專利名稱：電鍍前處理廢水的處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種廢水處理領(lǐng)域，尤其是指一種電鍍前處理廢水的處理裝置。
背景技術(shù)：
電鍍前處理廢水是電鍍廢水處理中的重要組成部分，約占電鍍廢水總量的30%。電鍍前處理廢水成分復(fù)雜，包括油、蠟、表面活性劑、金屬氧化物、各種金屬離子等。組分變化很大，隨鍍種、前處理工藝以及工廠管理水平等而變。同時(shí)，因其含大量難降解有機(jī)物，COD高，屬難治理的廢水之一?，F(xiàn)今國(guó)內(nèi)外針對(duì)電鍍前處理廢水，以生化和物化聯(lián)合的方法進(jìn)行處理，大部分以物化(微電解、Fenton法、混凝沉淀、氣浮)_生化(厭氧、好氧活性污泥)_物化(吸附、藥劑氧化)的三級(jí)深度處理工藝為主。這類工藝投資高，占地面積大，運(yùn)行成本高，流程和操作都較復(fù)雜，理論上可以使出水達(dá)標(biāo)排放，其中的普通活性污泥法也起到一定的效果。但在實(shí)際應(yīng)用中，由于該類廢水成分復(fù)雜、COD高、水質(zhì)變化大，運(yùn)行不穩(wěn)定的情況經(jīng)常發(fā)生。這在電鍍企業(yè)中是較為普遍的問(wèn)題，這些問(wèn)題已經(jīng)嚴(yán)重抑制了電鍍廢水的治理，是電鍍廢水處理技術(shù)發(fā)展的瓶頸?，F(xiàn)有技術(shù)的電鍍前處理廢水的處理裝置采用水泥澆灌成固定的池子，需要占有一定面積來(lái)建造泵房，不僅占地面積大，且一旦廢水處理裝置建成后，其位置固定，不能移動(dòng)，不可重復(fù)利用。同時(shí)，現(xiàn)有技術(shù)的電鍍前處理廢水的處理裝置不能實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制，操作人員的勞動(dòng)強(qiáng)度大。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的提供一種能夠克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，占地面積小、處理效果好的電鍍前處理廢水的處理裝置。本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的一種電鍍前處理廢水的處理裝置，其包括有廢水處理池及PLC控制系統(tǒng)，所述廢水處理池包括依次連通的調(diào)節(jié)池、活性污泥池、MBR池、氣水分離罐、及清水池；其中，所述活性污泥池連接有營(yíng)養(yǎng)物質(zhì)儲(chǔ)藥箱，所述活性污泥池與所述MBR池均設(shè)有曝氣裝置；其還包括有補(bǔ)給泵、反沖洗泵、出水泵及真空泵，所述補(bǔ)給泵的進(jìn)水口、出水口分別與所述調(diào)節(jié)池的出水口、所述活性污泥池的底部連通，所述反沖洗泵的進(jìn)水口、出水口分別與所述清水池的出水口、所述MBR池連通，所述出水泵的進(jìn)氣口、出氣口分別與所述氣水分離罐的下腔、所述清水池連通，所述真空泵與所述氣水分離罐的上腔連通，并形成回路，所述補(bǔ)給泵、反沖洗泵、出水泵及真空泵均與所述PLC控制系統(tǒng)連接。優(yōu)選的是，其還包括有集裝箱，所述調(diào)節(jié)池、所述活性污泥池、所述MBR池及所述清水池均為鋼結(jié)構(gòu)，并容納于所述集裝箱內(nèi)。優(yōu)選的是，所述曝氣裝置為機(jī)械曝氣管及與所述機(jī)械曝氣管配合的風(fēng)機(jī)，或所述、曝氣裝置為微孔曝氣管及與與所述微孔曝氣管配合的風(fēng)機(jī)，所述風(fēng)機(jī)與所述PLC控制系統(tǒng)連接，所述活性污泥池內(nèi)設(shè)有微孔曝氣管，所述MBR池內(nèi)設(shè)有微孔曝氣管和機(jī)械曝氣管。