專利名稱：一種處理顆粒材料的裝置的底板元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種處理顆粒材料的裝置的底板元件，具有二維的底板，其中設(shè)有許多孔隙，經(jīng)所述的孔隙，處理介質(zhì)可以穿過底板，還具有向流經(jīng)底板的處理介質(zhì)沿所述底板平面的方向施以運(yùn)動(dòng)分量的裝置。
該專利文件中描述的裝置用于干燥、?；蛘咄扛差w粒材料。
在此情況下，例如，稱之為工藝氣體的氣體介質(zhì)，經(jīng)底板引入大體上水平地沿圓周方向經(jīng)底板上的許多孔隙進(jìn)入處理室。
在此裝置中，底板包括一擋板環(huán)，這擋板環(huán)徑向地延伸并且周向地與另一環(huán)相互重疊。經(jīng)在重疊的擋板之間的重疊區(qū)域中形成的孔隙，處理介質(zhì)通過底板，然后進(jìn)入處理室內(nèi)?；ハ嘀丿B的擋板裝配得大體上是水平的或者稍有傾斜，結(jié)果，向在重疊的板之間流動(dòng)的處理介質(zhì)上沿底板的平面方向上施加運(yùn)動(dòng)分量。根據(jù)這些擋板的排列，工藝氣體或多或少水平地并且是沿周邊方向進(jìn)入處理室。由于工藝氣體分量受初始的水平導(dǎo)向，待處理的顆粒在一種工藝氣體氣墊上以旋轉(zhuǎn)的材料帶的形式流入?？梢栽诘装迳?，如擋板之間，安排噴嘴，以在待處理的顆粒材料上噴灑液體的處理介質(zhì)。
這種由重疊的擋板構(gòu)成的底板元件的缺點(diǎn)是制造成本高。首先，必須制造大體上為梯形的各個(gè)單獨(dú)的板，然后再把它們重疊地組裝成一個(gè)環(huán)。
從而，用作處理介質(zhì)通道的孔隙數(shù)由板的數(shù)量決定。如果底板元件直徑大，出現(xiàn)梯形板在徑向上靠外的區(qū)域沿周邊方向非常寬的問題。因?yàn)閺陌彘g孔隙流出的處理氣體或者說工藝氣體會(huì)使在處理室中的受處理材料顆粒加速，在處于非常徑向靠外的位置上運(yùn)動(dòng)的材料顆粒只有在移行相對(duì)長(zhǎng)的距離之后才能再被移動(dòng)到工藝氣體從其流出的孔隙處的前面。而另一方面，在處于較徑向靠?jī)?nèi)的周邊位置上運(yùn)動(dòng)的材料顆粒卻在移行相當(dāng)短的距離之后就被移動(dòng)到工藝氣體從其流出的孔隙處。因此必須采取措施對(duì)此加以補(bǔ)償。用這樣的方式進(jìn)行，例如，通過把兩個(gè)重疊的擋板之間的孔隙高度在沿徑向向外的方向加大，例如通過沿徑向向外的方向上看去傾斜地把重疊的擋板拾高。這樣就使得徑向在外的區(qū)域流出更多的工藝氣體，以得到兩個(gè)相繼孔隙的區(qū)域加速運(yùn)動(dòng)分量的盡可能地相似。
但是，會(huì)產(chǎn)生這樣的作用，即如果底板元件直徑大，徑向靠外的板被拾高了，從而對(duì)待處理的材料形成阻力表面。因?yàn)榇祟愌b置主要用于制藥業(yè)，于是風(fēng)險(xiǎn)是，例如在為片劑覆糖衣時(shí)，由于與擋板的這些抬高的外區(qū)碰撞而在藥片上出現(xiàn)破裂。不論是氣體的、液體或包括固體的，或者是其混合物，處理介質(zhì)的分布都不理想。擋板間相對(duì)較大的孔隙必然伴有材料會(huì)經(jīng)底板下落的風(fēng)險(xiǎn)。
根據(jù)本發(fā)明，所述的目的是利用這樣的事實(shí)達(dá)到的底板包括一個(gè)板狀體，底板上的孔隙是通過去除底板上的材料形成的槽隙形的孔隙，并且槽隙形孔隙的截面斜向底板的平面，從而沿底板平面方向施加運(yùn)動(dòng)分量。
