氣路清洗裝置以及氣路清洗方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種氣路清洗裝置，本發(fā)明還涉及一種氣路清洗方法，屬于分析儀器領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]光譜類檢測(cè)儀器，例如氣相分子吸收光譜儀，通常其在測(cè)定一個(gè)樣品后，需要清洗管路，以便進(jìn)行下一個(gè)樣品分析，通常采用清洗的方法是:根據(jù)原樣品測(cè)定方法所采用的載氣流量，加大載氣流量，或者保持流量不變，將殘留的氣體帶走，直至將氣路，包含比色管部分，清洗干凈。
[0003]上述方法缺點(diǎn)第一是清洗耗時(shí)很長(zhǎng)，不利于分析效率提高。第二是消耗純水量很大，使得儀器中產(chǎn)生很多的水汽，進(jìn)而導(dǎo)致檢測(cè)器受水汽污染，產(chǎn)生分析誤差。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種快速清洗裝置，以解決上述問(wèn)題。
[0005]本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案:
[0006]一種氣路清洗裝置，用于對(duì)光譜檢測(cè)儀器的氣路進(jìn)行清洗，其特征在于，包括:清洗氣源；穩(wěn)壓閥，與所述清洗氣源相連接；氣體流量控制裝置，與所述穩(wěn)壓閥相連接；限流閥，一端與所述穩(wěn)壓閥相連接，另一端與所述光譜檢測(cè)儀器的氣路出口相連通，當(dāng)打開(kāi)所述清洗氣源進(jìn)行清洗時(shí)，所述清洗氣源產(chǎn)生的氣流沿與檢測(cè)時(shí)載氣運(yùn)行方向相反的方向進(jìn)入所述氣路。
[0007]另外，本發(fā)明的氣路清洗裝置，還可以具有這樣的特征:其中，清洗氣源為氮?dú)?、氬氣、或其它惰性氣體、或者潔凈空氣。
[0008]另外，本發(fā)明的氣路清洗裝置，還可以具有這樣的特征:其中，氣體流量控制裝置為穩(wěn)壓閥、限流閥、質(zhì)量流量控制器或轉(zhuǎn)子流量計(jì)中的任意一種或者多種組合使用。
[0009]另外，本發(fā)明的氣路清洗裝置，還可以具有這樣的特征:還具有第二三通閥，位于光譜檢測(cè)儀器的氣路末端，用于排出氣路中的氣流。
[0010]另外，本發(fā)明的氣路清洗裝置，還可以具有這樣的特征:其中，所述清洗氣源產(chǎn)生的氣壓大于大于所述載氣進(jìn)入到比色管內(nèi)后的氣壓。
[0011]本發(fā)明還提供一種氣路清洗的方法，一種氣路清洗方法，利用氣路清洗裝置對(duì)光譜檢測(cè)儀器的氣路進(jìn)行清洗，其特征在于，包括以下步驟:
[0012]步驟一，同時(shí)打開(kāi)清洗氣源和載氣氣源，載氣氣源釋放載氣，載氣從反應(yīng)腔中正向進(jìn)入光譜檢測(cè)儀器的氣路入口進(jìn)行清洗，清洗氣源釋放清洗氣體，清洗氣體經(jīng)過(guò)穩(wěn)壓閥、限流閥后從所述光譜檢測(cè)儀器的氣路出口處逆向進(jìn)入氣路進(jìn)行清洗；
[0013]步驟二、兩路氣體混合后從氣路入口處的排氣閥排出，
[0014]其中，所述清洗氣體的氣壓大于所述載氣進(jìn)入到比色管內(nèi)后的氣壓。
[0015]發(fā)明的有益效果
[0016]本發(fā)明的氣路清洗裝置可以大幅減少清洗時(shí)間，可將清洗時(shí)間減少為原來(lái)的1/2到1/3?？s短了分析間隔中的清洗時(shí)間，因此整體上提高了分析速度。此外，本發(fā)明開(kāi)能夠減少雜質(zhì)氣體或者水汽等在比色管內(nèi)壁上的聚集，保持比色管長(zhǎng)期處于干凈狀態(tài)。
【附圖說(shuō)明】
[0017]圖1是本發(fā)明的氣路清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖2是清洗時(shí)的氣流方向示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019]以下結(jié)合附圖來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】。
[0020]如圖1所示，氣路清洗裝置包括:清洗氣源，在本實(shí)施方式中清洗氣源采用氣泵11 ;穩(wěn)壓閥12 ;氣體流量控制裝置，本實(shí)施方式中采用限流閥13 ;第一三通閥15 ;以及第二三通閥16。