優(yōu)選的是，所述活性污泥池設(shè)有在線氧化還原電位計(jì)、pH計(jì)及溶解氧測(cè)定儀，所述在線氧化原電位計(jì)、所述PH計(jì)及所述溶解氧測(cè)定儀均與所述PLC控制系統(tǒng)連接。優(yōu)選的是，所述活性污泥池與 所述MBR池之間通過(guò)隔板隔開(kāi)，所述隔板上設(shè)有過(guò)流孔。優(yōu)選的是，所述隔板可拆卸的固定于所述活性污泥池與所述MBR池之間.優(yōu)選的是，其還包括有污泥循環(huán)泵，所述污泥循環(huán)泵與所述活性污泥池及所述MBR池連接，形成污泥循環(huán)回路。優(yōu)選的是，其還包括有在線清洗裝置，所述在線清洗裝置與所述MBR池連通。優(yōu)選的是，所述在線清洗裝置包括有在線清洗藥桶及在線清洗泵，所述在線清洗藥桶通過(guò)所述在線清洗泵與所述MBR池連通。優(yōu)選的是，所述調(diào)節(jié)池、所述MBR池、所述清水池、所述在線清洗藥桶、所述氣水分離罐及所述營(yíng)養(yǎng)物質(zhì)儲(chǔ)藥箱均設(shè)有液位開(kāi)關(guān)，且多個(gè)所述液位開(kāi)關(guān)均與所述PLC控制系統(tǒng)連接。本實(shí)用新型電鍍前處理廢水的處理裝置與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有如下有益效果I、處理效果好MBR池(膜生物反應(yīng)器)對(duì)CODcr的去除率達(dá)90%以上；出水各項(xiàng)指標(biāo)能夠達(dá)到廣東省《水污染物排放限值》(DB44/26-2001)中的第二時(shí)段一級(jí)排放標(biāo)準(zhǔn)，出水水質(zhì)指標(biāo)中，CODcr在60mg/L以下。2、節(jié)省占地面積節(jié)省占地面積30%以上，可作為單獨(dú)處理電鍍前處理廢水的處理裝置，也可以同其他廢水處理裝置工藝聯(lián)用，達(dá)到去除廢水中COD的目的。3、易控制、處理效率高通過(guò)PLC控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)整套設(shè)備的自動(dòng)控制(除洗臉清洗除外)，提高廢水處理的效率，降低廢水處理的人工操作強(qiáng)度。4、降低廢水處理的費(fèi)用本電鍍前處理廢水的處理裝置基本無(wú)剩余污泥外排，減少污泥處理處置費(fèi)用。5、可重復(fù)利用、移動(dòng)方便所述調(diào)節(jié)池、所述活性污泥池、所述MBR池及所述清水池均為鋼結(jié)構(gòu)，并容納于所述集裝箱內(nèi)，可本處理裝置能夠移動(dòng)，可實(shí)現(xiàn)重復(fù)利用的目的；且每一個(gè)結(jié)構(gòu)均為單獨(dú)的個(gè)體，可拆卸后進(jìn)行重新組合，節(jié)省成本。

圖I為本實(shí)用新型電鍍前處理廢水的處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明如圖I所示，本實(shí)用新型電鍍前處理廢水的處理裝置，其包括有廢水處理池及PLC控制系統(tǒng)，所述廢水處理池包括依次連通的調(diào)節(jié)池I、活性污泥池2、MBR池3、氣水分離罐