就制造技術(shù)而言，這些措施的優(yōu)點(diǎn)是，現(xiàn)在不再需要制造以后要用繁重的工藝組裝成底板的各個(gè)擋板元件了，而只需要提供二維的底板，從底板的材料上通過去除材料而形成多個(gè)槽。這使之能夠作為要處理工藝和產(chǎn)品的函數(shù)去選擇槽的數(shù)量、形狀、長(zhǎng)度、寬度、傾角和圖形。沿底板的平面方向的運(yùn)動(dòng)分量是借助于槽隙的孔隙截面以適當(dāng)?shù)姆绞絻A斜而產(chǎn)生的。
就引導(dǎo)工藝氣體而言，現(xiàn)在能夠得到顯著多的變數(shù)。從而，例如，可以提供較大數(shù)量的，經(jīng)其可以均勻地分布工藝氣體的，并且可以把運(yùn)動(dòng)分量指向適當(dāng)?shù)膬A角或者沿底板平面的方向的，相對(duì)窄的槽隙。多個(gè)相對(duì)窄的槽隙可以防止不小于相當(dāng)槽隙寬度的材料經(jīng)底板下落。如果是圓圈形或者說是環(huán)形底板，就可以在徑向靠外的區(qū)域上設(shè)適當(dāng)量的槽隙，借此以補(bǔ)償徑向靠外區(qū)域的較長(zhǎng)周徑。
就制造技術(shù)而言，這樣去除材料的做法可以快速進(jìn)行，方便且精確，例如通過激光切割、射流水切割、通過這些方法的結(jié)合切割、通過蝕刻，或者甚至通過銑削進(jìn)行。
這種簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)還能夠使之可以為一個(gè)設(shè)備提供不同的底板元件，能夠按其大小優(yōu)化處理顆粒材料，不論其，例如，是細(xì)粉末，還是厘米范圍的長(zhǎng)片劑。由于結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可以方便、快速地更換底板元件。
特別是在制藥業(yè)要滿足的高標(biāo)準(zhǔn)的必要的清洗，也因此顯著地方便了，因?yàn)橐呀?jīng)不再是要組裝成重疊環(huán)的大量的個(gè)別部件，而是一個(gè)在其中做了槽的板形體。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述的槽隙沿直線走行。
這種槽隙就制造技術(shù)而言特別地簡(jiǎn)單，并且槽隙的直線幾何形狀有規(guī)則的槽隙圖形，特別是平行排列的槽隙圖形。
在另一個(gè)實(shí)施例中，槽隙是彎曲的。
這種措施的優(yōu)點(diǎn)是通過此彎曲可以在表面元件上做出比直線槽隙更長(zhǎng)的槽隙，使得該方案在對(duì)某些預(yù)先已經(jīng)確定參數(shù)，例如槽寬，要達(dá)到單位面積的元件上有盡可能大的流出口面積時(shí)，是特別地有利的。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，槽隙伸向底板的中心。
這種排列使之能夠把氣體在底板上引導(dǎo)成環(huán)形的，可以是環(huán)形旋轉(zhuǎn)的帶的形式，這是已經(jīng)證實(shí)為特別地有利于處理顆粒材料的幾何狀態(tài)。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，在環(huán)形的底板的情況下，槽隙徑向地延伸。
這種槽隙圖形特別有利于形成上述的環(huán)形的、環(huán)形旋轉(zhuǎn)材料帶。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，槽隙離中心越遠(yuǎn)，沿圓周的方向的槽隙就越多。
這種措施的優(yōu)點(diǎn)是，為較徑向靠?jī)?nèi)地環(huán)行的材料顆粒與徑向靠外地環(huán)行的材料顆粒之間的移行距離差提供更多的補(bǔ)償。換言之，徑向靠外地環(huán)行的材料顆粒經(jīng)過與徑向靠?jī)?nèi)地環(huán)行的材料顆粒經(jīng)過的相同距離后跨過一個(gè)槽隙，從而顆?？梢跃鶆虻丶铀佟＿@就導(dǎo)致均勻地處理材料，不論材料顆粒是較徑向靠?jī)?nèi)地受移動(dòng)，還是較徑向靠外地受移動(dòng)。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，在外圓周區(qū)域中有一圈排緊靠在一起的槽隙。
