本發(fā)明涉及污水處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種電鍍污水處理設(shè)備以及系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

目前，對(duì)于污水排放來(lái)說(shuō)，電鍍工廠(或車(chē)間)排放的電鍍污水占了很大程度的比例。電鍍污水的主要來(lái)源有以下幾個(gè)方面：鍍件除油、除銹前處理和電鍍過(guò)程中產(chǎn)生大量的清洗污水；廢電鍍液、不良鍍層退鍍液；沖洗鍍槽、各種設(shè)備以及沖刷車(chē)間地面的污水；烤漆工藝的脫脂、磷化工序產(chǎn)生少量含磷污水；污泥脫水；化驗(yàn)室污水等。由于鍍種較多，工藝繁瑣，電鍍污水水質(zhì)較復(fù)雜，電鍍污水中含有鉻、鋅、銅、鎳、鎘等重金屬離子以及酸、堿、氰化物等具有很大毒性的雜物，而電鍍污水的危害眾所周知，電鍍廢水就其總量來(lái)說(shuō)，比如造紙、印染、化工等行業(yè)的水量小，污染面窄，但由于電鍍廠點(diǎn)分布廣，污水中所含的高毒物質(zhì)的種類多，有的物質(zhì)具有致癌、致畸、致突變，危害性是很大。未經(jīng)處理達(dá)標(biāo)的電鍍廢水直接排放，流入河道、池塘滲入地下，不僅對(duì)環(huán)境造成危害，而且會(huì)污染飲用水和工業(yè)用水，危害人類的身體健康。因此必須認(rèn)真地加以處理，以免對(duì)人們?cè)斐晌：Α?/p>

但是，現(xiàn)有技術(shù)的污水處理設(shè)備的污水處理效果不理想，而且大部分廠達(dá)不到國(guó)家廢水排放標(biāo)準(zhǔn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種電鍍污水處理設(shè)備以及系統(tǒng)，以解決現(xiàn)有技術(shù)的污水處理設(shè)備污水處理效果不理想的技術(shù)問(wèn)題，能夠改善污水處理效果，同時(shí)能夠提高處理效率。

第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種電鍍污水處理設(shè)備，該設(shè)備包括：

第一反應(yīng)室、第二反應(yīng)室和加藥裝置，沿著所述第一反應(yīng)室指向所述第二反應(yīng)室的方向依次設(shè)置有高速反應(yīng)器和固液分離槽；其中，

所述加藥裝置用于向處于所述第一反應(yīng)室與所述固液分離槽之間的待處理電鍍污水添加藥劑；

所述第一反應(yīng)室用于對(duì)待處理電鍍污水進(jìn)行預(yù)處理；

所述第二反應(yīng)室用于對(duì)固液分離槽分離后的液體進(jìn)行后處理，以滿足中水回用。

結(jié)合第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了第一方面的第一種可能的實(shí)施方式，其中，所述高速反應(yīng)器至少包括第一高速反應(yīng)器和第二高速反應(yīng)器，所述第一高速反應(yīng)器和第二高速反應(yīng)器的長(zhǎng)度方向垂直于豎直方向且沿豎直方向排列設(shè)置。

結(jié)合第一方面的第一種可能的實(shí)施方式，本發(fā)明實(shí)施例提供了第一方面的第二種可能的實(shí)施方式，其中，所述加藥裝置至少包括三個(gè)加藥器，分別用于向所述第一高速反應(yīng)器、所述第二高速反應(yīng)器和所述固液分離槽中添加藥劑；所述加藥裝置還設(shè)置有用于控制藥量的計(jì)量泵。

結(jié)合第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了第一方面的第三種可能的實(shí)施方式，其中，該設(shè)備還包括：斜板和設(shè)置于所述固液分離槽的內(nèi)壁上的安裝支架，所述斜板設(shè)置于所述安裝支架上，所述斜板上方設(shè)置有溢流溝。

結(jié)合第一方面的第三種可能的實(shí)施方式，本發(fā)明實(shí)施例提供了第一方面的第四種可能的實(shí)施方式，其中，所述第二反應(yīng)室與所述固液分離槽之間設(shè)置有過(guò)濾網(wǎng)。