4、及清水池5 ;其中，所述活性污泥池2連接有營(yíng)養(yǎng)物質(zhì)儲(chǔ)藥箱6，所述活性污泥池2與所述MBR池3均設(shè)有曝氣裝置。所述電鍍前處理廢水的處理裝置還包括有補(bǔ)給泵8、反沖洗泵9、出水泵10及真空泵11，所述補(bǔ)給泵8的進(jìn)水口、出水口分別與所述調(diào)節(jié)池I的出水口、所述活性污泥池2的底部連通，以便提升所述調(diào)節(jié)池I中的廢水到所述活性污泥池2中進(jìn)行處理；所述反沖洗泵9的進(jìn)水口、出水口分別與所述清水池5的出水口、所述MBR池3連通，通過(guò)所述反沖洗泵9從所述清水池5中抽水沖洗所述MBR池3的膜，沖刷累積在膜孔中的污染物質(zhì)，減少膜污染；所述出水泵10的進(jìn)氣口、出氣口分別與所述氣水分離罐4的下腔、所述清水池5連通，所述出水泵10提供壓力使水通過(guò)膜孔進(jìn)入到所述清水池5中；所述真空泵11與所述氣水分離罐4的上腔連通，并形成回路，所述真空泵11使所述氣水分離罐4為真空罐，從而使其內(nèi)形成負(fù)壓；所述補(bǔ)給泵8、反沖洗泵9、出水泵10及真空泵11均與所述PLC控制系統(tǒng)連接。其中，在所述氣水分離罐4與所述清水池5上分別設(shè)有磁翻板的液位計(jì)，且所述磁翻板的液位計(jì)與所述PLC控制系統(tǒng)連接；在所述氣水分離罐4與所述出水泵10之間的管道上設(shè)有壓力傳感器，所述出水泵10與所述清水池5之間設(shè)有電磁流量計(jì)，所述電磁流量計(jì)的用于測(cè)量流過(guò)所述出水泵10的水量。 為了便于移動(dòng)所述電鍍前處理廢水的處理裝置，其還包括有集裝箱(圖未示出)，所述調(diào)節(jié)池I、所述活性污泥池2、所述MBR池3及所述清水池5均為鋼結(jié)構(gòu)，并容納于所述集裝箱內(nèi)。將整套結(jié)構(gòu)安裝于所述集裝箱內(nèi)，可整體移動(dòng)，便于重復(fù)利用。所述曝氣裝置為機(jī)械曝氣管12及與所述機(jī)械曝氣管12配合的風(fēng)機(jī)14，或所述曝氣裝置為微孔曝氣管13及與與所述微孔曝氣管13配合的風(fēng)機(jī)14，所述風(fēng)機(jī)14與所述PLC控制系統(tǒng)連接，所述活性污泥池2內(nèi)設(shè)有微孔曝氣管13，所述MBR池3內(nèi)設(shè)有微孔曝氣管13和機(jī)械曝氣管12。通過(guò)所述PLC控制系統(tǒng)控制所述風(fēng)機(jī)14的動(dòng)作時(shí)間，控制所述活性污泥池2與所述MBR池3的曝氣時(shí)間。優(yōu)選在所述風(fēng)機(jī)14與所述微孔曝氣管13和所述機(jī)械曝氣管12之間的連接管上分別設(shè)有流量計(jì)23、24，所述流量計(jì)23與所述PLC控制系統(tǒng)連接。其中，所述機(jī)械曝氣管12用于沖刷所述MBR池3內(nèi)的膜表面，降低膜的污染率，防止污泥顆粒在膜表面累積而堵塞膜孔；而所述微孔曝氣管13則為活性污泥充氧，為微生物提供充足的氧氣。在本優(yōu)選實(shí)施例中，所述活性污泥池2與所述MBR池3之間通過(guò)隔板15隔開(kāi)，所述隔板15可拆卸的固定于所述活性污泥池2與所述MBR池3之間；所述隔板15上設(shè)有過(guò)流孔16，污水在經(jīng)過(guò)所述活性污泥池2之后由所述過(guò)流孔16流向所述MBR池3。其中，所述過(guò)流孔16設(shè)置于廢水液面以下，所述過(guò)流孔16距離廢水液面的距離不得大于500mm(以本實(shí)施例活性污泥池2高2m為例)。為了能夠隨時(shí)掌握所述本處理裝置的運(yùn)行狀況，以便做出相應(yīng)的應(yīng)對(duì)措施，所述活性污泥池2設(shè)有在線氧化還原電位計(jì)17、pH計(jì)18及溶解氧測(cè)定儀19，所述在線氧化原電位計(jì)17、所述pH計(jì)18及所述溶解氧測(cè)定儀19均與所述PLC控制系統(tǒng)連接。