專利名稱：印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及印刷電路板生產(chǎn)領(lǐng)域，特別是涉及ー種含有氯化銅的印刷板蝕刻廢液的處理系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
在印制電路板制作エ藝中，酸性氯化銅蝕刻液的回收再生始終困擾著印刷線路板企業(yè)，不可再生的酸性氯化銅蝕刻液中每升含有約100克至180克的銅，僅廣東省每個月產(chǎn)生的這類廢蝕刻液的含銅量就有數(shù)千噸之多，如能回收這類金屬銅并將廢蝕刻液循環(huán)再生 使用必然有著十分重大的經(jīng)濟效益和環(huán)保價值。傳統(tǒng)的印制板蝕刻廢液處理方法只單ー提取銅，而提銅后廢液直接排放，并未對蝕刻液中其他成分進行回收，造成二次污染等問題。

實用新型內(nèi)容基于此，有必要提供一種既能回收銅，而且還可回收印刷板蝕刻廢液其他成分的處理系統(tǒng)。ー種印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)，包括儲液槽、蒸發(fā)裝置、冷卻槽、沉淀分離裝置、第一電解緩沖槽、電解槽、離子膜電解槽、過濾池及第ニ電解緩沖槽，其中，所述儲液槽用于存儲印刷板蝕刻廢液，所述印刷板蝕刻廢液的成分包括氯化銅、氯化氫和氯化鈉；所述蒸發(fā)裝置與所述儲液槽相連，用于將所述印刷板蝕刻廢液中的氯化氫蒸發(fā)分離；所述冷卻槽與所述蒸發(fā)裝置相連，用于接收所述蒸發(fā)裝置產(chǎn)生的氯化氫氣體，冷凝吸收后形成鹽酸；所述沉淀分離裝置與所述蒸發(fā)裝置相連，去除氯化氫后的印刷板蝕刻廢液中的部分氯化銅在所述沉淀分離裝置被轉(zhuǎn)化為氫氧化銅沉淀，并使沉淀與溶液分離；所述第一電解緩沖槽與所述沉淀分離裝置相連，分離得到的氫氧化銅沉淀進入所述第一電解緩沖槽，并在所述第一電解緩沖槽被轉(zhuǎn)化為銅氨絡(luò)合物；所述電解槽與所述第一電解緩沖槽相連，所述銅氨絡(luò)合物在所述電解槽電解為銅單質(zhì)和氨氣；所述離子膜電解槽包括陽極區(qū)、緩沖區(qū)及陰極區(qū)，所述陽極區(qū)與所述緩沖區(qū)由陰離子膜分隔，所述緩沖區(qū)與所述陰極區(qū)由陽離子膜分隔，所述緩沖區(qū)用于接收來自所述沉淀分離裝置的去除氫氧化銅沉淀后的溶液，所述陽極區(qū)用于電解產(chǎn)生通入所述冷卻槽的氯氣，所述陰極區(qū)用于電解產(chǎn)生銅單質(zhì)和氫氧化鈉溶液；所述過濾池與所述離子膜電解槽相連，用于過濾收集所述銅單質(zhì)；所述第二電解緩沖槽與所述過濾池相連，用于收集所述氫氧化鈉溶液。在其中一個實施例中，所述電解槽與所述第一電解緩沖槽相連，所述電解槽電解產(chǎn)生的氨氣進入所述第一電解緩沖槽，使氫氧化銅沉淀轉(zhuǎn)化為銅氨絡(luò)合物。在其中一個實施例中，所述第一電解緩沖槽與所述離子膜電解槽相連，所述第一電解緩沖槽內(nèi)經(jīng)過所述電解槽電解后的電解液分別注入所述離子膜電解槽的陽極區(qū)和緩沖區(qū)，經(jīng)過離子膜電解槽電解后的電解液注入所述第一電解緩沖槽。在其中一個實施例中，所述第二電解緩沖槽與所述沉淀分離裝置相連，并將所述氫氧化鈉溶液注入沉淀分離裝置，以將所述去除氯化氫后的印刷板蝕刻廢液中的部分氯化銅轉(zhuǎn)化為氫氧化銅沉淀。在其中一個實施例中，所述第二電解緩沖槽與所述離子膜電解槽相連，并將所述第二電解緩沖槽內(nèi)的氫氧化鈉溶液注入所述離子膜電解槽的陰極區(qū)?！