專利名稱：液體處理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一方面，本發(fā)明涉及一種液體處理系統(tǒng)，更具體地說，涉及一種紫外線照射的水處理 系統(tǒng)。另一方面，本發(fā)明涉及一種用于處理液體的方法，更尤其涉及一種用于照射水的方 法。
背景技術(shù)：
液體處理系統(tǒng)在本技術(shù)領(lǐng)域是眾所周知的。更具體地說，紫外線(uv)照射的液體處 理系統(tǒng)在本技術(shù)領(lǐng)域是眾所周知的。早期的處理系統(tǒng)包括包含一個(gè)或多個(gè)射線(優(yōu)選uv)
燈的全封閉的室設(shè)計(jì)。這些較早的設(shè)計(jì)存在某些問題。尤其在其用于較大規(guī)模的城市廢水 或飲用水處理廠所用的大型開放式液流處理系統(tǒng)時(shí)，這些問題是明顯的。于是，這類反應(yīng)
器存在與其相關(guān)的如下問題
反應(yīng)器的相對(duì)較高的成本；
對(duì)浸沒的反應(yīng)器和/或弄濕的設(shè)備(燈、套筒清洗器等)的較難的接近性； 與從液體處理設(shè)備中除去污垢材料相關(guān)的困難； 相對(duì)低的液體殺菌效率，和/或
需要非常冗余的設(shè)備用于弄濕的組件(套筒、燈等)的維護(hù)。 傳統(tǒng)的封閉式反應(yīng)器的缺點(diǎn)導(dǎo)致所謂的"開放式通道"反應(yīng)器的開發(fā)。 例如，美國(guó)專利4,482,809、 4,872,980和5,006,244 (都以Maarschalkerweerd的名義， 并且都轉(zhuǎn)讓給本發(fā)明的受讓人，以下簡(jiǎn)稱為Maarschalkerweerd #1專利)都描述了使用紫 外線(UV)照射的重力反饋(gravity fed)液體處理系統(tǒng)。
該系統(tǒng)包括具有多個(gè)紫外射燈的紫外射燈模塊(例如，框架)的陣列，其中每個(gè)紫外 射燈均安裝在套筒內(nèi)，該套筒在與交叉片(cross-piece)連接的一對(duì)支架之間延伸并由該 支架支撐。將這樣支撐的套筒(包含紫外射燈)浸入隨后視需要將被照射處理的液體中。 液體受照射的照射量由液體與燈的接近度、燈的輸出功率以及液體流經(jīng)燈的流速確定。典 型地，可以使用一個(gè)或多個(gè)紫外線傳感器以監(jiān)控?zé)舻淖贤饩€輸出并且通過水位閘門等在某 種程度上對(duì)處理裝置下游的液位進(jìn)行典型地控制。
Maarschalkerweerd#1專利教導(dǎo)了一種液體處理系統(tǒng)，其以如下提高的能力為特征即能從弄濕的或浸沒狀態(tài)中取出設(shè)備而不需要非常冗余的設(shè)備。這些設(shè)計(jì)將燈陣列劃分為行 和/或列并且具有如下特征使反應(yīng)器的頂端開口，從而在"頂端開口"通道中形成液體的 自由表面流。
Maarschalkerweerd#I專利教導(dǎo)的液體處理系統(tǒng)以具有液體的自由表面流(典型地，頂 部液體面未被特意地控制或約束)為特征。于是，該系統(tǒng)典型地符合明渠水力學(xué)的特性。 由于該系統(tǒng)的設(shè)計(jì)固有地包括液體的自由表面流，故在一個(gè)陣列或其他水力學(xué)上鄰近的陣 列因水位變化而受到不利影響之前，存在對(duì)每個(gè)燈或燈陣列所能處理的最大流量的約束。 在更高流量或流量發(fā)生顯著變化處，液體的未受限制的或自由的表面流可容許改變液流的 處理體積和橫截面形狀，從而使反應(yīng)器相對(duì)地失效。如果陣列中的每個(gè)燈的功率相對(duì)較低， 那么每個(gè)燈的后續(xù)液流將是相對(duì)較低的。完全的開放式通道液體處理系統(tǒng)的原理可滿足這 些具有更低功率的燈以及相應(yīng)的更低水力負(fù)荷的處理系統(tǒng)的要求。在此存在的問題是，由 于具有更少大功率的燈，故需要相對(duì)大量的燈來處理相同體積的液流。于是，系統(tǒng)的固有 成本將過高和/或不可與自動(dòng)化的燈套筒清洗和大容量液體處理系統(tǒng)的附加特點(diǎn)相競(jìng)爭(zhēng)。
這導(dǎo)致產(chǎn)生所謂的"半封閉式"液體處理系統(tǒng)。
