專利名稱：一種水處理裝置內(nèi)的進(jìn)水管的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于工業(yè)廢水、城市污水處理技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種處 理工業(yè)廢水、城市污水處理裝置內(nèi)的進(jìn)水管。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的水處理裝置內(nèi)部通常安裝進(jìn)水孔板，而采用活性焦過濾吸附處
理工業(yè)廢水、城市污水時(shí)，由于活性焦的碘吸附值為400-800mg/g，并且 工業(yè)廢水和城市污水中有機(jī)污染物和懸浮物含量高，需要經(jīng)常更換活性 焦，在水處理裝置內(nèi)安裝進(jìn)水孔板，雖然可以解決布水均勻的問題，但更 換活性焦很困難。即能解決布水均勻問題，又能使活性焦更換方便的進(jìn)水 管至今未見報(bào)道。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種水處理裝置內(nèi)的進(jìn)水管，以期既能布 水均勻又能方便地更換處理中的活性焦。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供的水處理裝置內(nèi)的進(jìn)水管，其水處 理裝置的殼體其上部為垂直體，其下部為倒錐形體，殼體頂部設(shè)有加料口， 殼體底部設(shè)有出料口，殼體上部設(shè)有出水管；
一水平盤管，管壁上分布有直徑為2 3mm的出水？L每兩根管道之 間的距離為300 400mm，該水平盤管安裝在垂直體的下沿和倒錐形體的 上沿結(jié)合部位；
該水平盤管的一端與進(jìn)水主管連接，另一端連接一排污橫管。 所述的進(jìn)水管，其中水平盤管與進(jìn)水主管和排污橫管之間垂直連接有 立管。
所述的進(jìn)水管，其中立管上分布有直徑為2 3mm的出水孔。 所述的進(jìn)水管，其中水平盤管和立管上所有出水孔的表面積之和為立 管截面積的1.5 2倍。
所述的進(jìn)水管，其中排污橫管的另一端穿過殼體連接一排污閥。
所述的進(jìn)水管，其中水平盤管與殼體側(cè)壁的距離為150 200mm。 所述的進(jìn)水管，其中水平盤管為方形或圓形結(jié)構(gòu)。 所述的進(jìn)水管，其中水平盤管安裝在支架上，支架的兩端與殼體內(nèi)壁 連接。
本實(shí)用新型的效果是
1) 由于本實(shí)用新型采用的殼體下部為倒錐形，且水平盤管之間的距 離較大，活性焦不會(huì)滯留在水處理裝置的殼體內(nèi)。
2) 由于本實(shí)用新型的水平盤管上分布有出水孔，可以達(dá)到布水均勻 的目的。


圖1為本實(shí)用新型的裝置結(jié)構(gòu)示意圖2為本實(shí)用新型的方形裝置A-A剖面示意圖，顯示獨(dú)立的左、右 兩列并列組合的方形結(jié)構(gòu)；
圖3為本實(shí)用新型的圓形裝置A-A剖面示意圖，顯示獨(dú)立的左、右 兩列并列組合的圓形結(jié)構(gòu)。
圖中標(biāo)記l-水平盤管、2-出水孔、3-出料口、 4-排污閥、5-立管、 6-進(jìn)水主管、7-支架、8-水處理裝置壁、9-錐形體、10-加料口、 ll進(jìn)水橫 管、12排污橫管、13-出水管、14-活性焦。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型的水處理裝置內(nèi)的進(jìn)水管，包括有水平盤管，水平盤管 的兩端各與兩根立管連接；其中一根立管的下端與進(jìn)水橫管一端相連接， 進(jìn)水橫管的另一端穿過水處理裝置的殼體與進(jìn)水主管連接；另一根立管的 下端與排污橫管一端相連接，排污橫管的另一端穿過水處理裝置的殼體與 排污閥連接；
水平盤管和立管壁上均勻分布有直徑為2 3mm的出水孔，水平盤管 和立管上所有出水孔的表面積之和為立管截面積的1.5 2倍；水平盤管
安裝的水平高度距水處理裝置的倒錐形體上沿以下150mm 200mm;水 平盤管與水處理裝置側(cè)壁的距離150 200 mm。
進(jìn)水管可以是方形結(jié)構(gòu)或圓形結(jié)構(gòu)。方形結(jié)構(gòu)的水平盤管為左、右并 列組合布置，每兩根長管道之間的距離300 400mm。
圓形結(jié)構(gòu)的水平盤管是內(nèi)圈、外圈組合布置，圓形結(jié)構(gòu)裝置中水平盤 管的每兩圈管道之間的距離300 400mm。
本實(shí)用新型的水平盤管安裝在殼體內(nèi)的支架上，支架的兩端與水處理 裝置的殼體內(nèi)壁連接。
水處理裝置的殼體內(nèi)部填充活性焦，從殼體頂部開設(shè)的加料口加入。 需要再生的活性焦從殼體底部的出料口排出。處理后的水從殼體的上部設(shè) 有出水管流出。
以下結(jié)合附圖作詳細(xì)說明。