結(jié)合第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了第一方面的第五種可能的實(shí)施方式，其中，該設(shè)備還包括：輸液泵和遷移泵；其中，

所述輸液泵設(shè)置于所述第一反應(yīng)室與所述高速反應(yīng)器之間，用于輸送待處理電鍍污水；

所述遷移泵與所述第二反應(yīng)室相連接，用于將處理后的液體向外輸送進(jìn)行循環(huán)利用。

結(jié)合第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了第一方面的第六種可能的實(shí)施方式，其中，所述固液分離槽底部設(shè)置有沉淀池，所述沉淀池為“V”型。

結(jié)合第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了第一方面的第七種可能的實(shí)施方式，其中，所述固液分離槽內(nèi)設(shè)置有用于分散污泥，使污泥流動(dòng)的污泥圓盤(pán)分散緩沖器。

結(jié)合第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了第一方面的第八種可能的實(shí)施方式，其中，所述第一反應(yīng)室和所述第二反應(yīng)室分別設(shè)置有用于加速反應(yīng)的攪拌槽和用于使反應(yīng)更徹底的滯留槽；其中，

所述攪拌槽內(nèi)設(shè)置有攪拌器；

所述滯留槽內(nèi)設(shè)置有液位控制器。

第二方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種電鍍污水處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：

電控箱和第一方面及其可能的實(shí)施方式中所述的電鍍污水處理設(shè)備；其中，

所述電控箱包括主控器，所述主控器用于控制所述電鍍污水處理設(shè)備運(yùn)行，以實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化操作。

本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案帶來(lái)了以下有益效果：本發(fā)明實(shí)施例提供的電鍍污水處理設(shè)備以及系統(tǒng)中，包括：第一反應(yīng)室、第二反應(yīng)室和加藥裝置，沿著所述第一反應(yīng)室指向所述第二反應(yīng)室的方向依次設(shè)置有高速反應(yīng)器和固液分離槽；通過(guò)所述第一反應(yīng)室用于對(duì)待處理電鍍污水進(jìn)行預(yù)處理；所述加藥裝置用于向處于所述第一反應(yīng)室與所述固液分離槽之間的待處理電鍍污水添加藥劑，進(jìn)行高速反應(yīng)處理和固液分離，所述第二反應(yīng)室用于對(duì)固液分離槽分離后的液體進(jìn)行后處理，以滿足中水回用。能夠改善污水處理效果，提高污水處理效率，同時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)循環(huán)使用，具有節(jié)能環(huán)保的優(yōu)點(diǎn)，能夠滿足國(guó)家污水處理標(biāo)準(zhǔn)。

此外，本發(fā)明實(shí)施例提供的設(shè)備以及系統(tǒng)還具有以下特點(diǎn)：

1)、體積?。禾砑铀巹┑膬?chǔ)藥箱、高速反應(yīng)器、計(jì)量泵、遷移泵、攪拌器、固液分離槽、電控箱全部組合在一起，占地面積只有1.628m²，高1.85m。

2)、布局合理：各部件總成裝卸方便，便于維修，整個(gè)設(shè)備有各種管線幾十條，全部采取隱蔽式結(jié)構(gòu)，外觀整潔。

3)、推流式流轉(zhuǎn)：各道工序的廢水流轉(zhuǎn)，采用一次提升，推流式前進(jìn)，降低了動(dòng)能損耗。

4)、高速反應(yīng)：工藝流程中，添加藥劑，采用計(jì)量泵自動(dòng)添加，經(jīng)高速反應(yīng)器，反應(yīng)徹底，縮短了工藝時(shí)間十多倍，簡(jiǎn)化了反應(yīng)處理設(shè)備。

5)、快速沉淀：污泥采用盤(pán)式分散器，斜板沉淀，在最短時(shí)間內(nèi)達(dá)到固液分離，清水不斷流出，泥漿自動(dòng)排放。

6)、全自動(dòng)控制：各道工序的工藝參數(shù)的測(cè)量、顯示、各種遷移泵的啟停，添加藥劑的計(jì)量泵工作，攪拌器的運(yùn)轉(zhuǎn)，均有自動(dòng)化儀表pH、ORP自動(dòng)化儀表來(lái)控制，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)操控。

