：
專(zhuān)利號(hào)為U. S. Pat. No. 5647976的美國(guó)專(zhuān)利公開(kāi)了一種耐高溫高壓萃取池，該萃取池主 要由萃取池體、密封件和端帽組成，萃取池體的兩端具有與密封件相密封的凸臺(tái)，端帽上也 具有與密封件相密封的凸臺(tái)，該結(jié)構(gòu)的缺陷是萃取池體上的凸臺(tái)和端帽上的凸臺(tái)與密封件之 間的密封不是很可靠，此外，由于裝卸或清洗萃取池時(shí)容易損壞凸臺(tái)，凸臺(tái)被損壞后就不能 與密封件達(dá)到密封效果，從而導(dǎo)致萃取液泄漏，萃取池不可用。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、密封可靠性高的耐高溫高壓萃取池。 為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案
一種耐高溫高壓萃取池，包括壓帽、密封墊、萃取池體、定位密封環(huán)，萃取池體內(nèi)設(shè)有 流體通道，定位密封環(huán)內(nèi)設(shè)有流體通道，所述定位密封環(huán)的下端面沿圓周設(shè)有密封環(huán)凸臺(tái)， 所述萃取池體的上、下端面沿圓周分別設(shè)有池體凸臺(tái)，所述密封墊的上、下端面沿圓周分別 設(shè)有上凹槽和下凹槽，所述密封環(huán)凸臺(tái)與上凹槽接觸密封，所述池體凸臺(tái)與下凹槽接觸密封; 在密封墊和定位密封環(huán)的外圓周設(shè)有固定圈；壓帽上部與定位密封環(huán)相固定，下部與萃取池
體相連。
本發(fā)明耐高溫高壓萃取池，其中所述萃取池體的上、下端面在池體凸臺(tái)的外部沿圓周分 別設(shè)有池體導(dǎo)向凸臺(tái)，在密封墊下部與固定圈下部之間設(shè)有與池體導(dǎo)向凸臺(tái)相配合的池體導(dǎo) 向槽，所述池體導(dǎo)向凸臺(tái)比池體凸臺(tái)高。
本發(fā)明耐高溫高壓萃取池，其中所述定位密封環(huán)的下端面在密封環(huán)凸臺(tái)的外部沿圓周設(shè) 有密封環(huán)導(dǎo)向凸臺(tái)，在密封墊上部與固定圈上部之間設(shè)有與密封環(huán)導(dǎo)向凸臺(tái)相配合的池體導(dǎo) 向槽，所述密封環(huán)導(dǎo)向凸臺(tái)比密封環(huán)凸臺(tái)高。
本發(fā)明耐高溫高壓萃取池，其中所述上凹槽和下凹槽的縱截面為v形，縱截面為v形的上凹槽具有第一上密封面和第二上密封面，縱截面為V形的下凹槽具有第一下密封面和第二 下密封面；所述池體凸臺(tái)的縱截面為矩形，縱截面為矩形的池體凸臺(tái)具有第一池體密封面和 第二池體密封面，第一池體密封面與第一下密封面接觸密封，第二池體密封面與第二下密封 面接觸密封;所述密封環(huán)凸臺(tái)的縱截面為矩形，縱截面為矩形的密封環(huán)凸臺(tái)具有第一密封環(huán) 密封面和第二密封環(huán)密封面，第一密封環(huán)密封面與第一上密封面接觸密封，第二密封環(huán)密封 面與第二上密封面接觸密封。
本發(fā)明耐高溫高壓萃取池，其中所述上凹槽和下凹槽的縱截面為等腰梯形，縱截面為等 腰梯形的上凹槽具有第三上密封面和第四上密封面，縱截面為等腰梯形的下凹槽具有第三下 密封面和第四下密封面；所述池體凸臺(tái)的縱截面為矩形，縱截面為矩形的池體凸臺(tái)具有第一 池體密封面和第二池體密封面，第一池體密封面與第三下密封面接觸密封，第二池體密封面 與第四下密封面接觸密封；所述密封環(huán)凸臺(tái)的縱截面為矩形，縱截面為矩形的密封環(huán)凸臺(tái)具 有第一密封環(huán)密封面和第二密封環(huán)密封面，第一密封環(huán)密封面與第三上密封面接觸密封，第 二密封環(huán)密封面與第四上密封面接觸密封。
本發(fā)明耐高溫高壓萃取池，其中所述上凹槽和下凹槽的縱截面設(shè)為V形，V形尖角處設(shè) 為矩形。
