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降膜蒸發(fā)器用兩相分配器的制作方法

文檔序號:11770705閱讀:594來源:國知局
降膜蒸發(fā)器用兩相分配器的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及分配器,具體涉及一種降膜蒸發(fā)器用兩相分配器。



背景技術:

通常的蒸汽壓縮式制冷機組至少包括壓縮機、蒸發(fā)器、冷凝器和膨脹節(jié)流裝置四大基本部件。蒸發(fā)器作為制冷系統(tǒng)的傳熱部件,其設計是影響機組性能的最關鍵部分之一,其中降膜蒸發(fā)器被廣泛地使用,其優(yōu)勢除了換熱性能高外,還可大大減少充注量,且回油效率高,缺點是兩相分配器結構復雜,價格昂貴。



技術實現(xiàn)要素:

為了克服上述缺陷,本發(fā)明提供一種降膜蒸發(fā)器用兩相分配器,該分配器為單層分配,具有結構簡單、制造方便、分配均勻的優(yōu)點,與此同時還可降低降膜換熱器的成本并提高了換熱性能。

本發(fā)明為了解決其技術問題所采用的技術方案是:

一種降膜蒸發(fā)器用兩相分配器,包括大腔室,所述大腔室為由頂板、底板和四周的側板組成的封閉中空結構,所述大腔室包括進液腔室和多個均液腔室,所述進液腔室為由進液頂板、進液底板、分配板以及側板組成的封閉中空結構,所述進液頂板上設有進液孔,所述均液腔室為由分隔板、擋液板、均液板、分配板以及側板組成的封閉中空結構,所述進液頂板和擋液板連接構成頂板,所述進液底板和均液板連接構成底板,所述分配板的兩側分別連接側板,所述分隔板的兩側分別連接分配板和側板,組成每個均液腔室的分配板上至少設有一個分配孔、均液板上設有多個均勻分布的均液孔。

優(yōu)選地,所述進液腔室位于大腔室的正中間,其兩側對稱地分布均液腔室,所述進液腔室由進液頂板、進液底板、兩個分配板以及兩個側板構成。

優(yōu)選地,所述進液腔室位于大腔室的端部,其一側分布均液腔室,所述進液腔室由進液頂板、進液底板、一個分配板以及三個側板構成。

優(yōu)選地,所述大腔室的頂板和底板相平行,所述分配板垂直于底板。

優(yōu)選地,所述分隔板與頂板和分配板皆垂直,所述分隔板之間相互平行。

優(yōu)選地,所述分隔板與頂板垂直,而與分配板非垂直,且形成一均液腔室的兩個分隔板之間形成小于45°的銳角夾角。

優(yōu)選地,所述進液腔室的進液頂板和進液底板相互平行,所述均液腔室的均液板與進液頂板平行,擋液板向進液頂板的斜下方延伸,并與均液板之間形成小于45°的銳角夾角,所述分配板垂直于底板。

優(yōu)選地,所述分隔板與底板和分配板皆垂直,所述分隔板之間相互平行。

優(yōu)選地,所述分隔板與底板垂直,而與分配板非垂直,且形成一均液腔室的兩個分隔板之間形成小于45°的銳角夾角。

優(yōu)選地,還包括與進液頂板連接的進液管,所述進液管將進液孔完全覆蓋,所述進液孔為多個均勻分布的小孔。

本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明整體上為一個單層的、封閉的、中空結構的大腔室,大腔室被分配板和分隔板分割為一個進液腔室和若干個均液腔室。氣液兩相制冷劑在壓力驅動下通過進液頂板上的進液孔進入進液腔室,進而通過進液腔室側邊的分配板上的分配孔分別進入多個相對獨立的均液腔室,完成第一次分配;最后進入均液腔室的制冷劑通過均液腔室底部的均液孔均勻地噴灑在其下部的換熱管表面,完成制冷劑的第二次分配。本發(fā)明利用單層結構而完成了制冷劑的兩次分配,能夠保證制冷劑的均勻分配從而提供了整個換熱器的換熱性能,還能夠減弱制冷劑對換熱管的沖擊,有利于延長換熱管的使用壽命,同時具有結構簡單、成本較低等優(yōu)點。

附圖說明

圖1為本發(fā)明中實施例1的結構示意圖;

圖2為本發(fā)明中實施例1的俯視圖;

圖3為本發(fā)明中實施例1的側視圖;

圖4為本發(fā)明中實施例2的俯視圖;

圖5為本發(fā)明中實施例3的結構示意圖;

圖6為本發(fā)明中實施例4的結構示意圖;

圖中:10-大腔室,11-頂板,12-底板,13-側板,20-進液腔室,21-進液頂板,211-進液孔,22-進液底板,23-分配板,231-分配孔,30-均液腔室,31-分隔板,32-擋液板,33-均液板,331-均液孔,40-進液管。

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例,對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。