7)、填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白：復(fù)合法槽邊處理機(jī)，目前從國(guó)內(nèi)外資料查詢，類似這種結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，尚未見(jiàn)報(bào)道。

本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說(shuō)明書(shū)中闡述，并且，部分地從說(shuō)明書(shū)中變得顯而易見(jiàn)，或者通過(guò)實(shí)施本發(fā)明而了解。本發(fā)明的目的和其他優(yōu)點(diǎn)在說(shuō)明書(shū)、權(quán)利要求書(shū)以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)和獲得。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合所附附圖，作詳細(xì)說(shuō)明如下。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實(shí)施方式，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種電鍍污水處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)框圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例二提供的一種電鍍污水處理設(shè)備的立體圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例二提供的一種電鍍污水處理設(shè)備的側(cè)視圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例二提供的一種電鍍污水處理設(shè)備的D-D的剖視圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例三提供的一種電鍍污水處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)框圖。

圖例：100-第一反應(yīng)室；200-第二反應(yīng)室；300-加藥裝置；400-高速反應(yīng)器；500-固液分離槽；301-第一加藥口；302-第二加藥口；303-第三加藥口；1-第一反應(yīng)槽；2-第一滯留槽；3-第二反應(yīng)槽；4-第二滯留槽；5-滾輪；6-底座；7-第一高速反應(yīng)器；8-進(jìn)水口；9-第二高速反應(yīng)器；10-輸液泵；11-儲(chǔ)藥箱；12-管線盒；13-計(jì)量泵；14-pH計(jì)；15-過(guò)濾器；16-攪拌器；17-ORP計(jì)；18-斜板；19-過(guò)濾網(wǎng)；20-污泥圓盤(pán)分散緩沖器；21-排污口；22-遷移泵；23-沉淀池；24-第三反應(yīng)槽；25-第三滯留槽；26-安裝支架；27-溢流溝；01-電控箱；02-電鍍污水處理設(shè)備。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

考慮到現(xiàn)有技術(shù)中污水處理設(shè)備的污水處理效果不理想?；诖?，本發(fā)明實(shí)施例提供的一種電鍍污水處理設(shè)備以及系統(tǒng)，以解決現(xiàn)有技術(shù)中污水處理效果不理想技術(shù)問(wèn)題，能夠改善污水處理效果，同時(shí)能夠提高處理效率。

實(shí)施例一：

如圖1所示，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種電鍍污水處理設(shè)備，該設(shè)備包括：

第一反應(yīng)室100、第二反應(yīng)室200和加藥裝置300，沿著第一反應(yīng)室100指向第二反應(yīng)室200的方向依次設(shè)置有高速反應(yīng)器400和固液分離槽500。

其中，加藥裝置300用于向處于第一反應(yīng)室100與固液分離槽500之間的待處理電鍍污水添加藥劑。

具體的，加藥裝置300可以通過(guò)處于第一反應(yīng)室100與固液分離槽500之間的管道進(jìn)行添加藥劑，加藥裝置300還可以直接向高速反應(yīng)器400和固液分離槽500中添加藥劑，藥劑包括包括重金屬去除劑、大分子絮凝助劑、高分子絮凝劑、鎳金屬去除劑、中性助凝劑等。

第一反應(yīng)室100用于對(duì)待處理電鍍污水進(jìn)行預(yù)處理。

具體的，第一反應(yīng)室100設(shè)置有進(jìn)水口，待處理電鍍污水經(jīng)進(jìn)水口注入第一反應(yīng)室100進(jìn)行預(yù)處理，預(yù)處理可以包括油水分離(可選步驟)、調(diào)節(jié)反應(yīng)環(huán)境(如攪拌、調(diào)節(jié)pH值、ORP電位)。

第二反應(yīng)室200用于對(duì)固液分離槽500分離后的液體進(jìn)行后處理，以滿足中水回用。

具體的，后處理包括過(guò)濾、攪拌、中水再處理(攪拌、調(diào)節(jié)pH值)、返回生長(zhǎng)線循環(huán)使用。

實(shí)施例二：

本發(fā)明實(shí)施例提供一種電鍍污水處理設(shè)備，如圖2至圖4所示，該設(shè)備包括：

第一反應(yīng)室100、第二反應(yīng)室200和加藥裝置300，沿著第一反應(yīng)室100指向第二反應(yīng)室200的方向依次設(shè)置有高速反應(yīng)器400和固液分離槽500。