此措施的優(yōu)點(diǎn)是，在底板的外周緣與容納底板的殼體之間的關(guān)鍵過渡區(qū)，由于槽隙量大而被吹干凈，從而排除了材料逐漸積累在此角形區(qū)域內(nèi)的可能性。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述的孔隙的截面有平行的側(cè)壁。
此措施的優(yōu)點(diǎn)是，從槽隙流出各有平行的界面的、特別均勻的、大體上是帶形的氣流。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述的孔隙的截面有向底板一側(cè)向外擴(kuò)展的側(cè)壁。
此措施的優(yōu)點(diǎn)是，如果希望的話，取決于取向，可以得到按方向漸細(xì)或者說漸寬的射流帶。
如果所述展寬是沿處理介質(zhì)流經(jīng)的方向，射流被加寬。一旦有顆粒經(jīng)底板的槽隙下落，孔隙的變細(xì)側(cè)就防止顆粒再向下落，結(jié)果可以通過因重力產(chǎn)生的下降被清除掉。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，在底板中還有附加孔隙，用于容納噴嘴。
此措施使得能夠用液體的噴灑介質(zhì)直接地在底板區(qū)域?qū)Σ牧线M(jìn)行附加處理，例如當(dāng)涂覆材料時(shí)。
這種措施的優(yōu)點(diǎn)是，在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，在底板上具有至少部分地包圍所述附加孔隙于所述附加孔隙所在區(qū)域內(nèi)的槽隙。
此措施的優(yōu)點(diǎn)是，可以用特別地計(jì)劃的方式通過在包圍噴嘴的這些孔隙的區(qū)域內(nèi)設(shè)槽隙在噴嘴的周圍產(chǎn)生理想的流動(dòng)條件，從而防止材料在包圍噴嘴的壓力下降區(qū)域積累，從而由于提供這些附加的槽隙保持周圍區(qū)域被保持干凈。這在實(shí)際上由于這些附加的帶槽的孔隙可以在制造技術(shù)方面非常易于做成而成為可能。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，底板是平坦的。
此措施的優(yōu)點(diǎn)是，有特別均勻的表面，對(duì)于產(chǎn)品沒有機(jī)械障礙。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，底板是起伏的。
在希望有波動(dòng)運(yùn)動(dòng)時(shí)，或者不利的運(yùn)動(dòng)波動(dòng)可以通過適當(dāng)起伏的表面補(bǔ)償時(shí)，此措施是有利的。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，底板是可旋轉(zhuǎn)的。
此措施的優(yōu)點(diǎn)是，旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)為移動(dòng)材料提供附加的變數(shù)。旋轉(zhuǎn)這種簡(jiǎn)單部件的底板元件比旋轉(zhuǎn)不同擋板的組件容易達(dá)到得多。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，孔隙截面的縱向中線對(duì)底板平面呈銳角，特別是在5度到85度的范圍，最優(yōu)選地在30度至60度的范圍。