如圖1-6所示,一種降膜蒸發(fā)器用兩相分配器,包括大腔室10,所述大腔室10為由頂板11、底板12和四周的側板13組成的封閉中空結構,所述大腔室10包括進液腔室20和多個均液腔室30,所述進液腔室20為由進液頂板21、進液底板22、分配板23以及側板13組成的封閉中空結構,所述進液頂板21上設有進液孔211,所述均液腔室30為由分隔板21、擋液板32、均液板33、分配板23以及側板13組成的封閉中空結構,所述進液頂板21和擋液板32連接構成頂板11,所述進液底板22和均液板33連接構成底板12,所述分配板23的兩側分別連接側板13,所述分隔板31的兩側分別連接分配板23和側板13,組成每個均液腔室30的分配板23上至少設有一個分配孔231、均液板33上設有多個均勻分布的均液孔331。還包括與進液頂板21連接的進液管40,所述進液管40將進液孔211完全覆蓋,所述進液孔211為多個均勻分布的小孔。所述進液孔211、分配孔231和均液孔331可以為圖示中的圓形,也可以采用橢圓形、方形等其他形狀,其孔徑尺寸可以根據(jù)實際情況而定。本發(fā)明整體上為一個封閉的、中空結構的大腔室10,大腔室10被分配板23和分隔板31分割為一個進液腔室20和若干個均液腔室30。所述底板12為一個整體的結構,分配板23將其沿長度方向分割為進液底板和均液板;所述均液板33被分隔板31沿其寬度方向分割為多塊均液板。氣液兩相制冷劑在壓力驅動下通過進液頂板21上的進液孔211進入進液腔室20,在進液孔上連接進液管40,通過進液管的引導來保證制冷劑順暢地注入進液腔室20。在進液腔室側邊的分配板23上設有分配孔231,每個均液腔室30都對應一個或多個分配孔,這樣,進入進液腔室20的制冷劑通過分配孔分別進入多個相對獨立的均液腔室,完成第一次分配。每個均液腔室的底部的均液板33沿均液腔室的橫向方向均勻地分布多個均液孔331,這樣,進入均液腔室的制冷劑通過均液腔室底部的均液孔均勻地噴灑在其下部的換熱管表面,完成制冷劑的第二次分配。本發(fā)明利用單層結構而完成了制冷劑的兩次分配,能夠保證制冷劑的均勻分配從而提高了整個換熱器的換熱性能,還能夠減弱制冷劑對換熱管的沖擊,有利于延長換熱管的使用壽命,同時具有結構簡單、成本較低等優(yōu)點。

實施例1,如圖1-3所示,所述進液腔室20位于大腔室10的正中間,其兩側對稱地分布均液腔室30,所述進液腔室20由進液頂板21、進液底板22、兩個分配板23以及兩個側板13構成,所述大腔室10的頂板11和底板12相平行,所述分配板23垂直于底板12,所述分隔板31與頂板11和分配板23皆垂直,所述分隔板31之間相互平行。進液腔室20位于大腔室10的中部,通過兩個平行的分配板23將大腔室縱向分割為一個進液腔室20以及位于進液腔室兩側區(qū)域,兩側區(qū)域分別通過多個平行的分隔板31沿大腔室的寬度方向分割為多個獨立且均勻分布的均液腔室。

實施例2,如圖4所示,所述分隔板31與頂板垂直,而與分配板23非垂直,且形成一均液腔室30的兩個分隔板31之間形成小于45°的銳角夾角。與實施例1不同的是,分隔板之間不是相互平行的,一均液腔室30的兩個分隔板31之間的距離由分配板23端到側板端逐漸縮小。

實施例3,如圖5所示,所述進液腔室20的進液頂板21和進液底板22相互平行,所述均液腔室的均液板33與進液頂板平行,擋液板32向進液頂板21的斜下方延伸,并與均液板33之間形成小于45°的銳角夾角,所述分配板23垂直于底板12。與實施例1不同的是,擋液板32為傾斜的,從而能夠在水平和垂直的方向對制冷劑起到止檔的作用,同樣此實施例中的分隔板可以采用相互平行的排列方式,也可以形成一定夾角。其中,所述分隔板31與底板12和分配板23皆垂直,所述分隔板31之間相互平行;或者所述分隔板31與底板12垂直,而與分配板23非垂直,且形成一均液腔室30的兩個分隔板31之間形成小于45°的銳角夾角。

實施例4,如圖6所示,所述進液腔室20位于大腔室10的端部,其一側分布均液腔室30,所述進液腔室20由進液頂板21、進液底板22、一個分配板23以及三個側板13構成。進液腔室20位于大腔室10的一端,通過一塊分配板23將大腔室縱向分割為一個進液腔室20以及一側區(qū)域,一側區(qū)域通過多個平行的分隔板31沿大腔室的寬度方向分割為多個獨立且均勻分布的均液腔室。此圖示中的擋液板為傾斜的,當然也可以采用水平布置的方式,即與底板之間相互平行。

本發(fā)明的工作過程是:如圖5所示,氣液兩相制冷劑在壓力驅動下通過進液管40再經(jīng)進液頂板21上的進液孔211進入進液腔室20,然后通過進液腔室20兩側的分配板23上的分配孔231分別進入兩側的多個相對獨立的均液腔室30,完成第一次分配;每個均液腔室的底部的均液板33沿均液腔室的橫向方向均勻地分布多個均液孔331,這樣,進入均液腔室30的制冷劑通過均液腔室底部的均液孔331均勻地噴灑在其下部的換熱管表面,完成制冷劑的第二次分配。

應當指出,對于本領域的普通技術人員來說,在不脫離本發(fā)明構思的前提下,還可以做出若干變形和改進,這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。因此,本發(fā)明專利的保護范圍應以所附權利要求為準。

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