其中，加藥裝置300用于向處于第一反應(yīng)室100與固液分離槽500之間的待處理電鍍污水添加藥劑。

具體的，加藥裝置300可以通過(guò)處于第一反應(yīng)室100與固液分離槽500之間的管道進(jìn)行添加藥劑，加藥裝置300還可以直接向高速反應(yīng)器400和固液分離槽500中添加藥劑，藥劑包括包括重金屬去除劑、大分子絮凝助劑、高分子絮凝劑、鎳金屬去除劑、中性助凝劑等。

第一反應(yīng)室100用于對(duì)待處理電鍍污水進(jìn)行預(yù)處理。

具體的，第一反應(yīng)室100設(shè)置有進(jìn)水口8，待處理電鍍污水經(jīng)進(jìn)水口8注入第一反應(yīng)室100進(jìn)行預(yù)處理，預(yù)處理可以包括油水分離(可選步驟)、調(diào)節(jié)反應(yīng)環(huán)境(如攪拌、調(diào)節(jié)pH值、ORP電位)。

第二反應(yīng)室200用于對(duì)固液分離槽500分離后的液體進(jìn)行后處理，以滿足中水回用。

具體的，后處理包括過(guò)濾、攪拌、中水再處理(攪拌、調(diào)節(jié)pH值)、返回生長(zhǎng)線循環(huán)使用。

進(jìn)一步的是，第一反應(yīng)室100設(shè)置有用于加速反應(yīng)的攪拌槽和用于使反應(yīng)更徹底的滯留槽，第二反應(yīng)室200也設(shè)置有用于加速反應(yīng)的攪拌槽和用于使反應(yīng)更徹底的滯留槽；其中，所述攪拌槽內(nèi)設(shè)置有攪拌器16，所述滯留槽內(nèi)設(shè)置有液位控制器(圖中未示出)。液位控制器用于控制第一反應(yīng)室100、第二反應(yīng)室200的液位變化，以實(shí)現(xiàn)對(duì)設(shè)備的工作效率進(jìn)行控制，同時(shí)防止處理不達(dá)標(biāo)，還可以起到防止液體溢出污染環(huán)境、損壞設(shè)備零部件的效果。

其中，第一反應(yīng)室100的攪拌槽至少包括第一反應(yīng)槽1、第二反應(yīng)槽3，滯留槽至少包括第一滯留槽2和第二滯留槽4，具體位置關(guān)系參照?qǐng)D4，第一反應(yīng)槽1、第一滯留槽2、第二反應(yīng)槽3和第二滯留槽4通過(guò)內(nèi)部管路依次連通，第一反應(yīng)槽1底部設(shè)置有進(jìn)水口8，待處理電鍍污水由底部的進(jìn)水口8注入第一反應(yīng)槽1，在第一反應(yīng)槽1內(nèi)通過(guò)調(diào)節(jié)反應(yīng)環(huán)境，如通過(guò)pH計(jì)14、ORP計(jì)17調(diào)節(jié)pH值、ORP電位值，經(jīng)過(guò)攪拌器16攪拌加速，可以將六價(jià)鉻還原為三價(jià)鉻，然后由第一反應(yīng)槽1上方管路注入第一滯留槽2，在第一滯留槽2內(nèi)滯留，使還原更徹底，然后有第一滯留槽2下部管路進(jìn)入第二反應(yīng)槽3，在第二反應(yīng)槽3內(nèi)通過(guò)再次調(diào)節(jié)反應(yīng)環(huán)境，如pH值，經(jīng)過(guò)進(jìn)一步的攪拌加速反應(yīng)后，由第二反應(yīng)槽3上部管路流入第二滯留槽4，在第二滯留槽4內(nèi)滯留反應(yīng)，從而達(dá)到使反應(yīng)完全，能夠?qū)崿F(xiàn)待去除離子的微量化。待處理電鍍污水經(jīng)過(guò)由下到上到下到上到下，使反應(yīng)更加徹底，然后經(jīng)管道輸出進(jìn)行后續(xù)工藝處理。