N印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng),包括 儲液槽；與儲液槽流體相通的蒸發(fā)裝置；與蒸發(fā)裝置流體相通提取蒸發(fā)氣體的冷卻槽；與蒸發(fā)裝置流體相通以提取經(jīng)蒸發(fā)后剰余液體并于其中發(fā)生沉淀反應(yīng)的沉淀分離裝置；與沉淀分離裝置流體相通以將沉淀分離裝置中產(chǎn)生的沉淀收集的第一電解緩沖槽；與第一電解緩沖槽循環(huán)流通的電解槽；與沉淀分離裝置流體相通以將經(jīng)沉淀后的剰余液體抽取于其中發(fā)生電解的離子膜電解槽；以及與離子膜電解槽流體相通的第二電解緩沖槽。在其中一個實施例中，所述第二電解緩沖槽與沉淀分離裝置流體相通以向沉淀分離裝置供給沉淀反應(yīng)所需液體。在其中一個實施例中，所述離子膜電解槽與第一電解緩沖槽流體相通以提取第一緩沖槽中液體，離子膜電解槽與第二電解緩沖槽之間進ー步設(shè)有過濾池。在其中一個實施例中，所述離子膜電解槽包括陽極區(qū)、陰極區(qū)及位于陽極區(qū)和陰極區(qū)之間的緩沖區(qū)，陽極區(qū)和緩沖區(qū)之間由陰離子膜隔開，陰極區(qū)和緩沖區(qū)之間由陽離子膜隔開，所述冷卻槽與陽極區(qū)流體相通，所述沉淀分離裝置與緩沖區(qū)流體相通，第一電解緩沖槽與陽極區(qū)及緩沖區(qū)同時流體相通。在其中一個實施例中，所述離子膜電解槽進ー步包括ー個與陽極區(qū)流體相通的暫存槽，暫存槽進ー步與第一電解緩沖槽流體相通。在其中一個實施例中，所述冷卻槽同時與離子膜電解槽流體相通以收集電解產(chǎn)生的氣體。上述系統(tǒng)與印刷板蝕刻線相互連接后，通過先蒸發(fā)后電解的方式實現(xiàn)銅的回收，同時可在電解過程中回收堿。

圖I為ー實施例的印刷板蝕刻廢液的處理系統(tǒng)的架構(gòu)圖；圖2為ー實施例的印刷板蝕刻廢液的處理方法的流程圖。
具體實施方式
為使本實用新型的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，
以下結(jié)合附圖對本實用新型的具體實施方式
做詳細的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細節(jié)以便于充分理解本實用新型。但是本實用新型能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本實用新型內(nèi)涵的情況下做類似改進，因此本實用新型不受下面公開的具體實施的限制。為了解決傳統(tǒng)的印制板蝕刻廢液處理方法只単一提取銅，而提銅后廢液直接排放，并未對蝕刻液中其他成分進行回收，造成二次污染等問題，本方案采用電解、電滲析技術(shù)，不僅能將蝕刻液中的銅得以回收，而且采用離子膜電解的方法還可回收HCl、NaOH等其他成分，整個系統(tǒng)不產(chǎn)生二次污染，蝕刻液得到了資源循環(huán)利用。在以下描述中，“液接管”指的是ー種液體能夠從中流動的管道；“氣接管”指的是一種氣體能夠從中流動的管道。在本實用新型中，兩設(shè)備之間的管道無論是傳輸氣體還是液體均可以理解成流體相通。液體或氣體的流動都可以通過驅(qū)動裝置的加壓或減壓等方式 來實現(xiàn)，為了更好的說明本實用新型的原理，這些驅(qū)動裝置的描述被省略。圖I顯示了一實施例的印刷板蝕刻廢液的處理系統(tǒng)的架構(gòu)示意圖。