在這些環(huán)形區(qū)域內(nèi)(譯注估計(jì)原文有誤，應(yīng)當(dāng)是角范圍)可以對(duì)大范圍的受處理材料達(dá)到理想的處理結(jié)果。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，由材料棱彼此分開的多個(gè)槽隙沿槽隙伸展的方向看串成行地安排。
此措施的優(yōu)點(diǎn)是，盡管可以提供許多槽隙，由于槽隙之間的材料棱底板還是具有足夠的機(jī)械穩(wěn)定性。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，底板是環(huán)形的，并且在處理材料的流出側(cè)中心地設(shè)有一個(gè)圓錐體。
這種組件能夠以特別有利的方式在環(huán)形的底板上形成環(huán)形的旋轉(zhuǎn)帶。這種緊湊的結(jié)構(gòu)件還可以用于，例如把現(xiàn)有的系統(tǒng)改裝成按此原理運(yùn)轉(zhuǎn)的系統(tǒng)。
不言而喻，上述的特征，以及以下要說明的特征不僅可以用于所指出的結(jié)合，還可以用于其它的結(jié)合，或者單獨(dú)地使用，均不會(huì)超出本發(fā)明的保護(hù)范圍。
圖7以高度示意的方式示出處理顆粒材料的裝置的透視圖，其中裝配有根據(jù)本發(fā)明的底板元件。
底板10包括二維的底板12，底板有盤14形狀的體13。在用涉及去除材料的方法用金屬制造的體13中，設(shè)有大量的槽隙16，其構(gòu)造、幾何形狀、排列等等在后文將詳細(xì)說明。
在體13上設(shè)有圓形的中心孔隙18。
沿徑向的半徑的圓周方向上均勻地安排三個(gè)附加的橢圓形孔隙20、21、22，讓噴嘴能夠從中穿過，如下文所述。


圖1a示出，在圖中由槽隙23代表的，剛好在相應(yīng)的孔隙前終止的那些槽隙，圖示的情況所述的孔隙是孔隙22。盤14中的槽隙圖形將在后文中參照由圖1所圈出的，并且按比例放大了的示于圖1b的環(huán)段作更加詳細(xì)地說明。
三個(gè)矩形的槽隙24、25和26沿徑向從盤14的中心(圖中未特別標(biāo)出)延伸。
槽隙24和25由材料片38彼此分開，換言之，不再是沿徑向的一個(gè)完整連續(xù)的槽隙，而是多個(gè)成串的槽隙。
這樣，起到保持盤14有足夠機(jī)械穩(wěn)定性的作用。
在外圓周端區(qū)做出一圈相對(duì)短的槽隙28，這些槽隙終止于與盤14的外周緣很短距離處。與一行三個(gè)槽隙24、25和26周向相鄰的位置上，設(shè)有成串安排的一行兩個(gè)槽隙32和33。這兩個(gè)槽隙32和33同樣地沿徑向延伸并且由材料棱(在此沒有特別標(biāo)出)彼此分開。其排列和縱向的延伸方式為，槽隙32要跨越相鄰槽隙25和26之間的材料棱。
槽隙33的徑向外端區(qū)突入短槽隙圈28內(nèi)。
相鄰于槽隙32和33的行又有一行三個(gè)沿徑向成串排列的槽隙34、35和36。這種槽隙圖形沿圓周連續(xù)重復(fù)。在所示實(shí)施例中，盤的直徑約為30cm，而槽隙的寬度是0.2mm，而槽隙的長(zhǎng)度對(duì)于圓周行28的短槽隙，在約為32mm至10mm的范圍。這些槽隙彼此偏離總圓周角360度的約1度，也就是說，外圓周行包括360個(gè)槽隙。這些槽隙相應(yīng)地終止于距離外周緣、中心孔隙18、以及其它孔隙各20、21和22大約2.5mm處。
圖2中所示的剖面圖表明，在盤14的體13中切削出由槽隙16所代表的槽隙，使其孔隙隙截面46相對(duì)于底板的平面40傾斜。在圖2所示的實(shí)施例中，孔隙隙截面46，與底板的平面40大約成45度角，如其縱向中心線42所標(biāo)示。