優(yōu)選的是，所述活性污泥池2與所述MBR池之間連接有污泥循環(huán)泵20，通過(guò)所述污泥循環(huán)泵20抽取所述MBR池3中的污泥回到所述活性污泥池2內(nèi)，實(shí)現(xiàn)污泥的循環(huán)利用。為了能夠?qū)Ρ倦婂兦疤幚韽U水的處理裝置能夠進(jìn)行更為徹底的清洗，其還包括有在線清洗裝置，所述在線清洗裝置包括有在線清洗藥桶21及在線清洗泵22，所述在線清洗藥桶21通過(guò)所述在線清洗泵22與所述MBR池3連通。優(yōu)選的是，可在所述在線清洗藥桶21處設(shè)有磁翻板的液位計(jì)。所述在線清洗藥桶內(nèi)的藥水為NaCIO，可根據(jù)需要定期啟動(dòng)所述在線清洗泵22進(jìn)行清洗，本實(shí)施例優(yōu)選2個(gè)月對(duì)本處理裝置進(jìn)行清洗一次。[0034]優(yōu)選的是，所述調(diào)節(jié)池I、所述MBR池3、所述清水池5、所述在線清洗藥桶21、所述氣水分離罐4及所述營(yíng)養(yǎng)物質(zhì)儲(chǔ)藥箱6均設(shè)有液位開(kāi)關(guān)，且多個(gè)所述液位開(kāi)關(guān)均與所述PLC控制系統(tǒng)連接。下面為本實(shí)用新型電鍍前處理廢水的處理裝置在實(shí)際應(yīng)用的舉例以處理廢水量為lm3/h為例所述集裝箱的尺寸為長(zhǎng)*寬*高=6m*2. 4m*2m。所述調(diào)節(jié)池I的尺寸為直徑lm，高I. 5m。
所述清水池5的尺寸為直徑0. 5m，高I. 5m。所述MBR池3和活性污泥池2 :長(zhǎng)*寬*高=2m*2m*2m，其中，可通過(guò)所述隔板15將其一分為二，分別形成所述MBR池3和所述活性污泥池2，即所述MBR池3和所述活性污泥池2的尺寸均為長(zhǎng)*寬*高=lm*lm*2m。所述營(yíng)養(yǎng)物質(zhì)儲(chǔ)藥箱6的尺寸為直徑0. 3m,高I. 5m。以上僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例，并不以此限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍；在不違反本實(shí)用新型構(gòu)思的基礎(chǔ)上所作的任何替換與改進(jìn)，均屬本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種電鍍前處理廢水的處理裝置，其特征在于，其包括有廢水處理池及PLC控制系統(tǒng)，所述廢水處理池包括依次連通的調(diào)節(jié)池、活性污泥池、MBR池、氣水分離罐、及清水池； 其中，所述活性污泥池連接有營(yíng)養(yǎng)物質(zhì)儲(chǔ)藥箱，所述活性污泥池與所述MBR池均設(shè)有曝氣裝置； 其還包括有補(bǔ)給泵、反沖洗泵、出水泵及真空泵，所述補(bǔ)給泵的進(jìn)水口、出水口分別與所述調(diào)節(jié)池的出水口、所述活性污泥池的底部連通，所述反沖洗泵的進(jìn)水口、出水口分別與所述清水池的出水口、所述MBR池連通，所述出水泵的進(jìn)氣口、出氣口分別與所述氣水分離罐的下腔、所述清水池連通，所述真空泵與所述氣水分離罐的上腔連通，并形成回路，所述補(bǔ)給泵、反沖洗泵、出水泵及真空泵均與所述PLC控制系統(tǒng)連接。