需要說(shuō)明的是，該設(shè)備還可以包括用于進(jìn)行油水分離的油水分離槽(圖中未示出)，油水分離槽與第一反應(yīng)室100通過(guò)管路連通，此時(shí)，進(jìn)水口8設(shè)置在油水分離槽中，經(jīng)油水分離后進(jìn)入第一反應(yīng)室100。

第二反應(yīng)室200設(shè)置由攪拌槽和滯留槽，其中攪拌槽至少包括第三反應(yīng)槽24，滯留槽至少包括第三滯留槽25，經(jīng)過(guò)固液分離槽500分離后的液體(中水)由下部進(jìn)入第三反應(yīng)槽24，為了進(jìn)一步優(yōu)化污水處理效果，避免微量的重金屬離子引起交叉污染以及酸堿反應(yīng)不完全，在第三反應(yīng)槽24內(nèi)調(diào)節(jié)反應(yīng)環(huán)境，如由pH計(jì)14調(diào)節(jié)pH值至7.5，經(jīng)過(guò)攪拌器16攪拌加速后，由第三反應(yīng)槽24上部管路注入第三滯留槽25，中水在第三滯留槽25內(nèi)滯留，使酸堿反應(yīng)更徹底，以滿足中水回用，然后有管道輸出，進(jìn)行后續(xù)循環(huán)使用。

優(yōu)選的是，高速反應(yīng)器400至少包括第一高速反應(yīng)器7和第二高速反應(yīng)器9，第一高速反應(yīng)器7和第二高速反應(yīng)器9的長(zhǎng)度方向垂直于豎直方向且沿豎直方向排列設(shè)置，一方面，第一高速反應(yīng)器7和第二高速反應(yīng)器9在長(zhǎng)度方向上垂直于豎直方向且沿豎直方向橫向并排設(shè)置可以減少輸液泵10的動(dòng)能損耗；另一方面還可以可以減小其占用體積，從而減小了整個(gè)設(shè)備的體積，有利于實(shí)現(xiàn)設(shè)備的小型化。

進(jìn)一步的是，加藥裝置300至少包括三個(gè)加藥器，分別用于向第一高速反應(yīng)器7、第二高速反應(yīng)器9和固液分離槽500中添加藥劑。

具體的，加藥裝置300至少包括第一加藥器、第二加藥器和第三加藥器，分別用于通過(guò)第一加藥口301、第二加藥口302和第三加藥口303向第一高速反應(yīng)器7、第二高速反應(yīng)器9和固液分離槽500中添加反應(yīng)用藥劑。在第一高速反應(yīng)器7中，添加的藥劑與污水中的重金屬離子化合成復(fù)合物，在第二高速反應(yīng)器9內(nèi)，將另一種藥劑與污水化合。需要說(shuō)明的是，圖2中示出了第一加藥口301的位置設(shè)置在管道上，當(dāng)然也可以設(shè)置在第一高速反應(yīng)器7的任意位置上，只要是能夠?qū)崿F(xiàn)向第一高速反應(yīng)器7加藥功能，均在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。其他加藥口的位置設(shè)置類比第一加藥口301，在此不在贅述。

加藥裝置300還設(shè)置有用于控制藥量的計(jì)量泵13。

優(yōu)選的是，計(jì)量泵13的下方設(shè)置有過(guò)濾器15，過(guò)濾器15用于對(duì)添加的藥劑進(jìn)行過(guò)濾，濾掉添加藥劑中的雜質(zhì)，使藥劑較為干凈澄清。經(jīng)過(guò)過(guò)濾后的藥劑經(jīng)過(guò)加藥管道加入到高速反應(yīng)器400或固液分離槽500中。

進(jìn)一步的是，該設(shè)備還包括儲(chǔ)藥箱11，儲(chǔ)藥箱11與第一加藥口301、第二加藥口302、第三加藥口303通過(guò)管道連通，且該連通的管道上設(shè)置有用于控制藥量的計(jì)量泵13；需要說(shuō)明的是，該管道上設(shè)置由電磁閥，用于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)添加藥劑。