這種情況在圖6的左側(cè)按比例放大后再次示出，因此就是說，平行四邊形的孔隙隙截面46，具有相應(yīng)地傾斜的平行側(cè)壁47、47`。
還可以把所述的孔隙隙截面做成沿一個(gè)方向變細(xì)，特別是錐形地漸細(xì)，如圖6中的孔隙隙截面48所示?？紫断督孛?8使得出現(xiàn)錐形側(cè)壁49、49`。在圖6中，所述錐形用虛線示出。錐形體的軸線再次沿縱向中線42延伸，并且同樣對(duì)底板表面40成45度角。
如果經(jīng)底板元件10的流動(dòng)是如圖2所示從底板向上，則該傾斜的孔隙隙截面向介質(zhì)施加沿底板的平面40方向的力。
換言之，從底板流出的介質(zhì)不與底板的平面40成直角地從底板向上流動(dòng)，而是按所述孔隙隙截而的斜度傾斜地流動(dòng)。
從而有可能通過孔隙隙截面46的傾角設(shè)定相應(yīng)所希望的流經(jīng)底板元件10的處理介質(zhì)的流動(dòng)條件。依據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域，處理介質(zhì)可是氣體、液體、粉末或者其混合物。
可以用激光切割以精確的幾何形狀和精確的尺寸制造，但是，也可以用其它的方法，例如水性射流，或者如果是較大的槽寬，也可以用銑削。
上述的底板元件10有平坦的盤。
圖3和4示出底板也可以是一定程度上起伏的。
從而，例如圖3所示的底板50包括多個(gè)傾斜部分52，它們相對(duì)底板的平面51傾斜，并且由豎直部分54相互連接。這樣底板的起伏可以從原本平坦的板上用刨床刨切底板50而形成。
根據(jù)需要，可以在傾斜部分52中設(shè)槽隙，例如，如槽隙56所示，或者也可以在豎直傾斜部分54中設(shè)槽隙，例如，如槽隙58所示。
在此，孔隙截面也是相對(duì)于底板的平面51傾斜，結(jié)果在此例中也在流經(jīng)槽隙56和58的處理介質(zhì)上施加沿底板平面51方向的運(yùn)動(dòng)分量，如流動(dòng)箭頭所示。
在圖4所示底板60的情況下，底板是波紋形的結(jié)構(gòu)，即波峰和波谷起伏于底板平面61的上下。在此也可以在波谷設(shè)有相應(yīng)的槽隙，如槽隙62所示；設(shè)在過渡區(qū)，如槽隙63所示；或者設(shè)在波峰，如槽隙64所示。
在此同樣地，孔隙隙截面處相對(duì)于底板的平面61傾斜，結(jié)果，在此例中也在流經(jīng)槽隙62、63和64的處理介質(zhì)上施加沿底板平面61方向的運(yùn)動(dòng)分量，如流動(dòng)箭頭所示。
此例所示的槽隙也可以通過激光切割等等方式制作出。只要材料和尺寸允許，也可以在形成底板的過程中就已經(jīng)沖出。
圖5示出同樣是平坦結(jié)構(gòu)的盤形底板70的一個(gè)扇面段。
伸向在圖中沒有特別標(biāo)出的中心部分的槽隙設(shè)計(jì)為波浪式槽隙72，其波浪程度從中心徑向向外增加。這種波浪程度的增加使之能夠補(bǔ)償沿徑向向外遞增的周邊運(yùn)行路徑。
圖5還示出位置相對(duì)靠外的一圈行短槽隙74，它們大體上以圓弧形彎曲。如果希望單位面積上的通道面積盡可能大且槽隙還要窄時(shí)，這種彎曲是有利的。例如處理粒度非常小的產(chǎn)品時(shí)就是這種情況，此時(shí)應(yīng)當(dāng)把槽隙做得盡可能地窄，以避免產(chǎn)品經(jīng)槽隙下落。經(jīng)過彎曲的槽隙74的通道面積大于經(jīng)例如沿直線連接曲線兩個(gè)外端的相應(yīng)矩形槽隙的通道面積。
可以穿過噴嘴的附加孔隙76設(shè)在圖5所示的扇面上。
