真空爐的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及熱處理領(lǐng)域，尤其是一種真空爐。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)的一種真空爐，包括爐架，設(shè)置在爐架上的爐體，用于將所述的爐體抽真空的真空栗，所述的爐體上開(kāi)設(shè)有通氣孔，通常所述的爐體上滑動(dòng)地設(shè)置有將所述的通氣孔堵住的堵塊，通過(guò)電磁閥的磁力推動(dòng)所述的堵塊堵住通氣孔，該真空爐的爐體包括加熱裝置、加熱腔，加熱腔與加熱裝置為一體的，熱處理后工件降溫緩慢。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種生產(chǎn)效率高且熱處理后散熱快的真空爐。
[0004]為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型所設(shè)計(jì)的一種真空爐，它包括機(jī)架、儲(chǔ)物室、加熱室、真空栗、控制柜；所述的儲(chǔ)物室設(shè)置在機(jī)架的一端，該儲(chǔ)物室為開(kāi)口向外的腔體，在腔體的開(kāi)口處設(shè)有密封門(mén)；所述的真空栗與儲(chǔ)物室連接；所述的加熱室通過(guò)橫移組件設(shè)置在機(jī)架上，該加熱室為開(kāi)口向外的腔體，在腔體的內(nèi)部設(shè)有加熱裝置，加熱室的腔體與儲(chǔ)物室的腔體的開(kāi)口朝向相同，儲(chǔ)物室可置于加熱室的腔體內(nèi)；所述的控制柜與加熱室連接。
[0005]為了便于加熱室與儲(chǔ)物室的配合，所述的儲(chǔ)物室與真空栗的連接口設(shè)置在儲(chǔ)物室腔體的側(cè)壁上，且距離腔體開(kāi)口 10_20cm。
[0006]為了便于加熱室的移動(dòng)，所述的橫移組件包括導(dǎo)軌、導(dǎo)輪、電機(jī)，所述的導(dǎo)軌設(shè)置在機(jī)架上，導(dǎo)輪與導(dǎo)軌配合，導(dǎo)輪與加熱室連接，電機(jī)設(shè)置在加熱室上，且電機(jī)與導(dǎo)輪連接；所述的橫移組件也可以包括滑軌、滑塊、齒條、電機(jī)，所述的滑軌設(shè)置在機(jī)架上，滑塊與滑軌配合，滑塊與加熱室連接，所述的齒條設(shè)置在機(jī)架上，所述的電機(jī)設(shè)置在加熱室上，在電機(jī)的輸出軸上設(shè)有齒輪，齒輪與齒條配合。
[0007]為了便于加熱室的加熱，所述的加熱室內(nèi)部的加熱裝置為電阻絲。
[0008]本實(shí)用新型的真空爐，采用加熱室與儲(chǔ)物室分離的方式，在將工件加入儲(chǔ)物室時(shí)便可對(duì)加熱室進(jìn)行預(yù)熱，同時(shí)，完成加熱后，可將儲(chǔ)物室移出加熱室，提高降溫效率。
[0009]因此，它具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)合理和生產(chǎn)效率高等特點(diǎn)。
【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的描述。
[0012]如圖1所示，本實(shí)施例描述的一種真空爐，它包括機(jī)架1、儲(chǔ)物室2、加熱室3、真空栗4、控制柜5 ;所述的儲(chǔ)物室2設(shè)置在機(jī)架I的一端，該儲(chǔ)物室2為半開(kāi)式腔體，在腔體的開(kāi)口處設(shè)有密封門(mén)6 ;所述的真空栗4與儲(chǔ)物室2連接；所述的加熱室3通過(guò)橫移組件設(shè)置在機(jī)架I上，該加熱室3為開(kāi)口向外的腔體，在腔體的內(nèi)壁上設(shè)有電阻絲，加熱室3的腔體與儲(chǔ)物室2的腔體的開(kāi)口朝向相同，儲(chǔ)物室2可置于加熱室3的腔體內(nèi)；所述的橫移組件包括導(dǎo)軌7、導(dǎo)輪8、電機(jī)，所述的導(dǎo)軌7設(shè)置在機(jī)架I上，導(dǎo)輪8與導(dǎo)軌7配合，導(dǎo)輪8設(shè)置在加熱室3上，電機(jī)設(shè)置在加熱室3上，且電機(jī)與導(dǎo)輪8連接；述的控制柜5與加熱室3連接。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種真空爐，其特征在于:它包括機(jī)架、儲(chǔ)物室、加熱室、真空栗、控制柜；所述的儲(chǔ)物室設(shè)置在機(jī)架的一端，該儲(chǔ)物室為開(kāi)口向外的腔體，在腔體的開(kāi)口處設(shè)有密封門(mén)；所述的真空栗與儲(chǔ)物室連接；所述的加熱室通過(guò)橫移組件設(shè)置在機(jī)架上，該加熱室為開(kāi)口向外的腔體，在腔體的內(nèi)部設(shè)有加熱裝置，加熱室的腔體與儲(chǔ)物室的腔體的開(kāi)口朝向相同，儲(chǔ)物室可置于加熱室的腔體內(nèi)；所述的控制柜與加熱室連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空爐，其特征在于:所述的儲(chǔ)物室與真空栗的連接口設(shè)置在儲(chǔ)物室腔體的側(cè)壁上，且距離腔體開(kāi)口 10-20cm。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空爐，其特征在于:所述的橫移組件包括導(dǎo)軌、導(dǎo)輪、電機(jī)，所述的導(dǎo)軌設(shè)置在機(jī)架上，導(dǎo)輪與導(dǎo)軌配合，導(dǎo)輪與加熱室連接，電機(jī)設(shè)置在加熱室上，且電機(jī)與導(dǎo)輪連接。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空爐，其特征在于:所述的橫移組件包括滑軌、滑塊、齒條、電機(jī)，所述的滑軌設(shè)置在機(jī)架上，滑塊與滑軌配合，滑塊與加熱室連接，所述的齒條設(shè)置在機(jī)架上，所述的電機(jī)設(shè)置在加熱室上，在電機(jī)的輸出軸上設(shè)有齒輪，齒輪與齒條配合。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空爐，其特征在于:所述的加熱室內(nèi)壁上的加熱裝置為電阻絲。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空爐；本實(shí)用新型的目的是提供一種生產(chǎn)效率高且熱處理后散熱快的真空爐；它包括機(jī)架、儲(chǔ)物室、加熱室、真空泵、控制柜；所述的儲(chǔ)物室設(shè)置在機(jī)架的一端，該儲(chǔ)物室為開(kāi)口向外的腔體，在腔體的開(kāi)口處設(shè)有密封門(mén)；所述的真空泵與儲(chǔ)物室連接；所述的加熱室通過(guò)橫移組件設(shè)置在機(jī)架上，該加熱室為開(kāi)口向外的腔體，在腔體的內(nèi)部設(shè)有加熱裝置，加熱室的腔體與儲(chǔ)物室的腔體的開(kāi)口朝向相同，儲(chǔ)物室可置于加熱室的腔體內(nèi)；所述的控制柜與加熱室連接；它具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)合理和使用方便等特點(diǎn)。
【IPC分類(lèi)】F27B5/05
【公開(kāi)號(hào)】CN204757650
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520524853
【發(fā)明人】張麗, 陳志元
【申請(qǐng)人】浙江恩鴻電子有限公司
【公開(kāi)日】2015年11月11日
【申請(qǐng)日】2015年7月20日