優(yōu)選的是，該設(shè)備還包括斜板18和安裝支架26。

其中，斜板18為蜂窩狀，一方面可以起到增大接觸面積的作用，另一方面方便固體下滑，安裝支架26設(shè)置于固液分離槽500的內(nèi)壁上，斜板18設(shè)置于安裝支架26上，斜板18的上方還設(shè)置有溢流溝27。

進(jìn)一步的是，第二反應(yīng)室200與固液分離槽500之間設(shè)置有過(guò)濾網(wǎng)19。經(jīng)固液分離槽500進(jìn)行固液分離后的液體由溢流溝27溢出經(jīng)過(guò)濾網(wǎng)19進(jìn)入第二反應(yīng)室200。

具體的，過(guò)濾網(wǎng)19材質(zhì)為不銹鋼，經(jīng)固液分離槽500進(jìn)行固液分離后的液體由溢流溝27溢出經(jīng)過(guò)濾網(wǎng)19有底部進(jìn)入第二反應(yīng)室200中的第三反應(yīng)槽24。溢流溝27與第三反應(yīng)室之間設(shè)置有一個(gè)溢出通道，過(guò)濾網(wǎng)19設(shè)置在溢流溝27與溢出通道的上部和/或溢出通道與第三反應(yīng)槽24的下部溢流孔處，溢流孔的高度約為50mm；也就是說(shuō)，過(guò)濾網(wǎng)19的設(shè)置有三種方式：第一種方式：在溢流溝27與溢出通道的上方可以設(shè)置一個(gè)過(guò)濾網(wǎng)19，第二種方式：在溢出通道與第三反應(yīng)槽24的下部溢流孔處設(shè)置一個(gè)過(guò)濾網(wǎng)19，第三種方式是在前述的兩個(gè)位置處均設(shè)置由過(guò)濾網(wǎng)19，圖2示出了第三種方式。

優(yōu)選的是，固液分離槽500底部設(shè)置有沉淀池23，將加完藥劑的廢水進(jìn)行固液分離，沉淀池23為“V”型，設(shè)置成“V”型利于生成的固體(污泥)下滑。

進(jìn)一步的是，固液分離槽500內(nèi)設(shè)置有用于分散污泥，使污泥流動(dòng)的污泥圓盤(pán)分散緩沖器20。

具體的，固液分離槽500的外側(cè)還設(shè)置有排污口21，排污口21設(shè)置有排污閥，用于定時(shí)排放污泥；污泥圓盤(pán)分散緩沖器20的外部連接有電機(jī)驅(qū)動(dòng)，污泥圓盤(pán)分散緩沖器20與排污口21相連，污泥圓盤(pán)分散緩沖器20能夠產(chǎn)生大面積的推流作用，以增加池底水體流動(dòng)，防止污泥沉積堵塞排污口21。污泥采用污泥圓盤(pán)分散緩沖器20以及斜板18沉淀，在最短時(shí)間內(nèi)達(dá)到固液分離，清水不斷流出，泥漿自動(dòng)排放，能夠使固液分離槽500實(shí)現(xiàn)快速沉淀、固液分離。

需要說(shuō)明的是，沉淀池23的固體部分通過(guò)排污口21經(jīng)管道引至一污泥濃縮池，污泥濃縮池與污泥壓濾機(jī)相連。沉淀污泥自動(dòng)排入廢水處理站污泥濃縮池，經(jīng)污泥壓濾機(jī)壓濾成干餅，交有資質(zhì)單位統(tǒng)一處理。

優(yōu)選的是，該設(shè)備還包括輸液泵10和遷移泵22；其中，

輸液泵10，又叫提升泵，設(shè)置于第一反應(yīng)室100與高速反應(yīng)器400之間，用于輸送待處理電鍍污水。

具體的，輸液泵10設(shè)置于第二滯留槽4與第一高速反應(yīng)器7之間，各道工序的廢水流轉(zhuǎn)，采用輸液泵10進(jìn)行一次提升，推流式前進(jìn)，降低了其動(dòng)能損耗。