本發(fā)明耐高溫高壓萃取池，其中所述池體凸臺(tái)的縱截面設(shè)為矩形，矩形的左上角和右上 角設(shè)為圓角；所述密封環(huán)凸臺(tái)的縱截面設(shè)為矩形，矩形的左下角和右下角設(shè)為圓角。 本發(fā)明耐高溫高壓萃取池，其中所述定位密封環(huán)上設(shè)有0型密封圈。
本發(fā)明耐高溫高壓萃取池，其中所述定位密封環(huán)上設(shè)有固定螺母，固定螺母與固定圈上 部通過(guò)螺紋相連。
本發(fā)明耐高溫高壓萃取池，其中所述定位密封環(huán)上的流體通道的下部設(shè)有過(guò)濾片，過(guò)濾 片位于密封墊的頂部。
本發(fā)明耐高溫高壓萃取池結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，在密封墊的上、下端面沿圓周分別設(shè)有上凹槽和下 凹槽，定位密封環(huán)的下端面沿圓周設(shè)有密封環(huán)凸臺(tái)，萃取池體的上、下端面沿圓周分別設(shè)有 池體凸臺(tái)，密封環(huán)凸臺(tái)與上凹槽接觸密封，池體凸臺(tái)與下凹槽接觸密封，密封可靠性高。


圖1為本發(fā)明耐高溫高壓萃取池的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為圖1中A處放大圖；圖3為密封定位環(huán)的結(jié)構(gòu)示意圖4為萃取池體的結(jié)構(gòu)示意圖5為密封墊的第一種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖6為圖4中B處放大圖7為第一種實(shí)施例的密封墊與萃取池體和定位密封環(huán)連接的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖8為密封墊的第二種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖9為密封墊的第三種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式
如圖1和圖2所示， 一種耐高溫高壓萃取池，包括壓帽1、密封墊2、萃取池體3和定 位密封環(huán)4，萃取池體3內(nèi)設(shè)有流體通道31，定位密封環(huán)4內(nèi)設(shè)有流體通道41，定位密封環(huán) 4的下端面沿圓周設(shè)有密封環(huán)凸臺(tái)5，萃取池體3的上、下端面沿圓周分別設(shè)有池體凸臺(tái)6， 密封墊2的上、下端面沿圓周分別設(shè)有上凹槽7和下凹槽8，密封環(huán)凸臺(tái)5與上凹槽7接觸 密封，池體凸臺(tái)6與下凹槽8接觸密封。在密封墊2和定位密封環(huán)4的外圓周設(shè)有固定圈9。 定位密封環(huán)上設(shè)有固定螺母26，固定螺母26與固定圈9上部通過(guò)螺紋相連。壓帽l上部與 定位密封環(huán)4通過(guò)螺栓相固定，下部與萃取池體3通過(guò)螺紋相連。定位密封環(huán)4上設(shè)有0型 密封圈29，用于與流體管道28連接時(shí)的密封。定位密封環(huán)4內(nèi)的流體通道41的下部設(shè)有過(guò) 濾片27，過(guò)濾片27位于密封墊2的頂部，密封墊2對(duì)過(guò)濾片27起到支撐作用。
如圖3所示，本發(fā)明密封環(huán)凸臺(tái)5的縱截面可設(shè)計(jì)為矩形，縱截面為矩形的密封環(huán)凸臺(tái) 5具有第一密封環(huán)密封面20和第二密封環(huán)密封面21。也可將密封環(huán)凸臺(tái)5的縱截面設(shè)計(jì)為 矩形，并將矩形的左下角和右下角設(shè)為圓角。這種形式的密封環(huán)凸臺(tái)5不僅密封可靠性高， 而且容易加工。
如圖4和圖6所示，本發(fā)明池體凸臺(tái)6的縱截面可設(shè)計(jì)為矩形，縱截面為矩形的池體凸 臺(tái)6具有第一池體密封面18和第二池體密封面19。也可將池體凸臺(tái)6的縱截面設(shè)計(jì)為矩形， 并將矩形的左上角和右上角設(shè)為圓角。這種形式的池體凸臺(tái)6不僅密封可靠性高，而且容易 加工。