美國(guó)專利5,418,370、 5,539,210和Re36,896 (都以Maarschalkerweerd的名義并且都轉(zhuǎn) 讓給本發(fā)明的受讓人，以下簡(jiǎn)稱為Maarschalkerweerd #2專利)都描述了使用紫外線(UV) 照射的重力反饋液體處理系統(tǒng)。通常，改進(jìn)的放射源模塊包括密封地懸掛于支撐件上的放 射源組件(典型地包括放射源和保護(hù)性(例如石英)套筒)。支撐件可以進(jìn)一步包括合適 的手段以保障重力反饋液體處理系統(tǒng)中的放射源模塊。
于是，為了解決具有很多燈以及與每個(gè)燈相關(guān)的清潔遞增的高成本的問題，具有更高 輸出功率的燈被用于紫外線的液體處理。其結(jié)果是燈的數(shù)量以及每個(gè)燈的長(zhǎng)度均顯著地降 低。這導(dǎo)致自動(dòng)化的燈套筒清洗設(shè)備的批量裝備能力、對(duì)處理系統(tǒng)的空間需要減小以及其 他好處。為使用更多大功率的燈(例如，中等壓力的紫外射燈)，在系統(tǒng)使用期間，如果 反應(yīng)器表面沒有對(duì)所有表面進(jìn)行約束，那么每個(gè)燈的水力負(fù)荷將增加到使反應(yīng)器中的液體 的處理體積/橫截面面積發(fā)生顯著變化的程度，于是該系統(tǒng)將相對(duì)地失效。因此， Maarschalkerweerd#2專利以具有閉合面為特征，該閉合面約束著將在反應(yīng)器的處理區(qū)域中 被處理的液體。該密閉的處理系統(tǒng)具有有效地設(shè)置在開放式通道中的開口端。浸沒或弄濕 的設(shè)備(紫外射燈、清洗器等)可以使用軸鉸鏈、滑動(dòng)器和各種其他裝置取出，這些裝置 可將設(shè)備從半封閉式反應(yīng)器中移出到自由表面上。
在Maarschalkerweerd #2專利中所述的液體處理系統(tǒng)典型地以具有相對(duì)較短長(zhǎng)度的燈為特征，這些燈懸掛于基本垂直的支架臂上(即，該燈僅在其一端處被支撐)。這允許燈 樞轉(zhuǎn)或從半封閉的反應(yīng)器中取出。這些明顯較短并且具有更大功率的燈固有地在將電能轉(zhuǎn) 換為紫外線能量時(shí)具有更低的效率。與實(shí)際接近并支撐這些燈所需的設(shè)備相關(guān)的成本是明 顯的。
如上所述的已知的該類液體處理系統(tǒng)的具體實(shí)施是使得放射源的縱軸(i)與流經(jīng)液 體處理系統(tǒng)的液流的方向平行，或者(ii)與流經(jīng)液體處理系統(tǒng)的液流的方向垂直。此外， 在方案(ii)中，通常將陣列中的燈設(shè)置成使得從液體處理系統(tǒng)的上游端到下游端，下游 放射源直接設(shè)置在上游放射源的后面。
美國(guó)專利5,952,663 [Blatchley， III等(BlatcWey)]教導(dǎo)了一種用于在開放式通道中對(duì)液 體施加紫外線劑量的裝置。特別參考Blatchley中的圖12可知，其顯示了一種包含具有一 系列垂直設(shè)置的燈(14)的模塊的液體處理通道。設(shè)置在該液體通道的側(cè)壁上的是一系列 液體分流器(27)。如圖所示，液體分流器(27)的設(shè)置使得每個(gè)液體分流器(27)相同 程度地向液體處理通道突出。
如下文中更詳細(xì)的說明所述，垂直設(shè)置的燈(14)的設(shè)置比如如Blatchley中所示的設(shè) 置存在的問題之一是液流的無約束表面將從燈(14)的陣列中的上游到下游處于不同的高 度處。這導(dǎo)致如下兩個(gè)問題中的一個(gè)(i)燈的頂端附近的水未受到完全的照射；或者(ii) 一些燈(14)被部分暴露于在被浪費(fèi)的照射中存在的環(huán)境中。