請參閱圖1，一實施例的印刷板蝕刻廢液的處理系統(tǒng)100包括儲液槽10、蒸發(fā)裝置20、冷卻槽30、沉淀分離裝置40、第一電解緩沖槽50、電解槽60、離子膜電解槽70、過濾池80及第ニ電解緩沖槽90。印刷板蝕刻廢液從生產(chǎn)印刷電路板的蝕刻線流入并存儲在儲液槽10里。所述印刷板蝕刻廢液的成分主要包括氯化銅、氯化氫和氯化鈉。根據(jù)蝕刻廢液的不同，也可能包括鉀、鐵、鎳等其他金屬離子。蒸發(fā)裝置20與儲液槽10通過液接管11流體相通，并通過氣接管21與冷卻槽30流體相通。蒸發(fā)裝置20內(nèi)設(shè)有加熱裝置，能夠?qū)膬σ翰?0進入蒸發(fā)裝置20的印刷板蝕刻廢液加熱，例如加熱到50°C，從而使印刷板蝕刻廢液中的部分氯化氫蒸發(fā)成氣體后分離，并通過氣接管21進入到冷卻槽30中。冷卻槽30的上方設(shè)有兩個冷凝器(未標(biāo)示)，從氣接管21通入的氯化氫氣體的溫度可以在冷凝器中被冷卻至5 10°C，當(dāng)冷凝成液體后，氯化氫氣體會被冷卻槽30內(nèi)的水所吸收形成鹽酸。沉淀分離裝置40通過液接管23與蒸發(fā)裝置20流體相通，去除氯化氫后的印刷板蝕刻廢液通過液接管23進入到沉淀分離裝置40內(nèi)。當(dāng)往沉淀分離裝置40內(nèi)投入堿液(例如NaOH)吋，印刷板蝕刻廢液中的部分氯化銅能夠轉(zhuǎn)化為氫氧化銅沉淀，然后經(jīng)過分離得到氫氧化銅沉淀以及富含NaCl的上清溶液。為了加速轉(zhuǎn)化效率，沉淀分離裝置40內(nèi)還設(shè)有攪拌裝置(未標(biāo)示)。反應(yīng)方程式為CuCl2+2Na0H—2Cu(0H)2丨 +NaCl第一電解緩沖槽50通過液接管41與沉淀分離裝置40流體相通。沉淀分離裝置40分離得到的氫氧化銅沉淀通過液接管41進入第一電解緩沖槽50后，在外部添加的氨氣或銨鹽(例如硫酸銨)的作用下，能夠轉(zhuǎn)化為銅氨絡(luò)合物。反應(yīng)方程式為Cu(OH) 2+4NH3 — [Cu (NH3) 4] 2++20H_[0047]電解槽60通過液接管51與第一電解緩沖槽50流體相通。第一電解緩沖槽50內(nèi)形成的銅氨絡(luò)合物進入電解槽60后，發(fā)生電解。陰極反應(yīng)〔Cu(NH3)4〕2++2e— Cu+4NH3由此在陰極區(qū)產(chǎn)生銅單質(zhì)和氨氣。本實施例中，產(chǎn)生的銅單質(zhì)以銅板的形式附著在陰極電極上，因此可以通過更換電極的方式將銅單質(zhì)取出。陽極反應(yīng)2NH3+2H20— 2 (NH4) ++20F[0051 ] 2 OH — l/202+H20+2e本實施例中，電解槽60還通過氣接管61與第一電解緩沖槽50流體相通。電解槽60的陰極區(qū)產(chǎn)生的氨氣通過氣接管61進入第一電解緩沖槽50，從而將氫氧化銅沉淀轉(zhuǎn)化為銅氨絡(luò)合物，以實現(xiàn)氨氣的循環(huán)利用?？梢岳斫?，如果通入第一電解緩沖槽50的氨氣是 從外部引入的，則氣接管61也可省略。離子膜電解槽70包括陽極區(qū)72、緩沖區(qū)74及陰極區(qū)76。陽極區(qū)72與緩沖區(qū)74由陰離子膜721分隔，緩沖區(qū)74與陰極區(qū)76由陽離子膜761分隔。陰離子膜721能夠使陰離子通過而阻止陽離子通過；陽離子膜761能夠使陽離子通過而阻止陰離子通過。離子膜電解槽70還包括暫存槽78。暫存槽78與陽極區(qū)72通過液接管(未標(biāo)示)相通，用于存儲經(jīng)過陽極區(qū)72電解之后的電解液。離子膜電解槽70的緩沖區(qū)74通過液接管42與沉淀分離裝置40流體相通。