專利名稱：用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形板出水裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種雙弧形板出水裝置，特別是用于直徑為3100mm至4200mm 的中壓柱狀離子交換設(shè)備的出水裝置，屬于工業(yè)水處理領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
目前，用于工業(yè)水處理領(lǐng)域大直徑中壓柱狀運(yùn)行設(shè)備上的出水裝置一般采用單 弧形板結(jié)構(gòu)，即一塊單弧形板上進(jìn)行開(kāi)孔，在開(kāi)孔上安裝出水器；或者采用單平板結(jié) 構(gòu)，即一塊單平整板上進(jìn)行開(kāi)孔，在所開(kāi)孔上安裝出水器，但是這類出水裝置在高流速 下存在出水不均的問(wèn)題，極易造成設(shè)備內(nèi)介質(zhì)的偏流、紊流以及填料的磨損，而且設(shè)備 內(nèi)部填料輸送不徹底，極易造成失效填料與有效填料之間的交叉污染，從而影響了制水 品質(zhì)，降低了周期制水量。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于，提供一種用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形 板出水裝置，使出水更均勻，能有效地解決設(shè)備內(nèi)介質(zhì)的偏流、紊流以及填料的磨損問(wèn) 題，當(dāng)設(shè)備中填料輸送至體外時(shí)，能確保填料輸送徹底，避免了失效填料與有效填料之 間的交叉污染，提高設(shè)備的周期制水量及制水品質(zhì)，降低運(yùn)行成本。本實(shí)用新型的技術(shù)方案一種用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形板出 水裝置，特別是用于直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè)備的出水裝置，包 括集水出水板、水力分布器和安裝孔，集水出水板由上層弧形板、下層弧形板和支撐裝 置焊接而成，上層弧形板的板面上設(shè)有安裝孔，水力分布器安裝在安裝孔上。前述的用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形板出水裝置中，上層弧形板 的曲面半徑為3000mm 20000mm,下層弧形板的端口面直徑為2800mm 4100mm、高 度為 300mm 1500mm。前述的用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形板出水裝置中，上層弧形板 的曲面半徑選擇為4200mm,下層弧形板的端口面直徑3040mm、高度為670mm。前述的用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形板出水裝置中，支撐裝置包 括2 10圈支撐環(huán)，優(yōu)選為內(nèi)側(cè)支撐環(huán)、中間支撐環(huán)和外側(cè)支撐環(huán)。前述的用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形板出水裝置中，各支撐環(huán)分 布有3 200個(gè)導(dǎo)流口，優(yōu)選為內(nèi)側(cè)支撐環(huán)上均勻分布著8 20個(gè)導(dǎo)流口、中間支撐環(huán) 上均勻分布著15 30個(gè)導(dǎo)流口和外側(cè)支撐環(huán)上均勻分布著20 50個(gè)導(dǎo)流口。設(shè)置導(dǎo) 流口可以使雙弧形板之間的水流保持均衡，確保各水力分布器出水均勻。前述的用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形板出水裝置中，內(nèi)側(cè)支撐環(huán) 上均勻分布著12個(gè)導(dǎo)流口、中間支撐環(huán)上均勻分布著21個(gè)導(dǎo)流口和外側(cè)支撐環(huán)上均勻分 布著32個(gè)導(dǎo)流口。前述的用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形板出水裝置中，設(shè)于上層弧形板上的安裝孔為圓形，孔徑為26mm 100mm，且均勻分布在以上層弧形板的中心為 圓心的同心圓上，同心圓的圈數(shù)為5 100圈，安裝孔的總數(shù)為100 1200個(gè)。前述的用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形板出水裝置中，設(shè)于上層弧 形板上的安裝孔為圓形，孔徑為51mm，且均勻分布在以上層弧形板的中心為圓心的同心 圓上，同心圓的圈數(shù)為9圈，安裝孔的總數(shù)為248個(gè)。前述的用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形板出水裝置中，集水出水板 的中心位置設(shè)有填料輸送口，且填料輸送口貫穿于上層弧形板和下層弧形板，下層弧形 板上設(shè)有出水口。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型裝置的集水出水板是由兩塊弧形板組成的，板與 板之間通過(guò)支撐環(huán)焊接后再固定于大直徑中壓柱狀設(shè)備內(nèi)壁，由于設(shè)置了導(dǎo)流口，使雙 弧形板之間的水流保持均衡，確保各水力分布器出水均勻，有效地減少了水流對(duì)設(shè)備內(nèi) 部填料的擾動(dòng)和磨損，同時(shí)極大地提高了設(shè)備內(nèi)部填料輸送率，避免了失效填料與有效 填料之間的交叉污染，提高了設(shè)備的周期制水量及制水品質(zhì)，降低了運(yùn)行成本。