于是，盡管本技術(shù)領(lǐng)域已經(jīng)取得了如上所述的進(jìn)展，但仍有改進(jìn)的空間。具體地說， 希望提供一種使用如上所述的方案(ii)的液體處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)相對(duì)于Blatchley系統(tǒng)消 除或減少了在此討論的兩個(gè)問題中的任一問題的發(fā)生。此外，提供一種采用方案(ii)的 液體處理系統(tǒng)將是高度有益的，該系統(tǒng)允許便利地存放用于放射源組件的清洗系統(tǒng)，以及 為保養(yǎng)及相關(guān)需要而便利地接近該清洗系統(tǒng)及其他附屬的和獨(dú)立的系統(tǒng)(例如，鎮(zhèn)流器、 射線傳感器、液位系統(tǒng)等)，而不影響流經(jīng)液體處理系統(tǒng)的液體的流動(dòng)和/或其在液體處理 系統(tǒng)中的處理。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于消除或減少現(xiàn)有技術(shù)中的至少一個(gè)上述缺陷。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種可消除或減少現(xiàn)有技術(shù)中的至少一個(gè)上述缺陷的新 穎的液體處理系統(tǒng)。
于是， 一方面，本發(fā)明提供一種液體處理系統(tǒng)，其包括用于接收液流的開放式通道；
包括多個(gè)以如下方式定向的長(zhǎng)條形的放射源組件的液體處理區(qū)域(i)各個(gè)放射源組件的縱軸與流經(jīng)液體處理區(qū)域的液流的方向橫向交叉，以及(ii)各個(gè)放射源組件的末端設(shè)置在開放式通道中的液流的預(yù)定最大高度的上方；
設(shè)置在液體處理區(qū)域的上游的第一擋板；
其中第一擋板設(shè)置成使其遠(yuǎn)端低于開放式通道中的液流的預(yù)定最大高度。于是，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)了一種利用垂直設(shè)置的擋板的液體處理系統(tǒng)，該擋板設(shè)置在垂直設(shè)置的放射源組件的陣列的上游和下游。設(shè)置的擋板和開放式通道中垂直設(shè)置的放射源組件導(dǎo)致形成低于液體處理區(qū)域上游的最高預(yù)定液位的液位，并且在優(yōu)選實(shí)施方式中，該液位高于液體處理區(qū)域的下游的液位。該"中間"液位典型地包含在擋板之間的未受到照射并且相對(duì)停滯的一部分液體，即，該部分液體相對(duì)于流經(jīng)液體處理區(qū)域的液體的殘留液是更低動(dòng)力學(xué)的。
此外，本發(fā)明的液體處理系統(tǒng)中的擋板的設(shè)置形成了其中用于放射源組件的清洗系統(tǒng)在閑置時(shí)可"停放"的區(qū)域。在所謂的"停放"位置中，較易為進(jìn)行保養(yǎng)等而接近清洗系統(tǒng)，而不影響流經(jīng)液體處理區(qū)域和液體處理系統(tǒng)的液體的流動(dòng)。這是該液體處理系統(tǒng)的顯著優(yōu)點(diǎn)。
在本發(fā)明的液體處理系統(tǒng)的優(yōu)選實(shí)施方式中，鎮(zhèn)流器(或其它控制系統(tǒng))被設(shè)置在用于停放清洗系統(tǒng)的區(qū)域中。更優(yōu)選地，鎮(zhèn)流器(或其他控制系統(tǒng))被設(shè)置成至少部分地浸沒入液體中從而促進(jìn)鎮(zhèn)流器(或其它控制系統(tǒng))的冷卻，從而容許其以最佳效率運(yùn)行并且允許減小運(yùn)行故障。如進(jìn)一步例舉的實(shí)施方式所述的那樣，尤其優(yōu)選在放射源組件的排列或陣列內(nèi)部設(shè)置鎮(zhèn)流器(或其他控制系統(tǒng))，從而形成液體處理系統(tǒng)的主要組件的緊密設(shè)置。此外，該設(shè)置便于為進(jìn)行保養(yǎng)等而接近鎮(zhèn)流器(或其他控制系統(tǒng))。


下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明，其中相同的附圖標(biāo)記表示同一部件，并且其中
圖1所示為與上述Blatchley教導(dǎo)的液體處理系統(tǒng)類似的液體處理系統(tǒng)的側(cè)視圖2 6各自顯示本發(fā)明的液體處理系統(tǒng)的優(yōu)選實(shí)施方式的側(cè)視圖7 8所示為用于本發(fā)明的液體處理系統(tǒng)的放射源模塊的優(yōu)選實(shí)施方式；以及
圖9所示為本發(fā)明的液體處理系統(tǒng)中的一部分的進(jìn)一步優(yōu)選實(shí)施方式的放大側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式