沉淀分離裝置40內(nèi)的包含大量NaCl及少量CuCl2的溶液可以通過液接管42進入緩沖區(qū)74，并在陽離子膜761及陰離子膜721的作用下向陽極區(qū)72及陰極區(qū)76擴散。具體的，氯離子將進入陽極區(qū)72，而銅離子和鈉離子將進入陰極區(qū)76。發(fā)生電解吋，陰極區(qū)76發(fā)生如下化學(xué)反應(yīng)Cu2++2e_ — CuCu.+e- — Cu2H20+2e — H2+20HOF+Na+ — NaOH由此產(chǎn)生銅單質(zhì)和氫氧化鈉。本實施例中，由于進入陰極區(qū)76的銅離子較少，因此產(chǎn)生的銅單質(zhì)以銅粉的形式存在于電解液中。陽極區(qū)72發(fā)生如下化學(xué)反應(yīng)H2O — l/202+2H++2e_2C1 — Cl2+2e2C12+H20 — 2HC10+2HC1陽極區(qū)72產(chǎn)生的氣體(主要為Cl2和HCl)通過連接離子膜電解槽70和冷卻槽30的氣接管34進入冷卻槽30，并在冷凝器的作用下吸收成為鹽酸。在陽極區(qū)72電解之后剩余的電解液通過液接管進入暫存槽78。在本實施例中，暫存槽78通過液接管52與第一電解緩沖槽50流體相通，且第一電解緩沖槽50通過液接管53與第一電解緩沖槽50的陽極區(qū)72及緩沖區(qū)74流體相通。第一電解緩沖槽50內(nèi)經(jīng)過電解槽60電解后的電解液通過液接管53分別注入陽極區(qū)72及緩沖區(qū)74，并將經(jīng)過離子膜電解槽70電解后的電解液通過液接管52注入第一電解緩沖槽50中，由此形成循環(huán)。可以理解，如果不需要進行多次循環(huán)，液接管52和液接管53也可省略。[0067]過濾池80與離子膜電解槽70的陰極區(qū)76通過液接管82流體相通，并過濾收集銅粉。第二電解緩沖槽90通過液接管92與過濾池80流體相通，并收集氫氧化鈉溶液。本實施例中，第二電解緩沖槽90還通過液接管94與離子膜電解槽70的陰極區(qū)76流體相通，并不斷的將氫氧化鈉溶液注入離子膜電解槽70的陰極區(qū)76，以補充陰極區(qū)76消耗的水分?？梢岳斫?，如果通過其他方式補充陰極區(qū)76消耗的水分的話，液接管94也可省略。本實施例中，第二電解緩沖槽90還通過液接管96與沉淀分離裝置40流體相通，并將氫氧化鈉溶液注入沉淀分離裝置40，以將去除氯化氫后的印刷板蝕刻廢液中的部分氯 化銅轉(zhuǎn)化為氫氧化銅沉淀?？梢岳斫?，如果采用外界引入的NaOH，則液接管96也可省略。請參閱圖2，一實施例的印刷板蝕刻廢液的處理方法，包括如下步驟步驟S101、使用儲液槽存儲印刷板蝕刻廢液，所述印刷板蝕刻廢液的成分包括氯化銅和氯化氫和氯化鈉。例如，印刷板蝕刻廢液可以存儲在儲液槽10中。步驟S102、將所述儲液槽內(nèi)的印刷板蝕刻廢液注入蒸發(fā)裝置，使印刷板蝕刻廢液中的氯化氫蒸發(fā)分離，得到的氯化氫氣體，通入到冷卻槽中，冷凝吸收后形成鹽酸。例如，可將儲液槽10中的印刷板蝕刻廢液通過液接管11注入到蒸發(fā)裝置20中進行加熱處理，從而使印刷板蝕刻廢液中的部分氯化氫蒸發(fā)成氣體后分離，并通過氣接管21進入到冷卻槽30中，冷凝形成鹽酸。步驟S103、將去除氯化氫后的印刷板蝕刻廢液注入沉淀分離裝置，并將部分氯化銅轉(zhuǎn)化為氫氧化銅沉淀，分離，得到去除氫氧化銅沉淀后的溶液。