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是上層弧形板和支撐裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；附圖中的標(biāo)記為1-集水出水板，2-水力分布器，3-安裝孔，4-上層弧形板， 5_下層弧形板，6-支撐裝置，7-填料輸送口，8-內(nèi)側(cè)支撐環(huán)，9-中間支撐環(huán)，10-外側(cè) 支撐環(huán)，11-導(dǎo)流口，12-出水口。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明。本實(shí)用新型的實(shí)施例1: 一種用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形板出 水裝置，特別是用于直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè)備的出水裝置，包 括集水出水板1、水力分布器2和安裝孔3，集水出水板1由上層弧形板4、下層弧形板5 和支撐裝置6焊接而成，上層弧形板4的板面上設(shè)有安裝孔3，水力分布器2安裝在安裝 孔3上。上層弧形板4的曲面半徑為3000mm,下層弧形板5的端口面直徑為2800mm、 高度為300mm。支撐裝置6包括2 10圈支撐環(huán)，優(yōu)選為內(nèi)側(cè)支撐環(huán)8、中間支撐環(huán)9 和外側(cè)支撐環(huán)10。各支撐環(huán)分布有3 200個(gè)導(dǎo)流口，優(yōu)選為內(nèi)側(cè)支撐環(huán)8上均勻分布 著8個(gè)導(dǎo)流口 11、中間支撐環(huán)9上均勻分布著15個(gè)導(dǎo)流口 11和外側(cè)支撐環(huán)10上均勻分 布著20個(gè)導(dǎo)流口 11。設(shè)于上層弧形板4上的安裝孔3為圓形，孔徑為26mm，且均勻 分布在以上層弧形板4的中心為圓心的同心圓上，同心圓的圈數(shù)為5圈，安裝孔的總數(shù)為 100個(gè)。集水出水板1的中心位置設(shè)有填料輸送口 7，且填料輸送口 7貫穿于上層弧形板 4和下層弧形板5，下層弧形板5上設(shè)有出水口 12。本實(shí)用新型的實(shí)施例2: —種用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形板出 水裝置，特別是用于直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè)備的出水裝置，包 括集水出水板1、水力分布器2和安裝孔3，集水出水板1由上層弧形板4、下層弧形板5和支撐裝置6焊接而成，上層弧形板4的板面上設(shè)有安裝孔3，水力分布器2安裝在安裝 孔3上。上層弧形板4的曲面半徑為20000mm,下層弧形板5的端口面直徑為4100mm、 高度為1500mm。支撐裝置6包括2 10圈支撐環(huán)，優(yōu)選為內(nèi)側(cè)支撐環(huán)8、中間支撐環(huán) 9和外側(cè)支撐環(huán)10。各支撐環(huán)分布有3 200個(gè)導(dǎo)流口，優(yōu)選為內(nèi)側(cè)支撐環(huán)8上均勻分 布著20個(gè)導(dǎo)流口 11、中間支撐環(huán)9上均勻分布著30個(gè)導(dǎo)流口 11和外側(cè)支撐環(huán)10上均勻 分布著50個(gè)導(dǎo)流口 11。設(shè)于上層弧形板4上的安裝孔3為圓形，孔徑為100mm，且均 勻分布在以上層弧形板4的中心為圓心的同心圓上，同心圓的圈數(shù)為100圈，安裝孔的總 數(shù)為1200個(gè)。集水出水板1的中心位置設(shè)有填料輸送口 7，且填料輸送口 7貫穿于上層 弧形板4和下層弧形板5，下層弧形板5上設(shè)有出水口 12。本實(shí)用新型的實(shí)施例3: —種用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形板出 水裝置，特別是用于直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè)備的出水裝置，包 括集水出水板1、水力分布器2和安裝孔3，集水出水板1由上層弧形板4、下層弧形板5 和支撐裝置6焊接而成，上層弧形板4的板面上設(shè)有安裝孔3，水力分布器2安裝在安裝 孔3上。上層弧形板4的曲面半徑選擇為4200mm,下層弧形板5的端口面直徑3040mm、 高度為670mm。支撐裝置6包括2 10圈支撐環(huán)，優(yōu)選為內(nèi)側(cè)支撐環(huán)8、中間支撐環(huán)9 和外側(cè)支撐環(huán)10。內(nèi)側(cè)支撐環(huán)8上均勻分布著12個(gè)導(dǎo)流口 11、中間支撐環(huán)9上均勻分 布著21個(gè)導(dǎo)流口 11和外側(cè)支撐環(huán)10上均勻分布著32個(gè)導(dǎo)流口 11。設(shè)于上層弧形板4 上的安裝孔3為圓形，孔徑為51mm，且均勻分布在以上層弧形板4的中心為圓心的同心 圓上，同心圓的圈數(shù)為9圈，安裝孔的總數(shù)為248個(gè)。集水出水板1的中心位置設(shè)有填 料輸送口 7，且填料輸送口 7貫穿于上層弧形板4和下層弧形板5，下層弧形板5上設(shè)有 出水口 12。本實(shí)用新型的使用方法根據(jù)水力分布器2的安裝尺寸在上層弧形板4上設(shè)計(jì)一 定數(shù)量的布水器安裝孔3，這些安裝孔3根據(jù)不同流量的要求以任意水力分布器2都均勻 分布在以集水出水板1中心點(diǎn)為圓心的同心圓上的方式布置。上層弧形板4和下層弧形 板5之間設(shè)有支撐裝置，并與支撐裝置焊接為一體；連接后的集水出水板1與設(shè)備本體焊 接固定于設(shè)備內(nèi)壁上，即可使設(shè)備運(yùn)行時(shí)出水均勻，達(dá)到發(fā)明的目的。