如圖5所示，在密封墊2的第一種實(shí)施例中，上凹槽7和下凹槽8的縱截面設(shè)計(jì)為V形， 縱截面為V形的上凹槽71具有第一上密封面14和第二上密封面15，縱截面為V形的下凹槽 81具有第一下密封面16和第二下密封面17。如圖7所示，第一池體密封面18與第一下密封面16接觸密封，第二池體密封面19與第二下密封面17接觸密封，形成兩條密封線，密 封性好，當(dāng)?shù)谝怀伢w密封面18或第二池體密封面19有損傷時(shí)，仍能達(dá)到密封效果。第一密 封環(huán)密封面20與第一上密封面14接觸密封，第二密封環(huán)密封面21與第二上密封面15接觸 密封，形成兩條密封線，密封性好，當(dāng)?shù)谝幻芊猸h(huán)密封面20或第二密封環(huán)密封面21有損傷 時(shí)，仍能達(dá)到密封效果。
如圖8所示，在密封墊2的第二種實(shí)施例中，上凹槽7和下凹槽8的縱截面為等腰梯形， 縱截面為等腰梯形的上凹槽72具有第三上密封面22和第四上密封面23，縱截面為等腰梯形 的下凹槽82具有第三下密封面24和第四下密封面25。如圖2所示，第一池體密封面18與 第三下密封面24接觸密封，第二池體密封面19與第四下密封面25接觸密封，形成兩條密 封線，密封性好。第一密封環(huán)密封面20與第三上密封面22接觸密封，第二密封環(huán)密封面21 與第四上密封面23接觸密封，形成兩條密封線，密封性好。
如圖9所示，在密封墊2的第三種實(shí)施例中，上凹槽7和下凹槽8的縱截面設(shè)計(jì)為V形， 并將V形尖角處設(shè)為矩形。
如圖4所示，萃取池體3的上、下端面在池體凸臺(tái)6的外部沿圓周分別設(shè)有池體導(dǎo)向凸 臺(tái)10，在密封墊2下部與固定圈9下部之間設(shè)有與池體導(dǎo)向凸臺(tái)lO相配合的池體導(dǎo)向槽ll (見(jiàn)圖2)，并將池體導(dǎo)向凸臺(tái)10設(shè)計(jì)成高于池體凸臺(tái)6。當(dāng)將萃取池體3與其他組件安裝 在一起時(shí)，將池體導(dǎo)向凸臺(tái)10對(duì)準(zhǔn)池體導(dǎo)向槽11安裝，可準(zhǔn)確地將池體凸臺(tái)6壓入下凹槽 8內(nèi)，使池體凸臺(tái)6與下凹槽8接觸密封，避免了安裝時(shí)由于找不準(zhǔn)安裝位置而對(duì)池體凸臺(tái) 6造成損傷，同時(shí)也使裝卸更加方便。此外，高于池體凸臺(tái)6的池體導(dǎo)向凸臺(tái)IO對(duì)池體凸臺(tái) 6起到保護(hù)作用，避免了裝卸或清洗萃取池時(shí)相互碰撞而損壞池體凸臺(tái)6，延長(zhǎng)了萃取池的 使用壽命。如圖3所示，定位密封環(huán)4的下端面在密封環(huán)凸臺(tái)5的外部沿圓周設(shè)有密封環(huán)導(dǎo) 向凸臺(tái)12，在密封墊2上部與固定圈9上部之間設(shè)有與密封環(huán)導(dǎo)向凸臺(tái)12相配合的密封環(huán) 導(dǎo)向槽13 (見(jiàn)圖2)，并將密封環(huán)導(dǎo)向凸臺(tái)12設(shè)計(jì)成高于密封環(huán)凸臺(tái)5。當(dāng)將定位密封環(huán)4 與密封墊2安裝在一起時(shí)，將密封環(huán)導(dǎo)向凸臺(tái)12對(duì)準(zhǔn)密封環(huán)導(dǎo)向槽13安裝，可準(zhǔn)確地將密 封環(huán)凸臺(tái)5壓入上凹槽7內(nèi)，使密封環(huán)凸臺(tái)5與上凹槽7接觸密封，避免了安裝時(shí)由于找不 準(zhǔn)安裝位置而對(duì)密封環(huán)凸臺(tái)5造成損傷，同時(shí)也使裝卸更加方便。此外，高于密封環(huán)凸臺(tái)5 的密封環(huán)導(dǎo)向凸臺(tái)12對(duì)密封環(huán)凸臺(tái)5起到保護(hù)作用，避免裝卸或清洗萃取池時(shí)相互碰撞而 損壞密封環(huán)凸臺(tái)5，延長(zhǎng)了萃取池的使用壽命。