例如，可將去除氯化氫后的印刷板蝕刻廢液通過液接管23進入到沉淀分離裝置40內(nèi)，然后往沉淀分離裝置40內(nèi)投入堿液(例如NaOH)，使得印刷板蝕刻廢液中的部分氯化銅能夠轉(zhuǎn)化為氫氧化銅沉淀，然后經(jīng)過分離得到氫氧化銅沉淀以及富含NaCl的上清溶液。氫氧化銅沉淀進入步驟S104、溶液進入步驟S106。步驟S104、將所述氫氧化銅沉淀轉(zhuǎn)入第一電解緩沖槽，與氨水或銨鹽反應(yīng)生成銅氨絡(luò)合物。例如，沉淀分離裝置40分離得到的氫氧化銅沉淀通過液接管41進入第一電解緩沖槽50后，能夠在氨氣或銨鹽(例如硫酸銨)的作用下，轉(zhuǎn)化為銅氨絡(luò)合物。步驟S105、將所述銅氨絡(luò)合物注入電解槽，電解產(chǎn)生銅單質(zhì)和氨氣。例如，第一電解緩沖槽50內(nèi)形成的銅氨絡(luò)合物通過液接管51進入電解槽60后，發(fā)生電解，在陰極區(qū)和陽極區(qū)分別產(chǎn)生銅單質(zhì)和氨氣。本實施例中，電解槽60的陰極區(qū)產(chǎn)生的氨氣通過氣接管61進入第一電解緩沖槽50，從而將氫氧化銅沉淀轉(zhuǎn)化為銅氨絡(luò)合物，以實現(xiàn)氨氣的循環(huán)利用。步驟S106、將所述去除氫氧化銅沉淀后的溶液注入離子膜電解槽的緩沖區(qū)，在所述離子膜電解槽的陽極區(qū)電解產(chǎn)生氯氣，冷凝吸收后形成鹽酸；使位于所述緩沖區(qū)的電解液的銅離子和鈉離子進入所述離子膜電解槽的陰極區(qū)，在所述陰極區(qū)電解產(chǎn)生銅單質(zhì)和氫氧化鈉溶液。例如，沉淀分離裝置40內(nèi)的包含大量NaCl及少量CuCl2的溶液可以通過液接管42進入緩沖區(qū)74，并在陽離子膜761及陰離子膜721的作用下向陽極區(qū)72及陰極區(qū)76擴散，氯離子將進入陽極區(qū)72，而銅離子和鈉離子將進入陰極區(qū)76。電解時，陰極區(qū)76產(chǎn)生銅單質(zhì)和氫氧化鈉；陽極區(qū)72產(chǎn)生氯氣。陽極區(qū)72產(chǎn)生的氣體通過連接離子膜電解槽70和冷卻槽30的氣接管34進入冷卻槽30，并在冷凝器的作用下吸收成為鹽酸。在陽極區(qū)72電解之后剩余的電解液進入暫存槽78。在本實施例中，第一電解緩沖槽50內(nèi)經(jīng)過電解槽60電解后的電解液通過液接管53分別注入陽極區(qū)72及緩沖區(qū)74，并將經(jīng)過電解槽60電解后的電解液通過液接管52注入第一電解緩沖槽50中，由此形成循環(huán)。步驟S107、使用過濾池過濾收集所述銅單質(zhì)。例如，在陰極區(qū)76生成的銅單質(zhì)通過液接管82進入過濾池80，并在過濾池80被過濾收集。 步驟S108、使用第二電解緩沖槽收集所述氫氧化鈉溶液。例如，在陰極區(qū)76生成的氫氧化鈉通過液接管92進入第二電解緩沖槽90，從而在第二電解緩沖槽90收集得到濃度約為25%的氫氧化鈉溶液。優(yōu)選的，第二電解緩沖槽90內(nèi)的氫氧化鈉溶液通過液接管94進入到離子膜電解槽70的陰極區(qū)76進行循環(huán)，以補充消耗的水分。優(yōu)選的，第二電解緩沖槽90還通過液接管96將氫氧化鈉溶液注入沉淀分離裝置40，以將去除氯化氫后的印刷板蝕刻廢液中的部分氯化銅轉(zhuǎn)化為氫氧化銅沉淀。上述方法中，步驟S103 S105為Cu的主要回收渠道，步驟S106 S108為Na的主要回收渠道，兩組步驟既可以依序進行，也可以同時進行。上述系統(tǒng)與蝕刻線相互連接后，循環(huán)運作，在回收金屬銅的同時可得到HCl及NaOH,回收的酸可實時送入蝕刻線再次利用，回收的堿作相應(yīng)的存儲。