實(shí)踐發(fā)現(xiàn)，由于噴灑介質(zhì)的噴出速度高，在噴嘴周圍形成一定程度真空，從而吸入材料，特別是產(chǎn)品是細(xì)末形的情況下，結(jié)果噴嘴周圍近區(qū)往往產(chǎn)生積垢。為了防止這種情況，繞附加孔隙76設(shè)一圈槽隙78、79，沿噴灑方向部分地包圍附加孔隙從而“吹浄”這個(gè)重要區(qū)域。這以特別顯著的方式表現(xiàn)出本發(fā)明設(shè)計(jì)構(gòu)形有很大的多樣性和靈活性，也就是可以添加槽隙防止材料在此關(guān)鍵區(qū)域積累。
這也是提供圖1所示那圈小槽隙28的原因。
盤14示出安裝在大體上垂直于盤14的殼，并且與其周緣相連接。產(chǎn)品有時(shí)易于粘附在此連接角區(qū)而結(jié)成垢，現(xiàn)在，這由一個(gè)圈槽隙28排除了，換句話說，這個(gè)角落由流經(jīng)此圈槽隙28介質(zhì)不停地“吹浄”了。
圖7以高度示意的方式示出處理顆粒材料的裝置80的透視圖，其中裝配有根據(jù)本發(fā)明的底板元件90，其槽隙圖形99大體上與底板元件10的槽隙圖形相當(dāng)。
裝置80具有下入流室82，處理介質(zhì)84，例如熱工藝氣體導(dǎo)入其中。
入流室82的上端形成帶有槽隙圖形99的底板元件90。圓錐體92插入中心孔隙，具體地說，就是在底板元件90的處理介質(zhì)84流出的側(cè)面。
僅為示例地在此圖中示出，穿過上述附加孔隙插進(jìn)兩個(gè)在直徑上對(duì)置的噴嘴94和95。槽隙圖形99的槽隙截面傾角是使得把順時(shí)針方向的環(huán)形運(yùn)動(dòng)分量作用在流經(jīng)底板元件90的處理介質(zhì)84上。在底板元件90的上方有處理室96，其中容納受處理的材料。處理過所述材料以后工藝氣體從處理室上端作為廢氣98排出。為了表現(xiàn)清楚，圖中略去了此類設(shè)備中尋常安裝的過濾器之類裝置。
如果，例如為了粒化細(xì)粉末而運(yùn)轉(zhuǎn)此裝置，把所述粉末導(dǎo)入處理室96，并且在開始時(shí)放在底板元件90上。槽隙之狹窄防止產(chǎn)品經(jīng)槽隙落入入流室82。如果向底板元件90供應(yīng)處理介質(zhì)84，例如，熱工藝氣體，氣體由帶有無數(shù)槽隙的槽隙圖形99用水平分量圓周地引導(dǎo)，并在底板元件90上側(cè)上方引起懸浖的環(huán)形材料帶，如箭頭100所示。然后經(jīng)噴嘴94和95噴灑粘性的液體介質(zhì)，其結(jié)果把細(xì)粉末結(jié)成顆粒。
權(quán)利要求
1.一種處理顆粒材料的裝置的底板元件，具有二維的底板(12、50、60、70)，其中設(shè)有大量孔隙，經(jīng)所述的孔隙，處理介質(zhì)(84)可以穿過所述底板(12、50、60、70)，還具有向流經(jīng)所述底板(12、50、60、70)的處理介質(zhì)(84)施以沿所述底板平面(40、51、61)的方向的運(yùn)動(dòng)分量的裝置，其特征在于，底板(12、50、60、70)包括板狀體(13)，在底板(12、50、60、70)上的孔隙是槽隙(16、23-26、32-36、56、58、62-64、72、74、78、79)的形式，它們是通過從底板(12、50、60、70)上去除材料形成槽隙而形成的，并且槽隙的孔隙的截面(46、48)斜向底板的平面(40、51、61)，從而沿底板平面方向施加運(yùn)動(dòng)分量。
2.如權(quán)利要求1所述的底板元件，其特征在于，槽隙(23-26、32-36、56、58、62-64)沿直線走行。
3.如權(quán)利要求1所述的底板元件，其特征在于，槽隙(72、74、78、79)是彎曲的。
4.如權(quán)利要求1至3之任一項(xiàng)所述的底板元件，其特征在于，槽隙(16、23-26、32-36、72)伸向底板(12、50、60、70)的中心。
5.如權(quán)利要求1至4之任一項(xiàng)所述的底板元件，其特征在于，在圓環(huán)形底板(12、50、60、70)的情況下，槽隙(16、23-26、32-36(徑向地延伸。