請(qǐng)參閱圖1所示。本實(shí)用新型提供的水處理裝置內(nèi)的進(jìn)水管，包括有: 水平盤管1，水平盤管1的兩端各與兩根立管5連接；其中一根立管 5的下端與進(jìn)水橫管11 一端相連接，進(jìn)水橫管11的另一端穿過水處理裝 置8的殼體與進(jìn)水主管6連接；另一根立管5的下端與排污橫管12 —端 相連接，排污橫管12的另一端穿過水處理裝置8的殼體與排污閥4連接。 水平盤管1和立管5的壁上均勻分布有直徑為3mm的出水孔2，水 平盤管1和立管5上所有出水孔2的表面積之和為立管5截面積的2倍。 水平盤管1安裝的水平高度距水處理裝置倒錐形體上沿以下150mm。 水平盤管1與水處理裝置壁8的水平距離為150mm。 平盤管1可以設(shè)計(jì)成串聯(lián)的方形或圓形結(jié)構(gòu)，也可以設(shè)計(jì)成獨(dú)立的 左、右兩列并列組合(如圖2或圖3所示，圖2是獨(dú)立的左、右兩列并列 組合的方形結(jié)構(gòu)，圖3是獨(dú)立的左、右兩列并列組合的圓形結(jié)構(gòu))。獨(dú)立 的左、右兩列并列組合中，每兩根長管道之間的距離300mm。每列水平 盤管的兩端均連接立管5，其中一根立管5的下端與進(jìn)水橫管11 一端相 連接，另一根立管5的下端與排污橫管12 —端相連接。
水平盤管1安裝在支架7上，支架7的兩端與水處理裝置壁8連接。 水處理裝置的殼體內(nèi)部填充活性焦14、殼體頂部有加料口 10、殼體 底部有出料口3、殼體上部有出水管13。
待處理的污水自進(jìn)水主管進(jìn)入水處理裝置的殼體內(nèi)后，從水平盤管和 立管上的出水孔均勻地流入殼體內(nèi)，經(jīng)與活性焦接觸吸附處理成達(dá)到排放 標(biāo)準(zhǔn)的水由于進(jìn)水主管的壓力而從殼體上部的出水管流出。經(jīng)過一段時(shí)間 的處理后，打開排污閥將水平盤管和進(jìn)水橫管內(nèi)積存的懸浮物排出，避免 堵塞。打開殼體底部的出料口，殼體內(nèi)的活性焦因自身重力排出殼體，以 便進(jìn)行再生。再生后的活性焦從殼體頂部的加料口加入，重新開始循環(huán)。
權(quán)利要求1、一種水處理裝置內(nèi)的進(jìn)水管，其特征在于，該水處理裝置的殼體其上部為垂直體，其下部為倒錐形體，殼體頂部設(shè)有加料口，殼體底部設(shè)有出料口，殼體上部設(shè)有出水管；一水平盤管，管壁上分布有直徑為2～3mm的出水孔，每兩根管道之間的距離為300～400mm，該水平盤管安裝在垂直體的下沿和倒錐形體的上沿結(jié)合部位；該水平盤管的一端與進(jìn)水主管連接，另一端連接一排污橫管。
2、 如權(quán)利要求1所述的進(jìn)水管，其特征在于，水平盤管與進(jìn)水主管 和排污橫管之間垂直連接有立管。
3、 如權(quán)利要求2所述的進(jìn)水管，其特征在于，該立管上分布有直徑 為2 3mm的出水孔。
4、 如權(quán)利要求1或3所述的進(jìn)水管，其特征在于，水平盤管和立管 上所有出水孔的表面積之和為立管截面積的1.5 2倍。
5、 如權(quán)利要求1所述的進(jìn)水管，其特征在于，排污橫管的另一端穿 過殼體連接一排污閥。
6、 如權(quán)利要求1所述的進(jìn)水管，其特征在于，水平盤管與殼體側(cè)壁 的距離為150 200mm。
7、 如權(quán)利要求1所述的進(jìn)水管，其特征在于，水平盤管為方形或圓 形結(jié)構(gòu)。
8、 如權(quán)利要求1所述的進(jìn)水管，其特征在于，水平盤管安裝在支架 上，支架的兩端與殼體內(nèi)壁連接。
專利摘要一種水處理裝置內(nèi)的進(jìn)水管，該水處理裝置的殼體其上部為垂直體，其下部為倒錐形體，殼體頂部設(shè)有加料口，殼體底部設(shè)有出料口，殼體上部設(shè)有出水管；一水平盤管，管壁上分布有直徑為2～3mm的出水孔，每兩根管道之間的距離為300～400mm，該水平盤管安裝在垂直體的下沿和倒錐形體的上沿結(jié)合部；該水平盤管的一端與進(jìn)水主管連接，另一端連接一排污橫管。污水進(jìn)入殼體內(nèi)，從水平盤管和立管上的出水孔均勻地流入殼體內(nèi)，達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)的水從殼體上部的出水管流出。打開排污閥將水平盤管和進(jìn)水橫管內(nèi)積存的懸浮物排出。殼體內(nèi)的活性焦因自身重力自出料口排出殼體，以進(jìn)行再生。再生后的活性焦從殼體頂部的加料口加入，重新開始循環(huán)。
文檔編號(hào)C02F1/28GK201212018SQ20082008015
公開日2009年3月25日 申請(qǐng)日期2008年4月23日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月23日
發(fā)明者張大偉 申請(qǐng)人:張大偉