整個過程無任何廢水、廢氣和廢物排放，避免了二次污染，整個蝕刻工作及回收系統(tǒng)完全實現(xiàn)自動化控制，保證整個系統(tǒng)穩(wěn)定、安全地循環(huán)工作。蝕刻液進入蒸發(fā)裝置20進行蒸發(fā)時，能夠?qū)uCl2與其中的酸性物質(zhì)HCl分離，降低蝕刻液的酸度，促進電解槽60內(nèi)的銅的析出。另ー方面，對電解槽60中的氨氣和離子膜電解槽70中氯氣抽取可以加大Cu2+和Cu+的氧化還原反應(yīng)間的化學(xué)勢能差，促進銅的電解。以上所述實施例僅表達了本實用新型的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對本實用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。因此，本實用新型專利的保護范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.ー種印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)，其特征在于，包括儲液槽、蒸發(fā)裝置、冷卻槽、沉淀分離裝置、第一電解緩沖槽、電解槽、離子膜電解槽、過濾池及第ニ電解緩沖槽，其中， 所述儲液槽用于存儲印刷板蝕刻廢液，所述印刷板蝕刻廢液的成分包括氯化銅、氯化氫和氯化鈉； 所述蒸發(fā)裝置與所述儲液槽相連，用于將所述印刷板蝕刻廢液中的氯化氫蒸發(fā)分離；所述冷卻槽與所述蒸發(fā)裝置相連，用于接收所述蒸發(fā)裝置產(chǎn)生的氯化氫氣體，冷凝吸收后形成鹽酸； 所述沉淀分離裝置與所述蒸發(fā)裝置相連，去除氯化氫后的印刷板蝕刻廢液中的部分氯化銅在所述沉淀分離裝置被轉(zhuǎn)化為氫氧化銅沉淀，并使沉淀與溶液分離； 所述第一電解緩沖槽與所述沉淀分離裝置相連，分離得到的氫氧化銅沉淀進入所述第一電解緩沖槽，并在所述第一電解緩沖槽被轉(zhuǎn)化為銅氨絡(luò)合物； 所述電解槽與所述第一電解緩沖槽相連，所述銅氨絡(luò)合物在所述電解槽電解為銅單質(zhì)和氨氣； 所述離子膜電解槽包括陽極區(qū)、緩沖區(qū)及陰極區(qū)，所述陽極區(qū)與所述緩沖區(qū)由陰離子膜分隔，所述緩沖區(qū)與所述陰極區(qū)由陽離子膜分隔，所述緩沖區(qū)用于接收來自所述沉淀分離裝置的去除氫氧化銅沉淀后的溶液，所述陽極區(qū)用于電解產(chǎn)生通入所述冷卻槽的氯氣，所述陰極區(qū)用于電解產(chǎn)生銅單質(zhì)和氫氧化鈉溶液； 所述過濾池與所述離子膜電解槽相連，用于過濾收集所述銅單質(zhì)； 所述第二電解緩沖槽與所述過濾池相連，用于收集所述氫氧化鈉溶液。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)，其特征在于，所述電解槽與所述第一電解緩沖槽相連，所述電解槽電解產(chǎn)生的氨氣進入所述第一電解緩沖槽，使氫氧化銅沉淀轉(zhuǎn)化為銅氨絡(luò)合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第一電解緩沖槽與所述離子膜電解槽相連，所述第一電解緩沖槽內(nèi)經(jīng)過所述電解槽電解后的電解液分別注入所述離子膜電解槽的陽極區(qū)和緩沖區(qū)，經(jīng)過離子膜電解槽電解后的電解液注入所述第一電解緩沖槽。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第二電解緩沖槽與所述沉淀分離裝置相連，并將所述氫氧化鈉溶液注入沉淀分離裝置，以將所述去除氯化氫后的印刷板蝕刻廢液中的部分氯化銅轉(zhuǎn)化為氫氧化銅沉淀。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第二電解緩沖槽與所述離子膜電解槽相連，并將所述第二電解緩沖槽內(nèi)的氫氧化鈉溶液注入所述離子膜電解槽的陰極區(qū)。