6.如權(quán)利要求4或5所述的底板元件，其特征在于，所述的槽隙離中心越遠(yuǎn)，就越沿圓周的方向。
7.如權(quán)利要求1至6之任一項(xiàng)所述的底板元件，其特征在于，在底板的外圓周區(qū)域中有一行(28)排緊靠在一起的槽隙。
8.如權(quán)利要求1至7之任一項(xiàng)所述的底板元件，其特征在于，孔隙截面(46)有平行的側(cè)壁(47、47`)。
9.如權(quán)利要求1至7之任一項(xiàng)所述的底板元件，其特征在于，孔隙截面(48)有向底板12)一側(cè)向外變寬的側(cè)壁(49、49`)。
10.如權(quán)利要求1至9之任一項(xiàng)所述的底板元件，其特征在于，底板(12)中還有附加孔隙(20-23、76)用于容納噴嘴(94、95)。
11.如權(quán)利要求10所述的底板元件，其特征在于，底板(70)上有在所述附加孔隙(76)所在區(qū)域內(nèi)至少部分地包圍所述附加孔隙(76)的槽隙(78、79)。
12.如權(quán)利要求1至11之任一項(xiàng)所述的底板元件，其特征在于，底板(12、70)是平坦的。
13.如權(quán)利要求1至11之任一項(xiàng)所述的底板元件，其特征在于，底板(50、60)是起伏的。
14.如權(quán)利要求1至13之任一項(xiàng)所述的底板元件，其特征在于，所述底板是可旋轉(zhuǎn)的。
15.如權(quán)利要求1至14之任一項(xiàng)所述的底板元件，其特征在于，孔隙截面(46、48)的縱向中線(42)對(duì)底板平面(40)呈銳角，特別是在5度到85度的范圍，最優(yōu)選地在30度至60度的范圍。
16.如權(quán)利要求1至15之任一項(xiàng)所述的底板元件，其特征在于，由材料棱(38)彼此分開的多個(gè)槽隙，沿槽隙(24、25、26、32、33、34、35、36)延伸的方向看串成行地排列。
17.如權(quán)利要求1至16之任一項(xiàng)所述的底板元件，其特征在于，底板(12)是環(huán)形的，并且在處理介質(zhì)(84)流出側(cè)中心地設(shè)有圓錐體(92)。
18.一種制造處理顆粒材料的裝置的方法，包括如下步驟--制備二維的底板，--在底板上通過去除底板上的材料形成大量槽隙形，是以使槽隙的孔隙的截面斜向底板平面的方式進(jìn)行的。
19.如權(quán)利要求18所述的方法，其特征在于，制做所述槽隙而去除材料選自于由激光切割、射流水切、兩者的結(jié)合、蝕刻，和銑削等一組方法。
20.如權(quán)利要求18或19所述的方法，其特征在于，把所述槽隙的數(shù)量、形狀、長(zhǎng)度、寬度、傾角及圖形作為處理工藝和受處理的材料的函數(shù)加以選擇。
全文摘要
一種處理顆粒材料的裝置的底板元件(10)，具有二維的底板(12)，其中設(shè)有大量孔隙，經(jīng)所述的孔隙，處理介質(zhì)可以穿過所述底板(12)。還具有向流經(jīng)所述底板(12)的處理介質(zhì)施以沿所述底板平面的方向的運(yùn)動(dòng)分量的裝置。為簡(jiǎn)化生產(chǎn)和提供圈套的靈活性，本發(fā)明提出，底板包括板狀體(13)，在底板(12)上的孔隙都是槽隙(16、23－26、32－36)的形式，它們是通過從底板(12)上去除材料形成槽隙而形成的，并且槽隙的孔隙的截面斜向底板的平面，從而沿底板平面方向施加運(yùn)動(dòng)分量(見圖1、1a、1b)。
文檔編號(hào)B01J8/44GK1422174SQ01807589
公開日2003年6月4日 申請(qǐng)日期2001年3月24日 優(yōu)先權(quán)日2000年3月29日
發(fā)明者托馬斯·沃訥爾, 馬丁·格羅斯 申請(qǐng)人:修特林股份有限公司