在說明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式之前，我們將說明現(xiàn)有的液體處理系統(tǒng)比如如上所述的Blatchley教導(dǎo)的液體處理系統(tǒng)。
于是，參考圖1，顯示了一種包括開放式通道15的液體處理系統(tǒng)10，其中液流沿箭頭A的方向水平流動(dòng)通過該開放式通道15。
開放式通道15中設(shè)置了放射源組件的兩個(gè)陣列20a、 20b。由圖中清楚可見，陣列20a包括放射源組件25a，陣列20b包括放射源組件25b。由圖中進(jìn)一步可知，放射源組件25a、25b在開放式通道15中垂直設(shè)置，從而使得每個(gè)放射源組件25a、 25b的一端均始于液流。
每個(gè)放射源組件25a、 25b均包括設(shè)置在防輻射保護(hù)套29中的放射源28。在例舉的實(shí)施方式(為了清晰度)中，放射源28具有相當(dāng)于其全長(zhǎng)的電弧長(zhǎng)度(即，其用于發(fā)射射線的長(zhǎng)度)。
陣列20a、 20b的下游設(shè)置了控制閘門30。控制閘門30是常規(guī)的并且用于控制其上游的液位。
如圖1所示,控制閘門30被設(shè)計(jì)成用于將液位調(diào)整到陣列20a中的最上游的放射源組件25a以及陣列20b中的最上游的放射源組件25b處的最大高度。在圖1中，大略地顯示為線X處的液位。
由于最下游的放射源組件的水位上游較高(由于設(shè)置下游放射源組件25a、 25b導(dǎo)致的壓頭(hydraulic head)損失)，故人們公認(rèn)，為實(shí)現(xiàn)在較高水位處流動(dòng)的液體的充分殺菌，有必要從位于陣列20a、 20b的下游端的放射源組件25a、 25b-這通常顯示為圖1中的區(qū)域B接受被浪費(fèi)的輻射。
如果控制閘門30被設(shè)計(jì)成用于將水位調(diào)整到陣列20a、 20b中的最下游的放射源組件25a、 25b的高度，那么將使未經(jīng)處理的水從陣列20a、 20b中的最上游的放射源組件25a、25b的端面頂部溢出。該類水將不會(huì)受到來自每個(gè)放射源組件25a、25b的射線的完全照射。該情況通常是不可接受的。
參考圖2，顯示了根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的液體處理系統(tǒng)IOO。為便于理解，圖2中最后兩個(gè)數(shù)字與圖1中的最后兩個(gè)數(shù)字相同的附圖標(biāo)記表示相同的元件。于是，液體處理系統(tǒng)10中的控制閘門30等同于如圖2所示的液體處理系統(tǒng)100中的控制閘門130等。
液體處理系統(tǒng)IOO包括放射源組件125a的第一陣列120a和放射源組件125b的第二陣列120b。在液體處理系統(tǒng)100中，在每個(gè)陣列120a和120b的各一側(cè)設(shè)置擋板。于是， 一對(duì)擋板140、 145被設(shè)置于陣列120a上部的各一側(cè)上。此外，陣列120b設(shè)置在擋板145的下游并且擋板150設(shè)置在陣列120b的上部的下游。
優(yōu)選擋板140、 145、 150跨越開放式通道115的寬度。此夕卜，優(yōu)選擋板140、 145、 150的遠(yuǎn)端實(shí)質(zhì)上與每個(gè)放射源組件125a、 125b中的放射源128的電弧長(zhǎng)度的一端對(duì)齊。
優(yōu)選設(shè)置控制閘門130以便將擋板140上游的液體的高度控制到預(yù)定的最高水位。如圖所示，成對(duì)擋板140、 145和145、 150分別與放射源組件125a、 125b—起用于以如下方式降低來自擋板140上游的液位，該方式使得擋板150下游的液位基本上與擋板150的遠(yuǎn)端重合。
由于優(yōu)選每個(gè)放射源組件125a、 125b中的每個(gè)放射源128均具有與擋板140、 145、150的遠(yuǎn)端對(duì)齊的電弧長(zhǎng)度，故流經(jīng)擋板遠(yuǎn)端的液體受到射線的完全照射。