[0021]以下以氣路清洗裝置應(yīng)用于氣相分子吸收光譜儀為例進(jìn)行描述。如圖1所示，氣相分子吸收光譜儀包括比色管21，光源22，檢測(cè)器23，反應(yīng)腔24，干燥器25，以及載氣氣源
26 ο
[0022]氣泵11、穩(wěn)壓閥12、限流閥13和第一三通閥15依次相連。氣泵11用于產(chǎn)生清洗氣體。第一三通閥15連接在氣相分子吸收光譜儀原有的檢測(cè)氣路的出口處。第二三通閥16安裝在反應(yīng)腔24的出口處。干燥器25設(shè)置在反應(yīng)腔內(nèi)的上部，對(duì)從反應(yīng)腔流出的氣體進(jìn)行干燥。
[0023]氣路清洗裝置的使用過(guò)程:
[0024]首先介紹傳統(tǒng)的正常清洗模式，正常清洗時(shí)使用純水對(duì)反應(yīng)腔中的化學(xué)試劑進(jìn)行沖洗，同時(shí)打開(kāi)載氣氣源26將反應(yīng)腔中殘留的氣體吹出。載氣從反應(yīng)腔24經(jīng)過(guò)干燥器25后向外吹出，同時(shí)對(duì)氣路的后端進(jìn)行清洗，載氣的流動(dòng)方向?yàn)閳D中黑色箭頭所示的方向。
[0025]當(dāng)使用清洗裝置進(jìn)行清洗時(shí)，保持上述的正常清洗模式不變，關(guān)閉第一三通閥15通往外界的出口 15a，打開(kāi)氣泵11。即同時(shí)開(kāi)啟載氣氣源26和氣泵11。氣泵11產(chǎn)生的清潔空氣先通過(guò)穩(wěn)壓閥12，然后通過(guò)限流閥13，再通過(guò)第一三通閥15逆向進(jìn)入比色管21所在的氣路中進(jìn)行沖洗清潔。該清潔空氣的行進(jìn)方向與載氣的流動(dòng)方向相反，這兩路氣體的流動(dòng)方向如圖1所示，圖1中實(shí)心黑色箭頭為正常清洗時(shí)載氣的流動(dòng)方向，載氣的流動(dòng)方向與樣品測(cè)定時(shí)載氣流動(dòng)方向是相同的，空心白色箭頭為清洗氣體的流動(dòng)方向。
[0026]清洗氣體的氣流量大小可通過(guò)氣體流量控制裝置調(diào)節(jié)，在清洗狀態(tài)下，清洗氣體的氣壓應(yīng)設(shè)置為大于載氣進(jìn)入比色管內(nèi)后的氣壓，使得清洗氣體能夠從反向進(jìn)入氣路中進(jìn)行清洗。圖2是清洗時(shí)的氣流方向示意圖，如圖2所示，由于清洗氣體的流量大于載氣的流量，因此載氣和清洗氣體這兩路氣體將在第二三通閥16處匯合并排出。
[0027]在傳統(tǒng)的清洗方式下，在使用載氣氣源對(duì)氣路進(jìn)行清洗的同時(shí)，需要使用純水清洗反應(yīng)腔。此時(shí)，載氣經(jīng)過(guò)反應(yīng)腔和干燥器進(jìn)入上方的比色管等氣路中，在這個(gè)過(guò)程中載氣會(huì)帶入純水中的水蒸氣，即使經(jīng)過(guò)干燥器的干燥，水蒸氣也難免會(huì)附著在比色管中，甚至進(jìn)入儀器內(nèi)部的其它零件中，導(dǎo)致檢測(cè)器受水汽污染，產(chǎn)生分析誤差。此外，由于在清洗反應(yīng)腔的同時(shí)載氣在不斷的通過(guò)反應(yīng)腔進(jìn)入氣路中，因此，反應(yīng)腔中殘留的氣體也會(huì)隨載氣進(jìn)入氣路中，不僅延長(zhǎng)了清洗的時(shí)間，也使得雜質(zhì)氣體在比色管內(nèi)壁上聚集。而本發(fā)明的氣路清洗裝置，由于清洗氣流的方向與載氣的運(yùn)動(dòng)方向相反，使得載氣不會(huì)進(jìn)入比色管，而是在第二三通閥16處排出，防止了載氣中的水蒸氣或者其它雜質(zhì)氣體聚集在比色管中。同時(shí)由于清洗氣流的方向與載氣的運(yùn)行方向相反，因此，對(duì)于管壁的清洗力度更大，可對(duì)正常載氣沖洗方向沖不到的部位也進(jìn)行清洗。同時(shí)，由于載氣不會(huì)進(jìn)入比色管之中，因此反應(yīng)腔中殘留的氣體不會(huì)隨載氣進(jìn)入比色管后面的氣路中，使得清洗氣流的沖洗時(shí)間縮短。
[0028]另外，當(dāng)一些儀器在圖1中第二三通閥16所處的位置原本就具有泄壓孔時(shí)，可以省略第二三通閥16。