遷移泵22，又稱為循環(huán)泵，與第二反應(yīng)室200相連接，用于將處理后的液體向外輸送進(jìn)行循環(huán)利用。

具體的，遷移泵22與第四滯留槽相連接，用于將處理過(guò)的中水進(jìn)行回用，輸出至生產(chǎn)線進(jìn)行使用，在輸出至生產(chǎn)線的管道上還可以設(shè)置冷卻器，冷卻器與遷移泵22的輸出端相連接，也就是中水回用再次應(yīng)用于原漂洗工序，從而形成了一個(gè)閉環(huán)循環(huán)，真正做到電鍍工藝過(guò)程實(shí)現(xiàn)微排放，節(jié)能環(huán)保，提高了處理效率和效果，避免了交叉污染。

作為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，遷移泵22為化工流程泵或磁力泵。

化工流程泵是化工生產(chǎn)過(guò)程中所使用的各種泵的總稱，其種類很多，按照其作用原理可分為葉片泵，如離心泵、軸流泵、混流泵、部分流泵、旋渦泵等；容積泵，如往復(fù)泵(包括柱塞泵、活塞泵、隔膜泵等)；回轉(zhuǎn)泵(包括螺桿泵、液環(huán)泵齒輪泵、滑片泵、羅茨泵、徑向柱塞泵等)。化工流程泵能夠在高溫、低溫、高壓、易燃、易爆、有毒腐蝕介質(zhì)下工作，其耐腐蝕性優(yōu)良，密閉性好，耐磨損性極佳。

磁力泵是將永磁聯(lián)軸的工作原理應(yīng)用于離心泵的新產(chǎn)品，設(shè)計(jì)合理，工藝先進(jìn)，具有全密封，無(wú)泄漏，耐腐蝕等特點(diǎn)。磁力泵(磁力驅(qū)動(dòng)泵)主要由泵頭、磁力傳動(dòng)器(磁缸)、電動(dòng)機(jī)、連接底板等幾部分零件組成。磁力泵磁力傳動(dòng)器由外磁轉(zhuǎn)子、內(nèi)磁轉(zhuǎn)子及不導(dǎo)磁的隔離套組成當(dāng)電動(dòng)機(jī)帶動(dòng)外磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)時(shí)，磁場(chǎng)能穿透空氣隙和非磁性物質(zhì)，帶動(dòng)與葉輪相連的內(nèi)磁轉(zhuǎn)子作同步旋轉(zhuǎn)，實(shí)現(xiàn)動(dòng)力的無(wú)接觸同步傳遞，將容易泄露的動(dòng)密封結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)化為零泄漏的靜密封結(jié)構(gòu)。由于泵軸、內(nèi)磁轉(zhuǎn)子被泵體、隔離套完全封閉，從而徹底解決了“跑、冒、滴、漏”問(wèn)題。

進(jìn)一步的是，該設(shè)備還包括底座6，底座6設(shè)置有滾輪5，滾輪5設(shè)置有剎車(chē)裝置，剎車(chē)裝置具體可以是剎車(chē)片。

其中，底座6用于支撐整個(gè)設(shè)備，滾輪5用于方便設(shè)備的移動(dòng)搬遷。

優(yōu)選的是，該設(shè)備還包括管線盒12，所述管線盒12用于收納動(dòng)力線，使整個(gè)設(shè)備美觀整潔。整個(gè)設(shè)備有各種管線幾十條，全部采取隱蔽結(jié)構(gòu)，外觀整潔。此外，各部件總成裝卸方便，便于維修。

需要說(shuō)明的是，經(jīng)處理后的中水中有害物質(zhì)可以達(dá)到國(guó)家排放標(biāo)準(zhǔn)。但是，處理過(guò)程中由于酸堿中和，產(chǎn)生的鹽類如硫酸鈉、氯化鈉在水中不斷增加。鹽的產(chǎn)生在處理過(guò)程中不可避免，直接排放不會(huì)對(duì)環(huán)境有所影響。但是含量達(dá)到一定值時(shí)，會(huì)影響漂洗質(zhì)量，為了不讓它積累，一天工作后，將生產(chǎn)線上的逆流漂洗槽(污水的源頭，逆流漂洗槽的污水由電鍍污水處理設(shè)備進(jìn)水口流入電鍍污水處理設(shè)備)的漂洗水全部排入廢水處理站，經(jīng)處理合格后排入下水管網(wǎng)。生產(chǎn)線上的逆流漂洗槽中重新注入自來(lái)水，每天更換一次或兩天更換一次，具體根據(jù)各廠實(shí)際情況而定。

