專利名稱:高效動(dòng)態(tài)納米光電互催化裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種動(dòng)態(tài)的納米TiO2光電互催化高效應(yīng)用裝置,所屬技術(shù)領(lǐng)域?yàn)闄C(jī)電設(shè)備。
背景技術(shù):
目前納米TiO2光催化技術(shù)的研究應(yīng)用,已越來越得到人們的重視。但其應(yīng)用還局限在某種材料表面(平面、曲面)涂覆納米TiO2的光催化技術(shù),這種應(yīng)用方法存在兩個(gè)難題一是由于受實(shí)際應(yīng)用制作面積大小的影響,這種靜態(tài)的涂覆面積是有一定局限性的;二是納米TiO2光催化下生成的空穴電子對(duì)極易復(fù)合。因而影響了納米TiO2光催化技術(shù)的應(yīng)用效果。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決目前納米TiO2光催化技術(shù)應(yīng)用中存在的難題,本實(shí)用新型提供了一種動(dòng)態(tài)的納米TiO2光電互催化裝置,很好的解決了背景技術(shù)中提到的納米TiO2光催化技術(shù)實(shí)際應(yīng)用中存在的兩個(gè)難題。其發(fā)明內(nèi)容是把靜態(tài)的涂覆了納米TiO2的物體變成動(dòng)態(tài)的高速旋轉(zhuǎn)物體,因此當(dāng)物體旋轉(zhuǎn)時(shí),催化光源照射到物體表面涂覆的納米TiO2,每個(gè)靜態(tài)的光照催化點(diǎn),都變成了動(dòng)態(tài)的光照催化點(diǎn),相對(duì)于每次的靜態(tài)的光照催化點(diǎn)來說,物體每分鐘旋轉(zhuǎn)1000轉(zhuǎn),動(dòng)態(tài)的光照催化點(diǎn)就催化了1000次,因而其催化效能也就相對(duì)提高了1000倍。
同時(shí)在高速旋轉(zhuǎn)物體離心力的作用下,在很大程度上阻止了納米TiO2光催化技術(shù)在應(yīng)用中必然出現(xiàn)的空穴電子對(duì)極易發(fā)生的復(fù)合問題。
本實(shí)用新型還增加了高壓低溫等離子體產(chǎn)生裝置,其所產(chǎn)生的低溫等離子體與光電源的同時(shí)催化作用,加速了納米TiO2空穴電子對(duì)的生成,加大了活性氧的生成量,增大了殺滅細(xì)菌、病毒的能力,極大的提高了納米TiO2光電催化技術(shù)的應(yīng)用效果。
本實(shí)用新型技術(shù)方案小于388nm波長的紫外線照射光源,安裝在可旋轉(zhuǎn)物體的中心線位置上;在可以與電機(jī)聯(lián)結(jié)的可旋轉(zhuǎn)物體的光照面上,涂覆納米TiO2;在可旋轉(zhuǎn)物體的一端位置上,安裝高壓低溫等離子體產(chǎn)生裝置。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明,附
圖1畫出的是本實(shí)用新型的平面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中1.涂覆了納米TiO2的可旋轉(zhuǎn)物體,2.電機(jī),3.紫外線照射光源,4.高壓低溫等離子體產(chǎn)生裝置。
具體實(shí)施方式
在
圖1中,這種高效動(dòng)態(tài)納米光電互催化裝置,由可以呈現(xiàn)為動(dòng)態(tài)的涂覆了納米TiO2的可旋轉(zhuǎn)物體(1)與電機(jī)(2)聯(lián)接,為電機(jī)(2)拖動(dòng),紫外線照射光源(3)安裝于涂覆了納米TiO2的可旋轉(zhuǎn)物體(1)一端的支撐軸中心線位置上,高壓低溫等離子體產(chǎn)生裝置(4)安裝于涂覆了納米TiO2的可旋轉(zhuǎn)物體(1)一端的內(nèi)壁上。其基本原理是電機(jī)(2)拖動(dòng)涂覆了納米TiO2的可旋轉(zhuǎn)物體(1)高速旋轉(zhuǎn),紫外線照射光源(3)和高壓低溫等離子體產(chǎn)生裝置(4)作用于涂覆了納米TiO2的可旋轉(zhuǎn)物體(1)的納米TiO2涂覆面上,產(chǎn)生大量的活性氧。
權(quán)利要求一種高效動(dòng)態(tài)納米光電互催化裝置,包括涂覆了納米TiO2的可旋轉(zhuǎn)物體(1),拖動(dòng)涂覆了納米TiO2的可旋轉(zhuǎn)物體(1)旋轉(zhuǎn)的電機(jī)(2),小于388nm波長的紫外線照射光源(3)和高壓低溫等離子體產(chǎn)生裝置(4),其特征是涂覆了納米TiO2的可旋轉(zhuǎn)物體(1)和電機(jī)(2)聯(lián)接,紫外線照射光源(3)安裝于涂覆了納米TiO2的可旋轉(zhuǎn)物體(1)一端的支撐軸中心線位置上,高壓低溫等離子體產(chǎn)生裝置(4)安裝于涂覆了納米TiO2的可旋轉(zhuǎn)物體(1)一端的內(nèi)壁上。
專利摘要本實(shí)用新型是一種動(dòng)態(tài)的納米TiO
文檔編號(hào)B01J19/28GK2794625SQ20042009160
公開日2006年7月12日 申請(qǐng)日期2004年9月17日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月17日
發(fā)明者吳艾蓮, 李勛田, 徐凱地 申請(qǐng)人:吳艾蓮, 李勛田, 徐凱地