1.一種電漿拋光清洗零排放裝置，其特征在于，包括用于對金屬表面進行電漿拋光的拋光設備和用于對由所述拋光設備排出的廢水進行處理的廢水處理設備；所述廢水處理設備包括用于存儲和輸送所述廢水的廢水槽、用于對所述廢水進行凈化的廢水處理器、利用所述廢水處理器產生的凈化水進行漂洗作業(yè)的漂洗槽、回收所述廢水處理器產生的固體的回收槽，所述拋光設備、所述廢水槽、所述廢水處理器、所述漂洗槽、所述回收槽依次連接，且所述廢水處理器與所述回收槽連接。
2.根據(jù)權利要求1所述的電漿拋光清洗零排放裝置，其特征在于，所述廢水槽包括用于收集中水的中水槽和用于收集濃水的濃水槽，所述中水槽與所述拋光設備、所述濃水槽連接。
3.根據(jù)權利要求2所述的電漿拋光清洗零排放裝置，其特征在于，所述廢水處理器包括用于凈化由所述中水槽輸出的所述廢水的中水處理器和用于凈化由所述濃水槽輸出的所述廢水的濃水處理器，所述中水處理器與所述中水槽連接，所述濃水處理器與所述濃水槽、所述回收槽連接。
4.根據(jù)權利要求3所述的電漿拋光清洗零排放裝置，其特征在于，所述漂洗槽包括利用由所述中水處理器排出的第一凈化水進行漂洗作業(yè)的第一漂洗槽和利用由所述濃水處理器排出的第二凈化水進行漂洗作業(yè)的第二漂洗槽，所述第一漂洗槽分別與所述中水處理器、所述中水槽連接，所述第二漂洗槽分別與所述濃水處理器、所述濃水槽連接。
5.根據(jù)權利要求3所述的電漿拋光清洗零排放裝置，其特征在于，所述濃水處理器包括蒸餾所述濃水的蒸餾設備。
6.根據(jù)權利要求5所述的電漿拋光清洗零排放裝置，其特征在于，所述電漿拋光清洗零排放裝置還包括與所述蒸餾設備連接且用于提供蒸餾所述濃水熱源的廢熱處理器。
7.根據(jù)權利要求1所述的電漿拋光清洗零排放裝置，其特征在于，所述拋光設備包括與對金屬表面進行電漿拋光的電漿拋光槽連接的電解拋光槽。
8.根據(jù)權利要求1所述的電漿拋光清洗零排放裝置，其特征在于，所述電漿拋光清洗零排放裝置還包括設置于所述廢水處理設備的鈍化槽或防銹槽。
9.一種電漿拋光清洗零排放系統(tǒng)，其特征在于，包括進料臺、清洗槽、出料臺、如權利要求1至8任一項所述的電漿拋光清洗零排放裝置，所述進料臺、所述清洗槽、所述電漿拋光清洗零排放裝置、所述出料臺依次連接。
10.根據(jù)權利要求9所述的電漿拋光清洗零排放系統(tǒng)，其特征在于，所述電漿拋光清洗零排放系統(tǒng)還包括設置于所述電漿拋光清洗零排放裝置與所述出料臺之間的干燥裝置。