權(quán)利要求1.一種用于直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè)備的出水裝置，包括集 水出水板(1)、水力分布器(2)和安裝孔(3)，其特征在于集水出水板(1)由上 層弧形板(4)、下層弧形板(5)和支撐裝置(6)焊接而成，上層弧形板(4)的板面 上設(shè)有安裝孔(3)，水力分布器(2)安裝在安裝孔(3)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè)備的 出水裝置，其特征在于上層弧形板(4)的曲面半徑為3000mm 20000mm,下層弧形 板(5)的端口面直徑為2800mm 4100mm、高度為300mm 1500mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè)備的 出水裝置，其特征在于上層弧形板(4)的曲面半徑選擇為4200mm,下層弧形板(5) 的端口面直徑3040mm、高度為670mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè)備的 出水裝置，其特征在于支撐裝置(6)包括2 10圈支撐環(huán)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè)備的 出水裝置，其特征在于支撐環(huán)分為內(nèi)側(cè)支撐環(huán)(8)、中間支撐環(huán)(9)和外側(cè)支撐環(huán)(10)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè)備的 出水裝置，其特征在于各支撐環(huán)分布有3 200個(gè)導(dǎo)流口。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè)備的出水 裝置，其特征在于內(nèi)側(cè)支撐環(huán)(8)上均勻分布著8 20個(gè)導(dǎo)流口(11)、中間支撐 環(huán)(9)上均勻分布著15 30個(gè)導(dǎo)流口(11)、外側(cè)支撐環(huán)(10)上均勻分布著20 50個(gè)導(dǎo)流口(11)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè)備的出 水裝置，其特征在于內(nèi)側(cè)支撐環(huán)(8)上均勻分布著12個(gè)導(dǎo)流口(11)、中間支撐環(huán)(9)上均勻分布著21個(gè)導(dǎo)流口(11)、外側(cè)支撐環(huán)(10)上均勻分布著32個(gè)導(dǎo)流口(11)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè)備的出 水裝置，其特征在于設(shè)于上層弧形板(4)上的安裝孔(3)為圓形，孔徑為26mm 100mm，且均勻分布在以上層弧形板(4)的中心為圓心的同心圓上，同心圓的圈數(shù)為 5 100圈，安裝孔的總數(shù)為100 1200個(gè)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè) 備的出水裝置，其特征在于設(shè)于上層弧形板(4)上的安裝孔(3)為圓形，孔徑為 51mm，且均勻分布在以上層弧形板(4)的中心為圓心的同心圓上，同心圓的圈數(shù)為9 圈，安裝孔的總數(shù)為248個(gè)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的直徑為3100mm至4200mm的中壓柱狀離子交換設(shè)備的出 水裝置，其特征在于集水出水板(1)的中心位置設(shè)有填料輸送口(7)，且填料輸送 口(7)貫穿于上層弧形板(4)和下層弧形板(5)，下層弧形板(5)上設(shè)有出水口(12)。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于大直徑中壓柱狀離子交換設(shè)備的雙弧形板出水裝置，包括集水出水板(1)、水力分布器(2)和安裝孔(3)，集水出水板(1)由上層弧形板(4)、下層弧形板(5)和支撐裝置(6)焊接而成，上層弧形板(4)的板面上設(shè)有安裝孔(3)，水力分布器(2)安裝在安裝孔(3)上。本實(shí)用新型的集水出水板采用雙弧形板結(jié)構(gòu)，板與板之間通過(guò)設(shè)有導(dǎo)流口的支撐環(huán)焊接后再固定于設(shè)備內(nèi)壁的連接環(huán)上，使雙弧形板之間的水流保持均衡，確保各水力分布器出水均勻，有效地減少水流對(duì)設(shè)備內(nèi)部填料的擾動(dòng)和磨損，確保設(shè)備內(nèi)部填料輸送徹底，避免了失效填料與有效填料之間的交叉污染，提高了設(shè)備的期制水量及制水質(zhì)量，降低了運(yùn)行成本。
文檔編號(hào)C02F1/42GK201801403SQ20102021722
公開(kāi)日2011年4月20日 申請(qǐng)日期2010年6月7日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月7日
發(fā)明者周小琴, 沈建永, 沈明忠, 王正平 申請(qǐng)人:中國(guó)華電工程(集團(tuán))有限公司, 華電水處理技術(shù)工程有限公司