在圖2所示的實(shí)施方式中，擋板140、 145之間的液體的區(qū)域B以及擋板145、 150之間的液體的區(qū)域C保持相對(duì)的停滯。于是，區(qū)域B和C中的液體不能受到射線的完全照射無關(guān)緊要，這是因?yàn)樵谀切﹨^(qū)域中的液體因漩渦的自然形成而保持停滯(緩慢流動(dòng))。擋板140、 145、 150的設(shè)置出人意料地抑制了在(i)如上所述相對(duì)滯留的液體與(ii)流經(jīng)擋板140、 145、 150附近的大量液流之間的液體的顯著交換。
圖3 6所示為對(duì)如圖2所示的液體處理系統(tǒng)100的改進(jìn)。再一次地，為便于理解，在圖3 6中使用的最后兩位數(shù)字與圖2中的附圖標(biāo)記相同的的附圖標(biāo)記用于表示相同的元件。于是，圖3中的液體處理系統(tǒng)200中的控制閘門230等同于如圖2所示的液體處理系統(tǒng)100中的控制閘門130等。
參考圖3，改進(jìn)之處包括用于放射源組件的清洗系統(tǒng)。
更具體地說，陣列220a包括清洗系統(tǒng)235a，陣列220b包括清洗系統(tǒng)235b。優(yōu)選清洗系統(tǒng)235a、235b是Maarschalakerweerd #2專利、美國(guó)專利6,342,188和/或美國(guó)專利6,646,269中的一個(gè)或多個(gè)所教導(dǎo)的類型。
由圖中清楚可見，清洗系統(tǒng)235a、 235b可以"停放"在高于擋板240上游的最高液位的位置上。這便于為保養(yǎng)需要等而接近清洗系統(tǒng)235a、 235b。
參考圖4，改進(jìn)之處涉及包括鎮(zhèn)流器(或其它控制系統(tǒng))，用于操控陣列320a、 320b中的放射源組件。于是，在液體處理系統(tǒng)300中， 一系列的鎮(zhèn)流器326a被用于陣列320a中，并且一系列的鎮(zhèn)流器326b被用于陣列320b中。
參考圖5，改進(jìn)之處涉及在陣列420a中包含輻射傳感器系統(tǒng)427a。參考圖6，改進(jìn)之處涉及在陣列520b中使用輻射傳感器系統(tǒng)527b。
參考圖7，提供了將鎮(zhèn)流器610和清洗系統(tǒng)615與一系列的放射源組件620組合使用的放射源模塊600的例證。放射源組件620由相對(duì)的支撐板625、 630支撐。
圖8所示為與圖7所示的放射源模塊600類似的放射源模塊600a的上部。其改進(jìn)之處是具有輻射傳感器635。
于是，在單個(gè)模塊中，放射源模塊600a組合了清洗系統(tǒng)、鎮(zhèn)流器(用于控制放射源)和輻射傳感器的功能。
圖9所示為在液體處理系統(tǒng)中設(shè)置圖7中的兩個(gè)模塊600。每個(gè)放射源模塊600均介于一對(duì)擋板650之間。
雖然已經(jīng)參考例舉的實(shí)施方式和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了說明，但不能以限定的形式對(duì)該說明進(jìn)行解釋。因此，例舉的實(shí)施方式的各種改進(jìn)以及本發(fā)明的其他實(shí)施方式，參考該說明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說是顯而易見的。例如，雖然例舉的每個(gè)實(shí)施方式均包括設(shè)置在放射源組件的最下游陣列的下游的擋板，但本發(fā)明可涵蓋其中省去該擋板的液體處理系統(tǒng)。因此，附后的權(quán)利要求將包括各種改進(jìn)或?qū)嵤┓绞健?br> 在此引用的所有公開出版物、專利和專利申請(qǐng)，其全部?jī)?nèi)容都引入本文以作參考，在某種程度上就如各個(gè)獨(dú)立的公開出版物、專利以及專利申請(qǐng)被具體地和獨(dú)立地指出從而將其全部?jī)?nèi)容引入以作參考一樣。
權(quán)利要求
1.一種液體處理系統(tǒng)，包括用于接收液流的開放式通道；液體處理區(qū)域，其包括多個(gè)以如下方式定向的長(zhǎng)條形的放射源組件(i)各個(gè)放射源組件的縱軸橫切于液流經(jīng)過液體處理區(qū)域的方向，以及(ii)各個(gè)放射源組件的末端設(shè)置得高于開放式通道中的液流的預(yù)定最大高度；設(shè)置在所述液體處理區(qū)域上游的第一擋板；其中所述第一擋板設(shè)置成使其遠(yuǎn)端低于開放式通道中的液流的預(yù)定最大高度。