實(shí)施例三：

本發(fā)明實(shí)施例提供一種電鍍污水處理系統(tǒng)，如圖2和圖5所示，該系統(tǒng)包括：電控箱01和上述實(shí)施例所述的電鍍污水處理設(shè)備02。

電控箱01包括主控器，主控器用于控制電鍍污水處理設(shè)備02運(yùn)行，以實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化操作。電控箱01作為整個(gè)設(shè)備的大腦，采用集成電路設(shè)計(jì)，控制整個(gè)設(shè)備正常工作、運(yùn)轉(zhuǎn)。

具體的，如圖2所示，電控箱01可以集成設(shè)置在電鍍污水處理設(shè)備02上，以節(jié)省整個(gè)系統(tǒng)的占用面積，減小了設(shè)備體積；電控箱01也可以單獨(dú)的分離出來(lái)，例如電控箱01可以是工業(yè)控制計(jì)算機(jī)，通過(guò)有線模塊(如RS485總線、光纖)或者無(wú)線模塊(如WiFi、3G、4G網(wǎng)絡(luò))實(shí)現(xiàn)對(duì)設(shè)備的控制。

進(jìn)一步的是，電控箱01還包括pH計(jì)調(diào)節(jié)儀、ORP計(jì)調(diào)節(jié)儀、自動(dòng)加藥控制器、攪拌控制器、泵的啟?？刂蒲b置。

其中，pH計(jì)調(diào)節(jié)儀與pH計(jì)14相連接，用于實(shí)現(xiàn)pH的自動(dòng)控制；ORP計(jì)調(diào)節(jié)儀與ORP計(jì)17相連接，用于實(shí)現(xiàn)氧化還原電位的自動(dòng)控制；自動(dòng)加藥控制器與計(jì)量泵13相連接，用于實(shí)現(xiàn)添加藥劑的自動(dòng)控制；攪拌控制器與攪拌器16相連接，用于控制攪拌器16的運(yùn)行；泵的啟停控制裝置與設(shè)備的各種泵(如輸液泵10、遷移泵22)相連接，用于控制泵的啟停。

在本發(fā)明實(shí)施例的描述中，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本發(fā)明中的具體含義。

所述功能如果以軟件功能單元的形式實(shí)現(xiàn)并作為獨(dú)立的產(chǎn)品銷(xiāo)售或使用時(shí)，可以存儲(chǔ)在一個(gè)計(jì)算機(jī)可讀取存儲(chǔ)介質(zhì)中?；谶@樣的理解，本發(fā)明的技術(shù)方案本質(zhì)上或者說(shuō)對(duì)現(xiàn)有技術(shù)做出貢獻(xiàn)的部分或者該技術(shù)方案的部分可以以軟件產(chǎn)品的形式體現(xiàn)出來(lái)，該計(jì)算機(jī)軟件產(chǎn)品存儲(chǔ)在一個(gè)存儲(chǔ)介質(zhì)中，包括若干指令用以使得一臺(tái)計(jì)算機(jī)設(shè)備(可以是個(gè)人計(jì)算機(jī)，服務(wù)器，或者網(wǎng)絡(luò)設(shè)備等)執(zhí)行本發(fā)明各個(gè)實(shí)施例所述方法的全部或部分步驟。而前述的存儲(chǔ)介質(zhì)包括：U盤(pán)、移動(dòng)硬盤(pán)、只讀存儲(chǔ)器(ROM，Read-Only Memory)、隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM，Random Access Memory)、磁碟或者光盤(pán)等各種可以存儲(chǔ)程序代碼的介質(zhì)。

在本發(fā)明的描述中，需要說(shuō)明的是，術(shù)語(yǔ)“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。此外，術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”、“第三”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。

最后應(yīng)說(shuō)明的是：以上所述實(shí)施例，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制，本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解：任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，其依然可以對(duì)前述實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改或可輕易想到變化，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改、變化或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)所述以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。