2.如權(quán)利要求I所述的電鍍前處理廢水的處理裝置，其特征在于，其還包括有集裝箱，所述調(diào)節(jié)池、所述活性污泥池、所述MBR池及所述清水池均為鋼結(jié)構(gòu)，并容納于所述集裝箱內(nèi)。
3.如權(quán)利要求I所述的電鍍前處理廢水的處理裝置，其特征在于，所述曝氣裝置為機(jī)械曝氣管及與所述機(jī)械曝氣管配合的風(fēng)機(jī)，或所述曝氣裝置為微孔曝氣管及與與所述微孔曝氣管配合的風(fēng)機(jī)，所述風(fēng)機(jī)與所述PLC控制系統(tǒng)連接，所述活性污泥池內(nèi)設(shè)有微孔曝氣管，所述MBR池內(nèi)設(shè)有微孔曝氣管和機(jī)械曝氣管。
4.如權(quán)利要求I所述的電鍍前處理廢水的處理裝置，其特征在于，所述活性污泥池設(shè)有在線氧化還原電位計(jì)、PH計(jì)及溶解氧測(cè)定儀，所述在線氧化原電位計(jì)、所述pH計(jì)及所述溶解氧測(cè)定儀均與所述PLC控制系統(tǒng)連接。
5.如權(quán)利要求I所述的電鍍前處理廢水的處理裝置，其特征在于，所述活性污泥池與所述MBR池之間通過(guò)隔板隔開(kāi)，所述隔板上設(shè)有過(guò)流孔。
6.如權(quán)利要求5所述的電鍍前處理廢水的處理裝置，其特征在于，所述隔板可拆卸的固定于所述活性污泥池與所述MBR池之間。
7.如權(quán)利要求I所述的電鍍前處理廢水的處理裝置，其特征在于，其還包括有污泥循環(huán)泵，所述污泥循環(huán)泵與所述活性污泥池及所述MBR池連接，形成污泥循環(huán)回路。
8.如權(quán)利要求I所述的電鍍前處理廢水的處理裝置，其特征在于，其還包括有在線清洗裝置，所述在線清洗裝置與所述MBR池連通。
9.如權(quán)利要求8所述的電鍍前處理廢水的處理裝置，其特征在于，所述在線清洗裝置包括有在線清洗藥桶及在線清洗泵，所述在線清洗藥桶通過(guò)所述在線清洗泵與所述MBR池連通。
10.如權(quán)利要求9所述的電鍍前處理廢水的處理裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)池、所述MBR池、所述清水池、所述在線清洗藥桶、所述氣水分離罐及所述營(yíng)養(yǎng)物質(zhì)儲(chǔ)藥箱均設(shè)有液位開(kāi)關(guān)，且多個(gè)所述液位開(kāi)關(guān)均與所述PLC控制系統(tǒng)連接。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種電鍍前處理廢水的處理裝置，其包括有廢水處理池及PLC控制系統(tǒng)，所述廢水處理池包括依次連通的調(diào)節(jié)池、活性污泥池、MBR池、氣水分離罐、及清水池；其中，所述活性污泥池連接有營(yíng)養(yǎng)物質(zhì)儲(chǔ)藥箱，所述活性污泥池與所述MBR池均設(shè)有曝氣裝置；所述電鍍前處理廢水的處理裝置還包括有補(bǔ)給泵、反沖洗泵、出水泵及真空泵。本實(shí)用新型電鍍前處理廢水的處理裝置能夠有效地降低電鍍前處理廢水中的CODcr的含量，且通過(guò)PLC控制系統(tǒng)的自動(dòng)控制，降低操作人員的工作強(qiáng)度，提高水處理的效率，且本處理裝置還能夠整體移動(dòng)，可重復(fù)利用，節(jié)省成本。
文檔編號(hào)C02F103/16GK202465450SQ20112048391
公開(kāi)日2012年10月3日 申請(qǐng)日期2011年11月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月28日
發(fā)明者劉戀, 姚志全, 陳利軍, 麥建波 申請(qǐng)人:廣東新大禹環(huán)境工程有限公司