本發(fā)明涉及一種水質(zhì)凈化系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

曝氣指將空氣中的氧強(qiáng)制向液體中轉(zhuǎn)移的過程，其目的是獲得足夠的溶解氧。此外，曝氣還有防止池內(nèi)懸浮體下沉，加強(qiáng)池內(nèi)有機(jī)物與微生物及溶解氧接觸的目的。從而保證池內(nèi)微生物在有充足溶解氧的條件下，對污水中有機(jī)物的氧化分解作用。

該技術(shù)廣泛應(yīng)用于污水凈化領(lǐng)域。

現(xiàn)有的爆氣設(shè)備的溶氧量低，凈化過程緩慢，凈化成本高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的問題是提供一種水質(zhì)凈化系統(tǒng)，克服了現(xiàn)有技術(shù)中的不足。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：水質(zhì)凈化系統(tǒng)，包括支撐架、多個(gè)支撐輥、皮帶、電機(jī)、抽水管和潛水泵，所述支撐輥安裝于所述支撐架上，所述皮帶繞于所述支撐輥外，所述電機(jī)帶動(dòng)所述支撐輥轉(zhuǎn)動(dòng)，所述皮帶傾斜設(shè)置，所述皮帶的高點(diǎn)位的上方具有分散槽箱，所述抽水管與所述潛水泵連接，所述抽水管的出水端固定于所述分散槽箱的頂部，所述分散槽箱的頂面具有水槽，所述分散水箱的前側(cè)面為自上而下的傾斜面，所述傾斜面上具有傘形導(dǎo)流槽，所述傘形導(dǎo)流槽的上端位于所述水槽的中部，下端間隔設(shè)置與所述分選槽箱的下沿處；

所述皮帶的表面均布多個(gè)延時(shí)導(dǎo)流塊。

進(jìn)一步，所述皮帶的傾斜角度為45-60°。

進(jìn)一步，所述延時(shí)導(dǎo)流塊的前側(cè)面具有自其上沿至下沿傾斜的弧形面，所述延時(shí)導(dǎo)流塊的兩側(cè)面分別具有自其側(cè)面的后側(cè)邊緣朝向前側(cè)邊緣傾斜的弧形面。

本發(fā)明具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是：由于采用上述技術(shù)方案，溶氧量高，加速污水凈化過程，凈化周期短，效率高，使用更加方便；具有結(jié)構(gòu)簡單，維修方便，加工成本低等優(yōu)點(diǎn)。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的整體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是圖1中A處的放大結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中：1-皮帶；2-支撐架；3-支撐輥；4-潛水泵；5-抽水管；6-分散槽箱；7-延時(shí)導(dǎo)流塊；8-水槽；9-傘形導(dǎo)流槽。

具體實(shí)施方式

如圖1、2所示，本發(fā)明提供一種水質(zhì)凈化系統(tǒng)，包括支撐架2、多個(gè)支撐輥3、皮帶1、電機(jī)、抽水管5和潛水泵4，支撐輥3安裝于支撐架2上，皮帶1繞于支撐輥3外，電機(jī)帶動(dòng)支撐輥3轉(zhuǎn)動(dòng)，皮帶1傾斜設(shè)置，皮帶1的高點(diǎn)位的上方具有分散槽箱6，抽水管5與潛水泵4連接，抽水管5的出水端固定于分散槽箱6的頂部，分散槽箱6的頂面具有水槽8，分散水箱的前側(cè)面為自上而下的傾斜面，傾斜面上具有傘形導(dǎo)流槽9，傘形導(dǎo)流槽9的上端位于水槽8的中部，下端間隔設(shè)置與分選槽箱的下沿處；

皮帶1的表面均布多個(gè)延時(shí)導(dǎo)流塊7。

安裝時(shí)可使皮帶的下部浸入水流中，位于皮帶1下表面的延伸導(dǎo)流塊7可將池內(nèi)的水揚(yáng)起，以此增加池內(nèi)污水的擾動(dòng)，潛水泵4通過抽水管5將水流送至水槽8中，單股水流經(jīng)傘形導(dǎo)流槽9分散為多股細(xì)流后流入皮帶1表面，此時(shí)各股細(xì)流在皮帶1上匯合后形成一層水膜，電機(jī)帶動(dòng)皮帶1沿與水流方向相反的方向轉(zhuǎn)動(dòng)，延時(shí)導(dǎo)流塊7將水膜打碎并反向推送水流，以此延長水流在皮帶1表面的停留時(shí)間，增加水流與空氣的接觸面積和接觸時(shí)間，利于水流的凈化。

皮帶1的傾斜角度為45-60°。

延時(shí)導(dǎo)流塊7的前側(cè)面具有自其上沿至下沿傾斜的弧形面，延時(shí)導(dǎo)流塊7的兩側(cè)面分別具有自其側(cè)面的后側(cè)邊緣朝向前側(cè)邊緣傾斜的弧形面。延時(shí)導(dǎo)流塊7的前側(cè)面和兩側(cè)面弧形面的設(shè)置，可增大對皮帶1表面水膜的擾動(dòng)，增加水膜與空氣之間的接觸面積。

以上對本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說明，但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，不能被認(rèn)為用于限定本發(fā)明的實(shí)施范圍。凡依本發(fā)明申請范圍所作的均等變化與改進(jìn)等，均應(yīng)仍歸屬于本發(fā)明的專利涵蓋范圍之內(nèi)。