2. 如權(quán)利要求1所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第一擋板跨越所述開放式通道。
3. 如權(quán)利要求1 2中任一所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括設(shè)置在所述液 體處理區(qū)域下游的第二擋板，所述第二擋板設(shè)置成其遠(yuǎn)端低于所述開放式通道中的液流的 預(yù)定最大高度。
4. 如權(quán)利要求1所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第一擋板和第二擋板中的每 一個(gè)均跨越所述開放式通道。
5. 如權(quán)利要求1 4中任一所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，所述多個(gè)長(zhǎng)條形放射 源組件包括一系列成排的放射源組件。
6. 如權(quán)利要求5所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括介于所述成排的放射源組 件中的相鄰一對(duì)之間的中間擋板。
7. 如權(quán)利要求5所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括介于所述成排的放射源組 件中的每個(gè)相鄰對(duì)之間的中間擋板。
8. 如權(quán)利要求6 7中任一所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，所述中間擋板跨越所 述開放式通道。
9. 如權(quán)利要求5 8中任一所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，每排放射源組件包括 用于從所述放射源組件的外表面除去污垢材料的清洗系統(tǒng)。
10. 如權(quán)利要求1 4中任一所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，所述多個(gè)放射源組件 包括用于從所述放射源組件的外表面中除去污垢材料的清洗系統(tǒng)。
11. 如權(quán)利要求9所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗系統(tǒng)可在(i)位于相 鄰一對(duì)擋板間的停放位置與(ii)位于所述放射源組件的遠(yuǎn)端附近的延伸位置之間移動(dòng)。
12. 如權(quán)利要求10所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗系統(tǒng)可在(i)位于 第一擋板和第二擋板間的停放位置與(ii)位于所述放射源組件的遠(yuǎn)端附近的延伸位置之 間移動(dòng)。
13. 如權(quán)利要求9 12中任一所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗系統(tǒng)包括 與每個(gè)放射源組件相連的清潔環(huán)。
14. 如權(quán)利要求13所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，所述清潔環(huán)包括機(jī)械刮板元件。
15. 如權(quán)利要求13所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，所述清潔環(huán)包括用于接收洗滌 用組合物的腔室。
16. 如權(quán)利要求1 15中任一所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，所述每個(gè)放射源組 件包括具有電弧長(zhǎng)度的放射源，所述電弧長(zhǎng)度包括最接近的電弧端。
17. 如權(quán)利要求16所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第一擋板和所述第二擋板 的遠(yuǎn)端基本上與所述放射源的所述最接近的電弧端對(duì)齊。