本發(fā)明耐高溫高壓萃取池的安裝過(guò)程如下先將過(guò)濾片27放在定位密封環(huán)4上的流體 通道41的下部，然后將定位密封環(huán)4與密封墊2裝在一起，再將固定螺母26固定在定位密 封環(huán)4上，將固定圈9通過(guò)螺紋與固定螺母26固定，然后將壓帽1上部通過(guò)螺栓與定位密 封環(huán)4固定，最后將萃取池體3兩端分別與兩端的壓帽1通過(guò)螺紋連接，并將定位密封環(huán)4、 密封墊2、萃取池體3壓成一體。安裝好的萃取池密封可靠性好，可承受高溫高壓。
以上所述的實(shí)施例僅僅是對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行描述，并非對(duì)本發(fā)明的范圍進(jìn)行 限定，在不脫離本發(fā)明設(shè)計(jì)精神的前提下，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作出的 各種變形和改進(jìn)，均應(yīng)落入本發(fā)明權(quán)利要求書(shū)確定的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1、一種耐高溫高壓萃取池，包括壓帽(1)、密封墊(2)、萃取池體(3)，萃取池體(3)內(nèi)設(shè)有流體通道(31)，其特征在于還包括定位密封環(huán)(4)，定位密封環(huán)(4)內(nèi)設(shè)有流體通道(41)，所述定位密封環(huán)(4)的下端面沿圓周設(shè)有密封環(huán)凸臺(tái)(5)，所述萃取池體(3)的上、下端面沿圓周分別設(shè)有池體凸臺(tái)(6)，所述密封墊(2)的上、下端面沿圓周分別設(shè)有上凹槽(7)和下凹槽(8)，所述密封環(huán)凸臺(tái)(5)與上凹槽(7)接觸密封，所述池體凸臺(tái)(6)與下凹槽(8)接觸密封；在密封墊(2)和定位密封環(huán)(4)的外圓周設(shè)有固定圈(9)；壓帽(1)上部與定位密封環(huán)(4)相固定，下部與萃取池體(3)相連。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐高溫高壓萃取池，其特征在于所述萃取池體(3)的上、下端面在池體凸臺(tái)(6)的外部沿圓周分別設(shè)有池體導(dǎo)向凸臺(tái)(10)，在密封墊(2)下部與固定圈(9)下部之間設(shè)有與池體導(dǎo)向凸臺(tái)(10)相配合的池體導(dǎo)向槽(11);所述池體導(dǎo)向凸臺(tái)(10)比池體凸臺(tái)(6)高。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的耐高溫高壓萃取池，其特征在于所述定位密封環(huán)(4)的下端面在密封環(huán)凸臺(tái)(5)的外部沿圓周設(shè)有密封環(huán)導(dǎo)向凸臺(tái)(12)，在密封墊(2)上部與固定圈(9)上部之間設(shè)有與密封環(huán)導(dǎo)向凸臺(tái)(12)相配合的密封環(huán)導(dǎo)向槽(13);所述密封環(huán)導(dǎo)向凸臺(tái)(12)比密封環(huán)凸臺(tái)(5)高。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的耐高溫高壓萃取池，其特征在于所述上凹槽(7)和下凹槽(8)的縱截面為V形，縱截面為V形的上凹槽(71)具有第一上密封面(14)和第二上密封面(15)，縱截面為V形的下凹槽(81)具有第一下密封面(16)和第二下密封面(17);所述池體凸臺(tái)(6)的縱截面為矩形，縱截面為矩形的池體凸臺(tái)(6)具有第一池體密封面(18)和第二池體密封面(19)，第一池體密封面(18)與第一下密封面(16)接觸密封，第二池體密封面(19)與第二下密封面(17)接觸密封；所述密封環(huán)凸臺(tái)(5)的縱截面為矩形，縱截面為矩形的密封環(huán)凸臺(tái)(5)具有第一密封環(huán)密封面(20)和第二密封環(huán)密封面(21)，第一密封環(huán)密封面(20)與第一上密封面(14)接觸密封，第二密封環(huán)密封面(21)與第二上密封面(15)接觸密封。