[0029]另外，在原有設(shè)備上安裝本發(fā)明的清洗裝置，對(duì)原有設(shè)備的改裝非常簡(jiǎn)便，只需要在原有設(shè)備的出氣口處和反應(yīng)腔的出口處各安裝一個(gè)三通閥，而不需要對(duì)原有設(shè)備的氣路或者內(nèi)部構(gòu)造進(jìn)行大規(guī)模的修改。通常情況下原有設(shè)備在反應(yīng)腔的出口處原本就具有泄壓孔，此時(shí)僅需要在原有設(shè)備的出氣口處安裝一個(gè)三通閥即可。
[0030]清洗氣體除本實(shí)施例中所采用的氣泵產(chǎn)生的潔凈空氣以外，還可以可以為氮?dú)?、氬氣，或其它的惰性氣體，但應(yīng)保證氣體的潔凈。
[0031]通過(guò)氣體流量控制裝置調(diào)節(jié)氣體流量大小，氣體流量控制裝置可以是限流閥、質(zhì)量流量控制器、轉(zhuǎn)子流量計(jì)等，或者這幾種裝置的組合使用。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種氣路清洗裝置，用于對(duì)光譜檢測(cè)儀器的氣路進(jìn)行清洗，其特征在于，包括: 清洗氣源； 穩(wěn)壓閥，與所述清洗氣源相連接； 氣體流量控制裝置，與所述穩(wěn)壓閥相連接； 限流閥，一端與所述穩(wěn)壓閥相連接，另一端與所述光譜檢測(cè)儀器的氣路出口相連通，當(dāng)打開(kāi)所述清洗氣源進(jìn)行清洗時(shí)，所述清洗氣源產(chǎn)生的氣流沿與檢測(cè)時(shí)載氣運(yùn)行方向相反的方向進(jìn)入所述氣路。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣路清洗裝置，其特征在于: 其中，所述清洗氣源流出的氣體為氮?dú)?、氬氣、或其它惰性氣體、或者潔凈空氣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣路清洗裝置，其特征在于: 其中，所述氣體流量控制裝置為穩(wěn)壓閥、限流閥、質(zhì)量流量控制器或轉(zhuǎn)子流量計(jì)中的任意一種或者多種組合使用。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣路清洗裝置，其特征在于:還具有第二三通閥，位于所述光譜檢測(cè)儀器的氣路末端，用于排出所述氣路中的氣流。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣路清洗裝置，其特征在于: 其中，所述清洗氣源產(chǎn)生的氣壓大于大于所述載氣進(jìn)入到比色管內(nèi)后的氣壓。
6.一種氣路清洗方法，利用氣路清洗裝置對(duì)光譜檢測(cè)儀器的氣路進(jìn)行清洗，其特征在于，包括以下步驟: 步驟一，同時(shí)打開(kāi)清洗氣源和載氣氣源， 載氣氣源釋放載氣，載氣從反應(yīng)腔中正向進(jìn)入光譜檢測(cè)儀器的氣路入口進(jìn)行清洗，清洗氣源釋放清洗氣體，清洗氣體經(jīng)過(guò)穩(wěn)壓閥、限流閥后從所述光譜檢測(cè)儀器的氣路出口處逆向進(jìn)入氣路進(jìn)行清洗； 步驟二、兩路氣體混合后從氣路入口上端的排氣閥排出， 其中，所述清洗氣體的氣壓大于所述載氣進(jìn)入到比色管內(nèi)后的氣壓。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種氣路清洗裝置，用于對(duì)光譜檢測(cè)儀器的氣路進(jìn)行清洗，其特征在于，包括：清洗氣源；穩(wěn)壓閥，與清洗氣源相連接；氣體流量控制裝置，與穩(wěn)壓閥相連接；限流閥，一端與穩(wěn)壓閥相連接，另一端與光譜檢測(cè)儀器的氣路出口相連通，當(dāng)打開(kāi)清洗氣源進(jìn)行清洗時(shí)，清洗氣源產(chǎn)生的氣流沿與檢測(cè)時(shí)載氣運(yùn)行方向相反的方向進(jìn)入氣路。本發(fā)明的氣路清洗裝置可以大幅減少清洗時(shí)間，可將清洗時(shí)間減少為原來(lái)的1/2到1/3。縮短了分析間隔中的清洗時(shí)間，因此整體上提高了分析速度。
【IPC分類】B08B5-02, G01N21-31
【公開(kāi)號(hào)】CN104841665
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510115044
【發(fā)明人】李明, 余海霞, 周侶艷, 張德兵, 張大慶, 陽(yáng)純?nèi)? 盧文武, 姚逸, 蔡杰, 陳凡
【申請(qǐng)人】上海北裕分析儀器有限公司
【公開(kāi)日】2015年8月19日
【申請(qǐng)日】2015年3月16日