6.ー種印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)，其特征在于，包括 儲液槽； 與儲液槽流體相通的蒸發(fā)裝置； 與蒸發(fā)裝置流體相通提取蒸發(fā)氣體的冷卻槽； 與蒸發(fā)裝置流體相通以提取經(jīng)蒸發(fā)后剰余液體并于其中發(fā)生沉淀反應(yīng)的沉淀分離裝置； 與沉淀分離裝置流體相通以將沉淀分離裝置中產(chǎn)生的沉淀收集的第一電解緩沖槽；與第一電解緩沖槽循環(huán)流通的電解槽； 與沉淀分離裝置流體相通以將經(jīng)沉淀后的剰余液體抽取于其中發(fā)生電解的離子膜電解槽；以及 與離子膜電解槽流體相通的第二電解緩沖槽。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)，其特征在于所述第二電解緩沖槽與沉淀分離裝置流體相通以向沉淀分離裝置供給沉淀反應(yīng)所需液體。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)，其特征在于所述離子膜電解槽與第一電解緩沖槽流體相通以提取第一緩沖槽中液體，離子膜電解槽與第二電解緩沖槽之間進ー步設(shè)有過濾池。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)，其特征在于所述離子膜電解槽包括陽極區(qū)、陰極區(qū)及位于陽極區(qū)和陰極區(qū)之間的緩沖區(qū)，陽極區(qū)和緩沖區(qū)之間由陰離子膜隔開，陰極區(qū)和緩沖區(qū)之間由陽離子膜隔開，所述冷卻槽與陽極區(qū)流體相通，所述沉淀分離裝置與緩沖區(qū)流體相通，第一電解緩沖槽與陽極區(qū)及緩沖區(qū)同時流體相通。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)，其特征在于所述離子膜電解槽進ー步包括ー個與陽極區(qū)流體相通的暫存槽，暫存槽進一歩與第一電解緩沖槽流體相通。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)，其特征在于所述冷卻槽與離子膜電解槽流體相通以收集電解產(chǎn)生的氣體。
專利摘要本實用新型涉及一種印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)。該印刷板蝕刻廢液處理系統(tǒng)包括儲液槽、蒸發(fā)裝置、冷卻槽、沉淀分離裝置、第一電解緩沖槽、電解槽、離子膜電解槽、過濾池及第二電解緩沖槽。上述系統(tǒng)與蝕刻線相互連接后，通過先蒸發(fā)后電解的方式實現(xiàn)銅的回收，并在電解槽及離子膜電解槽的電解過程中回收堿。
文檔編號C02F9/10GK202643846SQ20122025697
公開日2013年1月2日 申請日期2012年6月1日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月1日
發(fā)明者陳亞東, 范瓊, 潘加永 申請人:庫特勒自動化系統(tǒng)(蘇州)有限公司