18. 如權(quán)利要求16 17中任一所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，所述放射源設(shè)置在 保護(hù)套中。
19. 如權(quán)利要求18所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，所述保護(hù)套包括封閉端和開口端。
20. 如權(quán)利要求1 19中任一所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，每個(gè)放射源組件包 括紫外線放射源。
21. 如權(quán)利要求1 19中任一所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于，每個(gè)放射源組件均 包括低壓、高輸出的紫外線放射源。
22. —種放射源模塊，包括多個(gè)放射源組件，每個(gè)放射源組件具有近端部和遠(yuǎn)端部； 第一支撐板，用于支撐每個(gè)放射源組件的近端部；以及 第二支撐板，用于支撐每個(gè)放射源組件的遠(yuǎn)端部；其中(i)所述第一支撐板和所述第二支撐板設(shè)置為在它們之間限定出用于每個(gè)放射 源組件的放射線發(fā)射區(qū)；以及(ii)所述第一支撐板包括第一通道，通過該通道，每個(gè)放 射源組件的近端部通到相對(duì)于放射線發(fā)射區(qū)較遠(yuǎn)的區(qū)域。
23. 如權(quán)利要求22所述的放射源模塊，其特征在于，還包括用于每個(gè)放射源組件的電源。.
24. 如權(quán)利要求22所述的放射源模塊，其特征在于，所述電源包括鎮(zhèn)流器。
25. 如權(quán)利要求22 24中任一所述的放射源模塊，其特征在于，所述電源連接到所述 第一支撐板上，使得所述電源設(shè)置在所述較遠(yuǎn)區(qū)域中。
26. 如權(quán)利要求24 25中任一所述的放射源模塊，其特征在于，所述電源連接到所述 第一支撐板上，使得所述電源設(shè)置在所述第一支撐板與所述第二支撐板之間的區(qū)域中。
27. 如權(quán)利要求22 25中任一所述的放射源模塊，其特征在于，所述第一支撐板包括 用于接收傳感器裝置的第二通道。
28. 如權(quán)利要求27所述的放射源模塊，其特征在于，所述傳感器裝置包括輻射傳感器 裝置。
29. 如權(quán)利要求27所述的放射源模塊，其特征在于，所述傳感器裝置包括液位傳感器 裝置。
30. 如權(quán)利要求27 29中任一所述的放射源模塊，其特征在于，所述傳感器裝置在所 述放射源組件的運(yùn)行期間是可更換的。
31. 如權(quán)利要求27 30中任一所述的放射源模塊，其特征在于，包括傳感器裝置。
全文摘要
描述了一種液體處理系統(tǒng)。該液體處理系統(tǒng)包括用于接收液流的開放式通道和液體處理區(qū)域。該液體處理區(qū)域包括多個(gè)以如下方式定向的長(zhǎng)條形的放射源組件(i)每個(gè)放射源組件的縱軸與流經(jīng)液體處理區(qū)域的液流的方向橫向交叉，以及(ii)每個(gè)放射源組件的末端設(shè)置在開放式通道中的液流的預(yù)定最大高度的上方。第一擋板設(shè)置在液體處理區(qū)域的上游。第一擋板設(shè)置成使其遠(yuǎn)端低于開放式通道中的液流的預(yù)定最大高度。在優(yōu)選實(shí)施方式中，本發(fā)明的液體處理系統(tǒng)中形成了其中用于放射源組件的清洗系統(tǒng)在閑置時(shí)可“停放”的區(qū)域。在所謂的“停放”位置中，較易為進(jìn)行保養(yǎng)等而接近清洗系統(tǒng)，而不影響流經(jīng)液體處理區(qū)域和液體處理系統(tǒng)的液體的流動(dòng)。這是該液體處理系統(tǒng)的顯著優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)C02F1/32GK101528611SQ200780030118
公開日2009年9月9日 申請(qǐng)日期2007年8月17日 優(yōu)先權(quán)日2006年8月17日
發(fā)明者彭黑爾·道格拉斯, 特勞本貝格·喬治, 馬·禮錚 申請(qǐng)人:特洛伊科技有限公司