5、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的耐高溫高壓萃取池，其特征在于所述上凹槽(7)和下凹槽(8)的縱截面為等腰梯形，縱截面為等腰梯形的上凹槽(72)具有第三上密封面(22)和第四上密封面(23)，縱截面為等腰梯形的下凹槽(82)具有第三下密封面(24)和第四下 密封面(25);所述池體凸臺(tái)(6)的縱截面為矩形，縱截面為矩形的池體凸臺(tái)(6)具有第 一池體密封面(18)和第二池體密封面(19)，第一池體密封面(18)與第三下密封面(24) 接觸密封，第二池體密封面(19)與第四下密封面(25)接觸密封；所述密封環(huán)凸臺(tái)(5) 的縱截面為矩形，縱截面為矩形的密封環(huán)凸臺(tái)(5)具有第一密封環(huán)密封面(20)和第二密 封環(huán)密封面(21)，第一密封環(huán)密封面(20)與第三上密封面(22)接觸密封，第二密封環(huán) 密封面(21)與第四上密封面(23)接觸密封。
6、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的耐高溫高壓萃取池，其特征在于所述上凹槽(7)和下凹槽 (8)的縱截面設(shè)為V形，V形尖角處設(shè)為矩形。
7、 根據(jù)權(quán)利要求3或6所述的耐高溫高壓萃取池，其特征在于所述池體凸臺(tái)(6)的 縱截面設(shè)為矩形，矩形的左上角和右上角設(shè)為圓角；所述密封環(huán)凸臺(tái)(5)的縱截面設(shè)為矩 形，矩形的左下角和右下角設(shè)為圓角。
8、 根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的耐高溫高壓萃取池，其特征在于所述定位密封環(huán)(4) 上設(shè)有0型密封圈(29)。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的耐高溫高壓萃取池，其特征在于所述定位密封環(huán)(4)上設(shè) 有固定螺母(26)，固定螺母(26)與固定圈(9)上部通過(guò)螺紋相連。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的耐高溫高壓萃取池，其特征在于所述定位密封環(huán)(4)上 的流體通道(41)的下部設(shè)有過(guò)濾片(27)，過(guò)濾片(27)位于密封墊(2)的頂部。
全文摘要
一種耐高溫高壓萃取池，包括壓帽、密封墊、萃取池體、定位密封環(huán)，萃取池體內(nèi)設(shè)有流體通道，定位密封環(huán)內(nèi)設(shè)有流體通道，所述定位密封環(huán)的下端面沿圓周設(shè)有密封環(huán)凸臺(tái)，所述萃取池體的上、下端面沿圓周分別設(shè)有池體凸臺(tái)，所述密封墊的上、下端面沿圓周分別設(shè)有上凹槽和下凹槽，所述密封環(huán)凸臺(tái)與上凹槽接觸密封，所述池體凸臺(tái)與下凹槽接觸密封；在密封墊和定位密封環(huán)的外圓周設(shè)有固定圈；壓帽上部與定位密封環(huán)相固定，下部與萃取池體相連。本發(fā)明耐高溫高壓萃取池結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、密封可靠性高。
文檔編號(hào)B01D11/00GK101468261SQ20081011951
公開(kāi)日2009年7月1日 申請(qǐng)日期2008年9月2日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月2日
發(fā)明者史俊穩(wěn), 葉建平, 裴曉華, 顧愛(ài)平 申請(qǐng)人:北京吉天儀器有限公司